CN219873457U - 一种硅片同步输送追料装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种硅片同步输送追料装置，包括输送线，输送线至少为两条，每条输送线均包括多个输送单元，多个输送单元沿同一直线顺次连接，每个输送单元上均设置有位置传感器，且每个输送单元分别设置有独立的驱动机构。通过将两条输送线设置成多个带有位置传感器的输送单元，当多张硅片分别在两条输送线上同时传输有先后位置落差时，硅片位置滞后的输送线在定长距离以较缓速度改变来追赶至另一输送线上硅片相同位置，然后两条输送线再以同速运转，通过多个输送单元多次进行位置补偿追料，实现硅片的位置同步。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅片分选装置技术领域，尤其涉及一种硅片同步输送追料装置。
背景技术
硅片作为重要的工业原材料，被广泛用于太阳能电池、电路板等产品的生产制造中。为保证由硅片制造的产品的质量，需要对硅片进行检测和分选。硅片分选机能够实现对硅片进行厚度、TTV、线痕、电阻率、尺寸、脏污、崩边、隐裂等项目的测量和检测，并根据分选菜单，自动将硅片按照质量等级要求分选到不同的盒子内。硅片在不同工位之间的传输需要借助传输机构辅助送料，现有的硅片传输机构主要包括对称设置的皮带轮副，两皮带轮副通过同步的运动将放置在其上的硅片输送至所需的工位。
为了提高硅片分选的效率，市面上出现了双流线的硅片分选装置。然而，在实际运行时，由于导正、剔除等操作易造成两条流线上硅片位置存在先后落差，影响后续工序硅片的量测。因此，亟需一种能够实现硅片同步输送的追料装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种硅片同步输送追料装置，以解决背景技术中提到的技术问题，本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：
一种硅片同步输送追料装置，包括输送线，输送线至少为两条，每条输送线均包括多个输送单元，多个输送单元沿同一直线顺次连接，每个输送单元上均设置有位置传感器，且每个输送单元分别设置有独立的驱动机构。
进一步地，输送单元包括输送支架和皮带轮副，输送支架包括立柱和横梁，横梁的中间安装在立柱的顶部，驱动机构安装在立柱上，两组皮带轮辐对称安装在横梁长边的两侧，驱动机构与皮带轮副传动连接。
进一步地，立柱的下侧转动安装有驱动轴，驱动轴水平设置，驱动轴的两端固定有驱动轮，皮带轮副与驱动轮连接；驱动机构包括驱动电机，驱动电机通过电机支架固定在立柱的一侧，驱动电机的输出轴通过连轴器与驱动轴连接。
进一步地，横梁的两端开设有凹槽，位置传感器通过安装支架安装在凹槽内。
进一步地，凹槽内开设有螺纹孔，安装支架上开设有长条形槽孔，长条形槽孔的位置与螺纹孔匹配。
进一步地，位置传感器为光电传感器或电容传感器。
进一步地，输送单元上设置有位置标示。
本申请实施例提供的技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
通过将两条输送线设置成多个带有位置传感器的输送单元，当多张硅片分别在两条输送线上同时传输有先后位置落差时，硅片位置滞后的输送线在定长距离以较缓速度改变来追赶至另一输送线上硅片相同位置，然后两条输送线再以同速运转，通过多个输送单元多次进行位置补偿追料，实现硅片的位置同步。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。
图1为本申请实施例结构示意图；
图2为本申请实施例输送单元结构示意图；
图3为本申请实施例输送单元主视图；
图4为本申请实施例位置传感器安装示意图。
附图中标识：1000、输送线；1100、输送单元；1110、底座；1120、立柱；1130、横梁；1131、凹槽；1132、螺纹孔；1140、安装支架；1141、长条形槽孔；1142、位置标示；1150、位置传感器；1160、皮带轮副；1170、电机支架；1180、驱动机构；1190、连轴器。
具体实施方式
为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图和具体实施方式对上述技术方案进行详细的说明，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本实用新型及其应用或使用的任何限制。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图1-4所示的一种硅片同步输送追料装置，包括两条输送线1000，两条输送线1000平行且长度相等，每条输送线1000均由四个输送单元1100沿同一直线首尾顺次连接而成，每个输送单元1100均由独立的驱动机构1180驱动，且每个输送单元1100上均设置有位置传感器1150。
具体来说，如图2、图3所示，输送单元1100包括输送支架和皮带轮副1160，输送支架包括底座1110、立柱1120、横梁1130和电机支架1170。底座1110为矩形块体，底座1110通过螺栓固定在分选设备的工作平台上；立柱1120为空心方管结构，立柱1120竖直安装在底座1的左侧；电机支架1170竖直安装在底座1110的右侧。横梁1130为矩形板块，横梁1130的中间通过螺栓固定安装在立柱1120的顶部，且横梁1130的长边指向前后方向。
如图2、图3所示，两组皮带轮副1160平行且对称地安装在横梁1130长边的两侧。立柱1120的下侧通过轴承转动安装有驱动轴，驱动轴的两端固定安装有驱动轮，驱动轮与皮带轮副1160传动连接。驱动机构1180为驱动电机，驱动机构1180安装在电机支架1170的右侧，驱动机构1180的输出轴通过连轴器1190与驱动轴连接，驱动电机1180带动驱动轴旋转，进而带动两个皮带轮副1160同步运行。优选的，驱动电机为步进电机或伺服电机。
如图3、图4所示，横梁1130上侧的两端分别开设有矩形凹槽1131，凹槽1131内开设有两个螺纹孔1132，凹槽1131的一边与横梁1130的端部连通。凹槽1131内安装有安装支架1140，安装支架1140靠近横梁1130内侧的一端开设有两个长条形槽孔1141，长条形槽孔1141沿安装支架1133的长度延伸，且两个长条形槽孔1141的位置与螺纹孔1132的位置一一对应。安装支架1140通过螺栓可调节地安装在凹槽1131内，位置传感器1150固定在安装支架1140远离横梁1130的一端，使得位置传感器1150的位置可以调节。其中，安装支架1140上还贴附有位置标示1142，以更直观地对位置传感器1150的位置进行调节。优选的，位置传感器1150为光电传感器或电容传感器。
本申请实施例的工作原理为：
利用位置补偿功能算法进行轴位置同步。当多张硅片分别在两条输送线上同时传输有先后位置落差时，硅片位置滞后的输送线在定长距离以较缓速度改变来追赶至另一输送线上硅片相同位置，后两条输送线再以同速运转，通过三段及三段以上输送单元，多次进行位置补偿追料，实现硅片的位置同步。
上述本申请实施例中的技术方案，至少具有如下的技术效果或优点：
通过将两条输送线设置成多个带有位置传感器的输送单元，当多张硅片分别在两条输送线上同时传输有先后位置落差时，硅片位置滞后的输送线在定长距离以较缓速度改变来追赶至另一输送线上硅片相同位置，然后两条输送线再以同速运转，通过多个输送单元多次进行位置补偿追料，实现硅片的位置同步。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制：方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种硅片同步输送追料装置，其特征在于，包括输送线，所述输送线至少为两条，每条所述输送线均包括多个输送单元，多个所述输送单元沿同一直线顺次连接，每个所述输送单元上均设置有位置传感器，且每个所述输送单元分别设置有独立的驱动机构。
2.根据权利要求1所述的一种硅片同步输送追料装置，其特征在于，所述输送单元包括输送支架和皮带轮副，所述输送支架包括立柱和横梁，所述横梁的中间安装在所述立柱的顶部，所述驱动机构安装在所述立柱上，两组所述皮带轮辐对称安装在所述横梁长边的两侧，所述驱动机构与所述皮带轮副传动连接。
3.根据权利要求2所述的一种硅片同步输送追料装置，其特征在于，所述立柱的下侧转动安装有驱动轴，所述驱动轴水平设置，所述驱动轴的两端固定有驱动轮，所述皮带轮副与所述驱动轮连接；所述驱动机构包括驱动电机，所述驱动电机通过电机支架固定在所述立柱的一侧，所述驱动电机的输出轴通过连轴器与所述驱动轴连接。
4.根据权利要求2所述的一种硅片同步输送追料装置，其特征在于，所述横梁的两端开设有凹槽，所述位置传感器通过安装支架安装在所述凹槽内。
5.根据权利要求4所述的一种硅片同步输送追料装置，其特征在于，所述凹槽内开设有螺纹孔，所述安装支架上开设有长条形槽孔，所述长条形槽孔的位置与所述螺纹孔匹配。
6.根据权利要求1所述的一种硅片同步输送追料装置，其特征在于，所述位置传感器为光电传感器或电容传感器。
7.根据权利要求1所述的一种硅片同步输送追料装置，其特征在于，所述输送单元上设置有位置标示。
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