CN209831364U - 组合式晶片研磨盘 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及晶片加工领域，具体而言，涉及一种组合式晶片研磨盘，其包括研磨块组件、转盘以及外壳；研磨块组件安装在转盘上，转盘下端连接转轴，转轴穿过外壳与驱动装置连接，转轴与外壳之间可转动连接，外壳固定在支撑架上；该新型所涉及的组合式晶片研磨盘解决了现有技术中研磨盘清洗困难，凹槽底部有残留，清洗液排出不彻底、研磨盘一处磨损就要全部更换，经济效益低等问题；在研磨过程中如果研磨块有磨损可以直接替换研磨块即可，不需要将整个研磨盘更换，经济性增加，清洗过程中可以直接冲洗研磨盘，不需要用刷子等的工具逐一清理研磨盘上的缝隙，提高了清洗效率。

Description

组合式晶片研磨盘

技术领域

本实用新型涉及晶片加工领域，具体而言，涉及一种组合式晶片研磨盘。

背景技术

石英晶片是一种常用的电子元器件，石英晶体经过切割后的晶片，要根据晶片的设计要求，不断研磨腐蚀到一定的厚度才可以使用。因此，研磨是晶片加工中的关键过程。

在对晶片进行研磨抛光处理时，通常需要用到研磨机。研磨盘是研磨机中最主要的工作部件，研磨晶片时，将复数晶片上蜡并黏置于研磨盘上，再以该研磨盘设置于相对应的研磨机中进行晶片研磨的减薄作业。各镜片于研磨完毕后即可将研磨盘由机器中取出。

目前光学晶片在研磨加工的时候，行业内所采用的研磨盘都是由铸铁或碳钢一体制成的，研磨盘上有研磨凹槽，研磨过程中研磨下来的碎屑和粉末会随研磨液流入研磨凹槽中，研磨结束需要将研磨凹槽进行清洗，由于研磨凹槽的尺寸较小，因此需要用比较繁琐的设备来清洗，清洗的过程中为了清洗彻底还要配合毛刷等，且存在清洗不彻底，凹槽底部有残留，清洗液排出困难等问题，除此之外，研磨盘一处有损坏，则需要整体更换研磨盘，经济效益较低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种组合式晶片研磨盘，以解决现有技术中研磨盘清洗困难，凹槽底部有残留，清洗液排出不彻底、研磨盘一处磨损就要全部更换，经济效益低等问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下的技术方案：

一种组合式晶片研磨盘，其包括研磨块组件、转盘以及外壳；研磨块组件安装在转盘上，转盘下端连接转轴，转轴穿过外壳与驱动装置连接，转轴与外壳之间可转动连接，外壳固定在支撑架上；

研磨块组件整体为圆形，其包括若干扇形研磨块，研磨块下端开有固定槽；

转盘呈圆形，转盘呈中心高四周低的伞状结构，转盘上从中心到外圈环形排列若干连接块，连接块的上表面水平，连接块尺寸与固定槽相适应，研磨块通过固定槽依次安装在转盘上，研磨块之间形成若干放射状间隙和圆形间隙；

外壳为圆筒形，外壳的侧壁上开有用于冷却水进出的进水孔和出水孔；外壳底部开有排水口以及用于转轴穿过的通孔。

进一步的，连接块高度大于固定槽深度。

进一步的，连接块和固定槽侧壁均带有一定斜度。

进一步的，转轴与通孔之间安装有轴承以及密封圈。

进一步的，排水口位于外壳底面最低点，便于液体排出。

本实用新型具有以下有益效果：

(1)组合式研磨盘将若干研磨块组合到研磨盘上，研磨块之间形成若干放射状间隙和圆形间隙，可以用于流出研磨碎屑和粉末，连接块高度高于研磨块下的固定槽深度，因此研磨块与转盘之间形成间隙，研磨碎屑和粉末随着研磨液流到转盘上，清洗的时候直接冲洗研磨块，就可以将研磨块表面和研磨块间隙之间的研磨杂质均冲到转盘上，从转盘的四周流到外壳中，最后从排水孔排出；此种组合式研磨盘提高了清洗效率，且结构简单。

(2)在研磨过程中如果研磨块有磨损可以直接替换研磨块即可，不需要将整个研磨盘更换，经济性增加。

(3)该组合式研磨盘带有外壳，外壳上带有进水口和出水口，在研磨结束后，研磨盘温度较高，可以通过向外壳中注入冷却水的方式给研磨盘降温，更加方便快捷，可控性强。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图；

图2是本实用新型安装示意图；

图3是研磨块组件结构示意图；

图4是外壳结构示意图；

其中，上述附图包括以下附图标记：1、研磨块组件；11、研磨块；12、固定槽；2、转盘；3、连接块；4、转轴；5、外壳；51、进水孔；52、出水孔；53、通孔；54、排水口；6、支撑架；7、驱动装置；8、排水管。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1-4所示，本实用新型所述的组合式晶片研磨盘包括研磨块组件1、转盘2以及外壳5；研磨块组件安装在转盘上，转盘下端连接转轴4，转轴穿过外壳与驱动装置7连接，转轴与外壳之间可转动连接，外壳固定在支撑架6上。

研磨块组件整体为圆形，其包括若干扇形研磨块11，研磨块下端开有固定槽。

转盘呈圆形，转盘呈中心高四周低的伞状结构，便于清洗液从四周留下，转盘上从中心到外圈环形排列若干连接块3，连接块的上表面水平，便于将研磨块水平固定在倾斜的转盘表面，连接块尺寸与固定槽12相适应，连接块和固定槽侧壁均带有一定斜度，以便更好的定位以及安装。

研磨块通过固定槽依次安装在转盘上，研磨块之间形成若干放射状间隙和圆形间隙；连接块高度大于固定槽深度，则研磨块底部与转盘之间形成空隙，清洗液可以从研磨块底部流通，清洗彻底。

外壳为圆筒形，外壳的侧壁上开有用于冷却水进出的进水孔51和出水孔52，外接入水管和出水管，用于冷却水的进出，外壳的侧面高度高于研磨块高度，则冷却水可以整体覆盖整个研磨盘，冷却更加彻底，冷却的同时也可以彻底清洗。

外壳底部开有排水口54以及用于转轴穿过的通孔53，排水口位于外壳底面最低点，便于液体排出，转轴与通孔之间安装有轴承以及密封圈，密封圈可以防止清洗液从转轴与通孔的间隙流出。

为了方便清洗液流出，研磨块与转盘之间以及转盘与外壳四周以及底部之间均存在空隙，则研磨液可以从空隙中流出。

本实用新型的使用过程如下所述：

研磨块分别安装到转盘的连接块上，则研磨块整体组成了一个研磨盘，驱动装置驱动转轴旋转，带动转盘转动，从而安装在转盘上的研磨块也随之转动，对晶片进行研磨，研磨结束之后，直接冲洗研磨块表面，则研磨下来的粉末以及研磨液等沿着研磨块之间的间隙流到转盘上，转盘四周略低于中间，则清洗液沿着转盘的四周流到外壳内，通过排水口排出，如果研磨块的研磨的过程中温度过高，在研磨结束之后，可以通过进水孔和出水孔向外壳中持续供应冷却水的方式给研磨块降温，防止持续高温对研磨块有一定损坏，研磨块发生损坏的情况下，可以单独替换损坏的研磨块，不需要整体更换研磨块，增加了研磨盘的使用寿命，经济性能提高。

当然，上述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定对本实用新型的实施例范围。本实用新型也并不仅限于上述举例，本技术领域的普通技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的均等变化与改进等，均应归属于本实用新型的专利涵盖范围内。

Claims (5)

1.一种组合式晶片研磨盘，其特征在于，包括研磨块组件(1)、转盘(2)以及外壳(5)；研磨块组件(1)安装在转盘(2)上，转盘(2)下端连接转轴(4)，转轴(4)穿过外壳(5)与驱动装置(7)连接，转轴(4)与外壳(5)之间可转动连接，外壳(5)固定在支撑架(6)上；

研磨块组件(1)整体为圆形，其包括若干扇形研磨块(11)，研磨块(11)下端开有固定槽(12)；

转盘(2)呈圆形，转盘(2)呈中心高四周低的伞状结构，转盘(2)上从中心到外圈环形排列若干连接块(3)，连接块(3)的上表面水平，连接块(3)尺寸与固定槽(12)相适应，研磨块(11)通过固定槽(12)依次安装在转盘(2)上，研磨块(11)之间形成若干放射状间隙和圆形间隙；

外壳(5)为圆筒形，外壳(5)的侧壁上开有用于冷却水进出的进水孔(51)和出水孔(52)；外壳(5)底部开有排水口(54)以及用于转轴(4)穿过的通孔(53)。

2.根据权利要求1所述的组合式晶片研磨盘，其特征在于，连接块(3)高度大于固定槽(12)深度。

3.根据权利要求1所述的组合式晶片研磨盘，其特征在于，连接块(3)和固定槽(12)侧壁均带有一定斜度。

4.根据权利要求1所述的组合式晶片研磨盘，其特征在于，转轴(4)与通孔(53)之间安装有轴承以及密封圈。

5.根据权利要求1所述的组合式晶片研磨盘，其特征在于，排水口(54)位于外壳(5)底面最低点，便于液体排出。