CN219599131U - 一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，包括固定组件和刷头组件；所述固定组件包括固定座和支撑板，所述固定座用于和抛光机台连接；所述支撑板的一端与所述固定座连接且连接位置可调节，另外一端开设有第一轴孔；所述刷头组件包括毛刷和毛刷轴，所述毛刷的中心开设有第二轴孔，所述毛刷轴的上、下两端分别穿过所述第一轴孔、所述第二轴孔将所述毛刷固定于所述支撑板上。本次申请通过对抛布清洁装置的进一步的改进，使清洁装置的毛刷使用寿命大大延长，节省了成本，同时也减少了更换毛刷及异常停机的次数，提高了机台的稳定性及稼动率，因此本申请所提供的清洁装置在半导体硅片加工制造中具有较好的实用价值和技术改进意义。
Description
技术领域
本实用新型属于硅片生产技术领域，具体涉及一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置。
背景技术
在半导体器件的生产过程中，硅片抛光是决定硅片表面品质的关键工艺，抛光的主要目的在于改善前道工序加工过程中留下的各种缺陷，同时使晶圆表面足够平整。一般硅片抛光可分为多片抛光和单片抛光，其中单片抛光技术可解决多片抛光时存在硅片间厚度差异的问题，进而改善产品质量。单片抛光的主要流程分为取片、涂腊、贴片、抛光、卸片等，其中抛光就是硅片在抛光布及抛光浆的共同作用下将硅片表面的缺陷去除的过程，其具体步骤是手臂取到硅片后将硅片放至抛布上，然后抛光浆管路开始在抛布上喷洒抛光浆，同时抛布开始随大盘一起转动使抛布在抛光浆的作用下持续的对硅片进行抛光。
实际生产加工时，在抛布对硅片抛光过程中会产生很多的残留物，其中包括抛布碎屑、抛光浆结晶、硅片颗粒等，这些残留会对硅片的抛光品质产生影响导致各种抛光不良，需要清洁装置将残留物及时的清理干净，清洁装置的具体动作流程为：抛布在抛光过程中一直处于旋转状态，而清洁装置的毛刷便会被抛布带动一起旋转，在毛刷旋转的过程中将抛光残留物清洁干净，同时抛布经过毛刷持续的修整会使其抛光效果更好。但是现有的清洁装置在使用一段时间后便会出现毛刷轴被磨损或断裂导致无法使用的问题，由于毛刷与轴为一体结构需要更换新毛刷，导致成本增加，同时由于毛刷轴断掉会导致抛布上的残留物无法及时清理而使产品不良，还会出现毛刷与手臂或大盘干涉导致机构损坏的重大异常，所以需要经常对其进行检查或停机更换，影响生产的正常进行。
因此对此清洁装置进行进一步的改进，使毛刷可以长时间正常使用，对于生产成本的降低和抛光生产的稳定性还有提高硅片的品质具有重要的技术价值。
实用新型内容
本实用新型的目的就在于为解决现有技术的不足而提供一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置。
本实用新型的目的是以下述技术方案实现的：
一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，包括固定组件和刷头组件；
所述固定组件包括固定座和支撑板，所述固定座用于和抛光机台连接；所述支撑板的一端与所述固定座连接且连接位置可调节，另外一端开设有第一轴孔；
所述刷头组件包括毛刷和毛刷轴，所述毛刷的中心开设有第二轴孔，所述毛刷轴的上、下两端分别穿过所述第一轴孔、所述第二轴孔将所述毛刷固定于所述支撑板上。
优选的，所述固定座为弧形块。
优选的，所述支撑板呈T型，包括横板和竖板，所述横板的形状与所述固定座相适应，所述第一轴孔位于所述竖板的端部。
优选的，所述固定座的后侧设有用于与所述抛光机台连接的螺纹孔。
优选的，所述横板上设有长条形调节孔，所述固定座上设有连接孔，通过固定螺丝穿过所述长条形调节孔和所述连接孔将所述横板与所述固定座连接固定，并通过调节所述固定螺丝于所述长条形调节孔的位置，调节所述横板与所述固定座的连接位置。
优选的，所述第一轴孔内设有轴套，所述毛刷轴的上端位于所述轴套内。
优选的，所述毛刷轴的上端与所述轴套为间隙配合。
优选的，所述轴套为耐磨塑料材质。
优选的，所述毛刷轴的下端与所述第二轴孔之间设有密封圈。
优选的，所述毛刷包括刷体和位于所述刷体底部的多排刷毛，所述刷体上开设有多个减重孔。
本次申请通过对抛布清洁装置的进一步的改进，使清洁装置的毛刷使用寿命大大延长，节省了成本，同时也减少了更换毛刷及异常停机的次数，提高了机台的稳定性及稼动率，因此本申请所提供的清洁装置在半导体硅片加工制造中具有较好的实用价值和技术改进意义。
附图说明
图1是本申请提供的清洁装置的整体结构示意图；
图2是图1中清洁装置的分解结构示意图；
图3是图1中清洁装置的底部结构示意图；
图4是图1中清洁装置的毛刷轴结构示意图。
其中，1-毛刷；2-支撑板；3-固定座；4-固定螺丝；5-长条形调节孔；6-轴套；7-毛刷轴；8-密封圈；9-螺纹孔；10-刷体；11-刷毛；12-减重孔；13-连接孔。
具体实施方式
本实用新型提供了一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，如图1～4所示，包括固定组件和刷头组件，其中固定组件主要用于将清洁装置固定在抛光机台上，刷头组件主要用于将抛布上的异物清理干净。
固定组件包括固定座3和支撑板2，固定座用于与抛光机台连接，同时还用于将支撑板2垫起一个高度便于毛刷1安装。优选固定座后侧设有多个螺纹孔9，通过螺丝可将固定座安装固定在抛光机台上。由于抛光用大盘一般为圆形，大盘外侧为大盘护栏，护栏也为圆形，清洁装置通过固定座固定在护栏内侧，因此固定座优选为弧形塑料块，与护栏形状相适应。
支撑板2用于将刷头组件固定于固定座上，保持毛刷1的位置。支撑板优选为T型，包括横板和竖板，横板与固定座3连接且连接位置可调节，其中横板的形状与固定座相适应，也为弧形。由于可调节横板与固定座的连接位置，因此可以在使用过程中很方便地调节支撑板2的伸出长度，从而达到调节毛刷1在抛布上的位置，方便了使用。其中的连接位置可调节可采用如下的结构：横板上设有长条形调节孔5，固定座上设有连接孔13，通过固定螺丝4穿过长条形调节孔和连接孔将横板与固定座连接固定，并通过调节固定螺丝于长条形调节孔的位置，可调节横板与固定座的连接位置。
竖板的端部开设有第一轴孔。刷头组件包括毛刷1和毛刷轴7，毛刷1的中心开设有第二轴孔，毛刷轴7的上、下两端分别穿过第一轴孔、第二轴孔将毛刷固定于支撑板2上。本申请将现有技术中的毛刷与轴一体结构改进为毛刷1与毛刷轴7装配的结构，使得毛刷轴7因磨损无法使用时可以直接更换新的毛刷轴7即可，毛刷1可以继续使用，有效节省成本。
本次申请通过对抛布清洁装置的进一步的改进，使清洁装置的毛刷使用寿命大大延长，节省了成本，同时也减少了更换毛刷及异常停机的次数，提高了机台的稳定性及稼动率，因此本申请所提供的清洁装置在半导体硅片加工制造中具有较好的实用价值和技术改进意义。
优选的第一轴孔内设有用于安装毛刷轴的轴套6，毛刷轴7的上端位于轴套内，由于轴套6一般为耐磨塑料材质，可以保证毛刷轴7在长时间转动后不会出现磨损的问题。毛刷轴的上端与轴套为间隙配合，可保证毛刷轴7正常旋转。为了方便与轴套连接，毛刷轴的上端直径相比下端较小，但是该上端直径也可适当加大，使其更耐磨损，可以延长毛刷轴7的使用寿命。
优选的，毛刷轴7的下端与第二轴孔之间设有密封圈8，密封圈8的作用为使毛刷1的第二轴孔与毛刷轴7紧密装配，防止毛刷1旋转过程中毛刷轴7松脱。
优选的，毛刷包括刷体10和位于刷体底部的多排刷毛11，刷体优选为圆形。刷体上开设有多个减重孔12，可以减轻毛刷1的整体重量且易于更换。
尽管已描述了本实用新型的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，包括固定组件和刷头组件；
所述固定组件包括固定座和支撑板，所述固定座用于和抛光机台连接；所述支撑板的一端与所述固定座连接且连接位置可调节，另外一端开设有第一轴孔；
所述刷头组件包括毛刷和毛刷轴，所述毛刷的中心开设有第二轴孔，所述毛刷轴的上、下两端分别穿过所述第一轴孔、所述第二轴孔将所述毛刷固定于所述支撑板上。
2.如权利要求1所述的硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，
所述固定座为弧形块。
3.如权利要求1所述的硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，
所述支撑板呈T型，包括横板和竖板，所述横板的形状与所述固定座相适应，所述第一轴孔位于所述竖板的端部。
4.如权利要求1所述的硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，
所述固定座的后侧设有用于与所述抛光机台连接的螺纹孔。
5.如权利要求3所述的硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，
所述横板上设有长条形调节孔，所述固定座上设有连接孔，通过固定螺丝穿过所述长条形调节孔和所述连接孔将所述横板与所述固定座连接固定，并通过调节所述固定螺丝于所述长条形调节孔的位置，调节所述横板与所述固定座的连接位置。
6.如权利要求1所述的硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，
所述第一轴孔内设有轴套，所述毛刷轴的上端位于所述轴套内。
7.如权利要求6所述的硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，
所述毛刷轴的上端与所述轴套为间隙配合。
8.如权利要求6所述的硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，
所述轴套为耐磨塑料材质。
9.如权利要求1所述的硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，
所述毛刷轴的下端与所述第二轴孔之间设有密封圈。
10.如权利要求1所述的硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置，其特征在于，
所述毛刷包括刷体和位于所述刷体底部的多排刷毛，所述刷体上开设有多个减重孔。
Priority Applications (1)
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| CN202320740412.3U CN219599131U (zh) | 2023-04-06 | 2023-04-06 | 一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置 |
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| CN202320740412.3U CN219599131U (zh) | 2023-04-06 | 2023-04-06 | 一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN219599131U true CN219599131U (zh) | 2023-08-29 |
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ID=87739162
Family Applications (1)
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| CN202320740412.3U Active CN219599131U (zh) | 2023-04-06 | 2023-04-06 | 一种硅片抛光过程中用于抛布的清洁装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN219599131U (zh) |
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2023
- 2023-04-06 CN CN202320740412.3U patent/CN219599131U/zh active Active
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