CN219615503U - 一种立式反应釜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种立式反应釜,包括反应釜本体,属于反应釜技术领域,反应釜本体的顶部安装有顶盖,在顶盖的顶面安装有搅拌电机,搅拌电机的输出轴贯穿至顶盖,且连接有搅拌轴,顶盖的侧面贯穿有进料管,反应釜本体的周侧下部贯穿连接有排料管,反应釜本体的底端安装有支撑底座,且进料管和排料管内部均具有阀门,顶盖的内部设有旋转撒料盘,旋转撒料盘与搅拌轴连接,旋转撒料盘的顶部设有圆锥台盘,在圆锥台盘的外表面环形阵列安装有四个挡料条,圆锥台盘能够将下落的原料击打出去。该立式反应釜,原料受到旋转力以及离心力均匀的从旋转撒料盘上下落,从而提高其下料的均匀性,较少原料的下料堆积。
Description
技术领域
本实用新型属于反应釜技术领域,具体涉及一种立式反应釜。
背景技术
反应釜一般由釜体、驱动装置、加热装置、冷却装置、密封装置等组成,广泛应用于石油、化工、农药、医药、食品、橡胶等各领域,用来完成各种混合工艺,为了达到均匀混合各种物料的目的,工业上对反应釜进行了各种改进。
反应釜对原料进行反应时,原料普遍直接输送至反应釜中,此时由于不具备均匀下料结构,导致原料下料时,在反应釜中容易堆积在一块,形成一个原料堆,非常不利于反应釜的加工反应。
经检索,如现有中国专利号为:CN211159730U的一种立式循环反应釜,其“包括釜体,所述釜体的顶部固定连接有输出轴朝下的驱动电机,所述驱动电机的输出轴固定连接有转轴,所述转轴的外圈沿其高度方向阵列设有多个搅拌组件,所述转轴的底端固定连接有第一锥齿轮,所述釜体的底部内壁焊接有两个支撑杆,所述支撑杆的顶端固定连接有轴承”。
可知,其以上所引证的专利文献也存在同样的问题,由于不具备均匀下料结构,导致原料下料时,在反应釜中容易堆积在一块,形成一个原料堆,非常不利于反应釜的加工反应。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种立式反应釜,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种立式反应釜,包括反应釜本体,所述反应釜本体的顶部安装有顶盖,在所述顶盖的顶面安装有搅拌电机,所述搅拌电机的输出轴贯穿至顶盖,且连接有搅拌轴,所述顶盖的侧面贯穿有进料管,所述顶盖的内部设有旋转撒料盘,所述旋转撒料盘与搅拌轴连接,所述搅拌轴的周侧安装有用于粉碎物料的缠绕式圆盘刀片组件,所述缠绕式圆盘刀片组件下方且位于搅拌轴周侧设有搅拌叶,所述搅拌轴周侧还安装有用于刮除反应釜本体内侧壁物料的刮料组件。
优选的,所述刮料组件包括对称安装在搅拌轴上下两端的支撑杆件以及固定安装在两根支撑杆件一端之间的刮料板件。
优选的,所述刮料板件为三角刮料板件,所述三角刮料板件的锋利端与反应釜本体的内侧壁摩擦接触,两根所述支撑杆件远离三角刮料板件的一端均焊接有固定套环,所述固定套环与搅拌轴固定连接。
优选的,所述旋转撒料盘的顶部设有圆锥台盘,在所述圆锥台盘的外表面环形阵列安装有四个挡料条。
优选的,所述搅拌轴的底端转动连接与过滤网盘件,所述过滤网盘件与反应釜本体内侧壁固定连接。
优选的,所述过滤网盘件的中间位置固定连接有固定圆盘件,所述固定圆盘件中心嵌设有密封轴承,所述密封轴承的内圈与搅拌轴底端过盈配合。
优选的,所述反应釜本体的周侧下部贯穿连接有排料管,所述反应釜本体的底端安装有支撑底座。
本实用新型的技术效果和优点:
该立式反应釜,搅拌电机带动搅拌轴旋转,通过搅拌轴带动旋转撒料盘在顶盖内部旋转,从而将从进料管输入的原料下落至旋转过程中的旋转撒料盘上,从而使得原料受到旋转力以及离心力均匀的从旋转撒料盘上下落,从而提高其下料的均匀性,较少原料的下料堆积,同时搅拌轴带动缠绕式圆盘刀片转动,使得缠绕式圆盘刀片能够对下落的原料进行粉碎搅拌,此外,还能够通过搅拌轴带动刮料组件转动,对反应釜本体内侧壁上粘接的原料进行刮除,从而提高反应釜搅拌的效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的搅拌轴、缠绕式圆盘刀片组件以及搅拌叶的连接结构示意图;
图3为本实用新型的顶盖和旋转撒料盘的拆分结构示意图;
图4为本实用新型的过滤网盘件的结构示意图;
图5为本实用新型的刮料板件和支撑杆件的连接结构示意图。
图中:1、反应釜本体;2、顶盖;3、支撑底座;4、搅拌电机;5、进料管;6、排料管;7、搅拌轴;8、缠绕式圆盘刀片组件;9、搅拌叶;10、刮料板件;11、支撑杆件;12、过滤网盘件;13、旋转撒料盘;14、圆锥台盘;15、挡料条;16、固定圆盘件;17、密封轴承;18、固定套环;19、三角刮料板件。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
本实用新型提供了如图1-图5所示的一种立式反应釜,包括反应釜本体1,反应釜本体1的顶部安装有顶盖2,在顶盖2的顶面安装有搅拌电机4,搅拌电机4的输出轴贯穿至顶盖2,且连接有搅拌轴7,顶盖2的侧面贯穿有进料管5,反应釜本体1的周侧下部贯穿连接有排料管6,反应釜本体1的底端安装有支撑底座3,且进料管5和排料管6内部均具有阀门;
顶盖2的内部设有旋转撒料盘13,旋转撒料盘13与搅拌轴7连接,旋转撒料盘13的顶部设有圆锥台盘14,在圆锥台盘14的外表面环形阵列安装有四个挡料条15;
圆锥台盘14能够将下落的原料击打出去,同时能够通过旋转力和离心力将原料均匀洒落。
搅拌轴7的周侧安装有用于粉碎物料的缠绕式圆盘刀片组件8,缠绕式圆盘刀片组件8有多个环形刀片交叉连接在一起的呈球形状的搅拌结构,缠绕式圆盘刀片组件8下方且位于搅拌轴7周侧设有搅拌叶9,搅拌轴7周侧还安装有用于刮除反应釜本体1内侧壁物料的刮料组件。
刮料组件包括对称安装在搅拌轴7上下两端的支撑杆件11以及固定安装在两根支撑杆件11一端之间的刮料板件10,刮料板件10为三角刮料板件19,三角刮料板件19的锋利端与反应釜本体1的内侧壁摩擦接触,两根支撑杆件11远离三角刮料板件19的一端均焊接有固定套环18,固定套环18与搅拌轴7固定连接。
搅拌轴7的底端转动连接与过滤网盘件12,过滤网盘件12与反应釜本体1内侧壁固定连接,过滤网盘件12的中间位置固定连接有固定圆盘件16,固定圆盘件16中心嵌设有密封轴承17,密封轴承17的内圈与搅拌轴7底端过盈配合。
工作原理:
该立式反应釜,原料从进料管5进入反应釜本体1中,当原料下料至旋转状态下的旋转撒料盘13,通过圆锥台盘14,将原料击打出去,同时能够在四个挡料条15的作用下,从而使得原料始终能够均匀得洒落,搅拌电机4带动搅拌轴7和缠绕式圆盘刀片组件8转动,以及带动搅拌叶9转动,对其原料进行搅拌,同时缠绕式圆盘刀片组件8能够对原料进行粉碎;
搅拌轴7在密封轴承17的作用下转动,同时过滤网盘件12对搅拌反应后的原料进行过滤;
而搅拌轴7带动支撑杆件11和刮料板件10转动,通过三角刮料板件19锋利的一端对反应釜本体1内侧壁上粘接的原料进行刮除。
以上所述,仅为实用新型较佳的具体实施方式,但实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在实用新型揭露的技术范围内,根据实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种立式反应釜,包括反应釜本体(1),其特征在于:所述反应釜本体(1)的顶部安装有顶盖(2),在所述顶盖(2)的顶面安装有搅拌电机(4),所述搅拌电机(4)的输出轴贯穿至顶盖(2),且连接有搅拌轴(7),所述顶盖(2)的侧面贯穿有进料管(5),所述顶盖(2)的内部设有旋转撒料盘(13),所述旋转撒料盘(13)与搅拌轴(7)连接,所述搅拌轴(7)的周侧安装有用于粉碎物料的缠绕式圆盘刀片组件(8),所述缠绕式圆盘刀片组件(8)下方且位于搅拌轴(7)周侧设有搅拌叶(9),所述搅拌轴(7)周侧还安装有用于刮除反应釜本体(1)内侧壁物料的刮料组件。
2.根据权利要求1所述的一种立式反应釜,其特征在于:所述刮料组件包括对称安装在搅拌轴(7)上下两端的支撑杆件(11)以及固定安装在两根支撑杆件(11)一端之间的刮料板件(10)。
3.根据权利要求2所述的一种立式反应釜,其特征在于:所述刮料板件(10)为三角刮料板件(19),所述三角刮料板件(19)的锋利端与反应釜本体(1)的内侧壁摩擦接触,两根所述支撑杆件(11)远离三角刮料板件(19)的一端均焊接有固定套环(18),所述固定套环(18)与搅拌轴(7)固定连接。
4.根据权利要求3所述的一种立式反应釜,其特征在于:所述旋转撒料盘(13)的顶部设有圆锥台盘(14),在所述圆锥台盘(14)的外表面环形阵列安装有四个挡料条(15)。
5.根据权利要求4所述的一种立式反应釜,其特征在于:所述搅拌轴(7)的底端转动连接与过滤网盘件(12),所述过滤网盘件(12)与反应釜本体(1)内侧壁固定连接。
6.根据权利要求5所述的一种立式反应釜,其特征在于:所述过滤网盘件(12)的中间位置固定连接有固定圆盘件(16),所述固定圆盘件(16)中心嵌设有密封轴承(17),所述密封轴承(17)的内圈与搅拌轴(7)底端过盈配合。
7.根据权利要求1所述的一种立式反应釜,其特征在于:所述反应釜本体(1)的周侧下部贯穿连接有排料管(6),所述反应釜本体(1)的底端安装有支撑底座(3)。
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CN219615503U true CN219615503U (zh) | 2023-09-01 |
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2023
- 2023-03-15 CN CN202320499312.6U patent/CN219615503U/zh active Active
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