CN219580385U - 一种真空搅拌脱泡机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种真空搅拌脱泡机，其中，包括公转机构、自转机构、搅拌机构和吸真空机构；所述公转机构包括上旋转盘和下旋转盘，所述下旋转盘和所述上旋转盘通过伸缩旋转轴连接，所述伸缩旋转轴的底部设置有伸缩旋转电机；所述下旋转盘上设置有所述自转机构，所述上旋转盘的顶部设置有所述吸真空机构和所述搅拌机构，所述搅拌机构位于所述自转机构的正上方。本实用新型通过自转机构和公转机构配合，在搅拌机构搅拌时将材料充分混合均匀，同时通过吸真空机构排除搅拌时的气体，进一步促进搅拌的混合均匀度。

Description

一种真空搅拌脱泡机

技术领域

本实用新型涉及搅拌设备技术领域，特别是一种真空搅拌脱泡机。

背景技术

真空搅拌脱泡机是一种用于将材料搅拌混合的设备，主要应用在LED、LCD、医疗器械、电子元器件、纳米粉体材料、精细化工材料、印刷电子材料、电子封装材料及新能源材料等高、尖、精领域产品的材料的混合搅拌领域，从液态到固态、液态与液态、固态与固态物质的搅拌均可。

但在搅拌过程中，无法避免会产生气体，需要一种能够排出气体同时搅拌充分混合均匀的脱泡机。

实用新型内容

为了克服现有技术的上述缺点，本实用新型的目的是提供一种真空搅拌脱泡机，以解决上述问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种真空搅拌脱泡机，其中，包括公转机构、自转机构、搅拌机构和吸真空机构；所述公转机构包括上旋转盘和下旋转盘，所述下旋转盘和所述上旋转盘通过伸缩旋转轴连接，所述伸缩旋转轴的底部设置有伸缩旋转电机；所述下旋转盘上设置有所述自转机构，所述上旋转盘的顶部设置有所述吸真空机构和所述搅拌机构，所述搅拌机构位于所述自转机构的正上方。

作为本实用新型的进一步改进：所述伸缩旋转轴包括主轴和次轴，所述主轴为中空贯通结构，所述次轴的底部可滑动设置在所述主轴的中空贯通结构内。

作为本实用新型的进一步改进：所述自转机构包括自转电机、自转轴、自转底座、载料罐和底座固定件；所述底座固定件设置在所述下旋转盘上，所述底座固定件上设置有底座槽，所述底座槽上设置有自转轴安装孔，所述自转底座设置在所述底座槽内，所述自转轴的顶部穿过所述自转轴安装孔与所述自转底座固定连接，所述自转轴的底部穿过所述下旋转盘与所述自转电机连接，所述载料罐可拆卸地设置在所述自转底座上。

作为本实用新型的进一步改进：所述搅拌机构包括搅拌电机、载料罐密封盖和搅拌桨；所述搅拌电机设置在所述上旋转盘的顶部，所述载料罐密封盖设置在所述上旋转盘的底部，所述搅拌桨的顶部穿过所述载料罐密封盖和所述上旋转盘与所述搅拌电机连接。

作为本实用新型的进一步改进：所述吸真空机构包括真空吸管道和真空泵；所述真空吸管道的一端穿过所述上旋转盘和所述载料罐密封盖设置，所述真空吸管道的另一端与所述真空泵连接，所述真空泵设置在所述上旋转盘上。

作为本实用新型的进一步改进：所述公转机构的两侧镜像设置有公转辅助机构，所述公转辅助机构包括辅助伸缩轴、上旋转辅助件和下旋转辅助件；所述辅助伸缩轴包括辅助主轴和辅助次轴，所述辅助主轴为中空贯通结构，所述辅助次轴的底部可滑动的设置在所述辅助主轴内；所述下旋转辅助件设置在所述辅助主轴上与所述下旋转盘等高的位置，所述下旋转辅助件与所述下旋转盘抵接；所述上旋转辅助件设置在所述辅助次轴上与所述上旋转盘等高的位置，所述上旋转辅助件与所述上旋转盘抵接。

作为本实用新型的进一步改进：所述上旋转盘的侧面为环绕设置的上凸台结构，所述上凸台结构的侧面环绕设置有两道上滑轨；所述上旋转辅助件与所述上旋转盘抵接的一侧为与所述上凸台结构配合的上凹槽结构，所述上凹槽结构与所述上滑轨滑动连接。

作为本实用新型的进一步改进：所述下旋转盘的侧面为环绕设置的下凸台结构，所述下凸台结构的侧面环绕设置有两道下滑轨，所述下旋转辅助件与所述下旋转盘抵接的一侧为与所述下凸台结构配合的下凹槽结构，所述下凹槽结构与所述下滑轨滑动连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过自转机构和公转机构配合，在搅拌机构搅拌时将材料充分混合均匀，同时通过吸真空机构排除搅拌时的气体，进一步促进搅拌的混合均匀度。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的部分结构剖面示意图1。

图3为本实用新型的部分结构剖面示意图2。

具体实施方式

现结合附图说明与实施例对本实用新型进一步说明：

本实用新型提供如附图1-3所示的一种真空搅拌脱泡机，其中，包括公转机构1、自转机构2、搅拌机构3和吸真空机构4；所述公转机构1包括上旋转盘11和下旋转盘12，所述下旋转盘12和所述上旋转盘11通过伸缩旋转轴13连接，所述伸缩旋转轴13的底部设置有伸缩旋转电机14；所述下旋转盘12上设置有所述自转机构2，所述上旋转盘11的顶部设置有所述吸真空机构4和所述搅拌机构3，所述搅拌机构3位于所述自转机构2的正上方。

在本实用新型中，公转机构1用于带动自转机构2围绕伸缩旋转轴13旋转；所述自转机构2用于在搅拌过程中进行自转，所述搅拌机构3用于进行搅拌，所述吸真空机构4用于在进行搅拌时降低搅拌环境空气密度，营造适合的真空环境，这里需要说明的是，真空环境并不是真的无气体环境，而是相较于外界气压与内部环境气压相对而言的一个近“真空”环境。

在本实用新型中，如附图1所示，所述伸缩旋转轴13包括主轴131和次轴132，所述主轴131为中空贯通结构，所述次轴132的底部可滑动设置在所述主轴的中空贯通结构内。进行伸缩时，次轴132向下滑动缩回主轴131中，实现伸缩旋转轴13的伸缩功能，进行旋转时，由伸缩旋转电机14驱动伸缩旋转轴13进行旋转。

继续对本实用新型中的自转机构2的结构做进一步详细描述，如附图1和附图3所示，所述自转机构2包括自转电机21、自转轴22、自转底座23、载料罐24和底座固定件25；所述底座固定件25设置在所述下旋转盘12上，所述底座固定件25上设置有底座槽251，所述底座槽251上设置有自转轴安装孔252，所述自转底座23设置在所述底座槽251内，所述自转轴22的顶部穿过所述自转轴安装孔252与所述自转底座23固定连接，所述自转轴22的底部穿过所述下旋转盘12与所述自转电机21连接，所述载料罐24可拆卸地设置在所述自转底座23上。自转电机21驱动自转轴22，进而驱动自转底座23进行旋转、自转底座23带动载料罐24进行旋转，其中，自转底座23和载料罐24可以是过盈配合，或者在载料罐24外侧和自转底座23内壁上设置对应的螺纹来进行螺纹配合，只要载料罐24是可拆卸的即可。底座固定件25用于安装自转底座23，其底座槽251与自转底座23之间具有一定间隙，为了进一步帮助旋转不受阻碍，可在间隙间涂敷助润滑液体或设置滚珠帮助减少旋转时摩擦损伤机构。

继续对本实用新型中的搅拌机构3做进一步详细描述，如附图1和附图2所示，所述搅拌机构3包括搅拌电机31、载料罐密封盖32和搅拌桨33；所述搅拌电机31设置在所述上旋转盘11的顶部，所述载料罐密封盖32设置在所述上旋转盘11的底部，所述搅拌桨33的顶部穿过所述载料罐密封盖32和所述上旋转盘与所述搅拌电机31连接。首先伸缩旋转轴13向下收缩，上旋转盘11向下旋转盘12运动，进而使得载料罐密封盖32与载料罐24闭合，使得载料罐24内部成为密闭空间，而后搅拌电机31驱动搅拌桨33进行旋转。为了保证封闭的稳定性，载料罐密封盖32的边缘与载料罐24的罐口边缘的密封圈241紧密抵接，保证内部的封闭性。

进一步的，如附图1-2所示，所述吸真空机构4包括真空吸管道41和真空泵42；所述真空吸管道41的一端穿过所述上旋转盘11和所述载料罐密封盖32设置，所述真空吸管道41的另一端与所述真空泵42连接，所述真空泵42设置在所述上旋转盘11上。在载料罐24完成密封并进行搅拌时，真空泵42通过真空吸管道41进行吸真空工作，进而帮助载料罐24内部形成真空环境。载料罐24用于装载需要搅拌混合的材料。

为了提高本实用新型的装置的稳定性，如附图1所示，所述公转机构1的两侧镜像设置有公转辅助机构5，所述公转辅助机构5包括辅助伸缩轴51、上旋转辅助件52和下旋转辅助件53；所述辅助伸缩轴51包括辅助主轴511和辅助次轴512，所述辅助主轴511为中空贯通结构，所述辅助次轴512的底部可滑动的设置在所述辅助主轴511内；所述下旋转辅助件53设置在所述辅助主轴511上与所述下旋转盘12等高的位置，所述下旋转辅助件53与所述下旋转盘12抵接；所述上旋转辅助件52设置在所述辅助次轴512上与所述上旋转盘11等高的位置，所述上旋转辅助件52与所述上旋转盘11抵接。辅助伸缩轴51用于辅助伸缩旋转轴13进行伸缩时同步进行伸缩，使得上旋转辅助件52和下旋转辅助件53在伸缩过程中均与上旋转盘11和下旋转盘12维持稳定的旋转平衡。

进一步的，如附图2所示，所述上旋转盘11的侧面为环绕设置的上凸台结构111，所述上凸台结构111的侧面环绕设置有两道上滑轨112；所述上旋转辅助件52与所述上旋转盘11抵接的一侧为与所述上凸台结构111配合的上凹槽结构521，所述上凹槽结构521与所述上滑轨112滑动连接。在伸缩旋转轴13带动上旋转盘11旋转时，上凸台结构111与上凹槽结构521配合，使得上凸台结构111的上滑轨112在上凹槽结构521上滑动，维持上旋转盘11在旋转中的稳定性，上凹槽结构521也起到支撑上旋转盘11的作用。

进一步的，如附图3所示，所述下旋转盘12的侧面为环绕设置的下凸台结构121，所述下凸台结构121的侧面环绕设置有两道下滑轨122，所述下旋转辅助件53与所述下旋转盘12抵接的一侧为与所述下凸台结构121配合的下凹槽结构531，所述下凹槽结构531与所述下滑轨122滑动连接。在伸缩旋转轴13带动下旋转盘12旋转时，下凸台结构121与下凹槽结构531配合，使得下凸台结构121的下滑轨122在下凹槽结构531上滑动，维持下旋转盘12在旋转中的稳定性，下凹槽结构531也起到支撑下旋转盘12的作用。因此，公转辅助机构5能够避免公转机构1在公转时倾翻。

本实用新型的工作流程：

将需要搅拌的材料导入载料罐24中，将载料罐24安装在自转底座23上，由伸缩旋转轴带动上旋转盘11向下旋转盘12移动，使得载料罐密封盖32与载料罐24封闭贴合，而后，伸缩旋转电机14驱动上旋转盘11和下旋转盘12进行旋转，带动载料罐24和搅拌机构3环绕伸缩旋转轴进行公转，同时，自转电机21带动自转底座23进行旋转，由于自转底座23与载料罐24的安装，进而带动载料罐24进行自转，而后搅拌机构3启动，搅拌桨33进行旋转将材料搅拌混合，同时吸真空机构4吸取内部多余气体营造真空环境，帮助排除搅拌时多余的气体，促进搅拌混合均匀。搅拌混合结束后，伸缩旋转轴13向上运动，带动载料罐24与载料罐24密封罐分离，取出载料罐24，倒出混合均匀的材料。

本实用新型的主要功能：应用于各类材料的搅拌混合和脱泡，使得材料的混合更加均匀，排除多余的气体。能够通过真空环境、搅拌，搅拌时自转和公转来帮助材料混合均匀，减少气泡的产生。

综上所述，本领域的普通技术人员阅读本实用新型文件后，根据本实用新型的技术方案和技术构思无需创造性脑力劳动而作出其他各种相应的变换方案，均属于本实用新型所保护的范围。

Claims (8)

1.一种真空搅拌脱泡机，其特征在于，包括公转机构、自转机构、搅拌机构和吸真空机构；所述公转机构包括上旋转盘和下旋转盘，所述下旋转盘和所述上旋转盘通过伸缩旋转轴连接，所述伸缩旋转轴的底部设置有伸缩旋转电机；所述下旋转盘上设置有所述自转机构，所述上旋转盘的顶部设置有所述吸真空机构和所述搅拌机构，所述搅拌机构位于所述自转机构的正上方。

2.根据权利要求1所述的一种真空搅拌脱泡机，其特征在于，所述伸缩旋转轴包括主轴和次轴，所述主轴为中空贯通结构，所述次轴的底部可滑动设置在所述主轴的中空贯通结构内。

3.根据权利要求1所述的一种真空搅拌脱泡机，其特征在于，所述自转机构包括自转电机、自转轴、自转底座、载料罐和底座固定件；所述底座固定件设置在所述下旋转盘上，所述底座固定件上设置有底座槽，所述底座槽上设置有自转轴安装孔，所述自转底座设置在所述底座槽内，所述自转轴的顶部穿过所述自转轴安装孔与所述自转底座固定连接，所述自转轴的底部穿过所述下旋转盘与所述自转电机连接，所述载料罐可拆卸地设置在所述自转底座上。

4.根据权利要求1所述的一种真空搅拌脱泡机，其特征在于，所述搅拌机构包括搅拌电机、载料罐密封盖和搅拌桨；所述搅拌电机设置在所述上旋转盘的顶部，所述载料罐密封盖设置在所述上旋转盘的底部，所述搅拌桨的顶部穿过所述载料罐密封盖和所述上旋转盘与所述搅拌电机连接。

5.根据权利要求4所述的一种真空搅拌脱泡机，其特征在于，所述吸真空机构包括真空吸管道和真空泵；所述真空吸管道的一端穿过所述上旋转盘和所述载料罐密封盖设置，所述真空吸管道的另一端与所述真空泵连接，所述真空泵设置在所述上旋转盘上。

6.根据权利要求1所述的一种真空搅拌脱泡机，其特征在于，所述公转机构的两侧镜像设置有公转辅助机构，所述公转辅助机构包括辅助伸缩轴、上旋转辅助件和下旋转辅助件；所述辅助伸缩轴包括辅助主轴和辅助次轴，所述辅助主轴为中空贯通结构，所述辅助次轴的底部可滑动的设置在所述辅助主轴内；所述下旋转辅助件设置在所述辅助主轴上与所述下旋转盘等高的位置，所述下旋转辅助件与所述下旋转盘抵接；所述上旋转辅助件设置在所述辅助次轴上与所述上旋转盘等高的位置，所述上旋转辅助件与所述上旋转盘抵接。

7.根据权利要求6所述的一种真空搅拌脱泡机，其特征在于，所述上旋转盘的侧面为环绕设置的上凸台结构，所述上凸台结构的侧面环绕设置有两道上滑轨；所述上旋转辅助件与所述上旋转盘抵接的一侧为与所述上凸台结构配合的上凹槽结构，所述上凹槽结构与所述上滑轨滑动连接。

8.根据权利要求6所述的一种真空搅拌脱泡机，其特征在于，所述下旋转盘的侧面为环绕设置的下凸台结构，所述下凸台结构的侧面环绕设置有两道下滑轨，所述下旋转辅助件与所述下旋转盘抵接的一侧为与所述下凸台结构配合的下凹槽结构，所述下凹槽结构与所述下滑轨滑动连接。