CN219187497U - 一种保护膜胶槽调整结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种保护膜胶槽调整结构，包括涂胶槽和设在涂胶槽上方的涂胶辊和压辊，所述涂胶辊位于压辊的正下方，还包括可升降的胶槽支撑平台和用于驱动涂胶槽水平移动的丝杆滑台结构，所述丝杆滑台结构包括相配合的丝杆和滑台，所述胶槽支撑平台上设有轨槽，滑台设在轨槽内，涂胶槽设在滑台上，丝杆一端从胶槽支撑平台伸出并在丝杆一端上设有调节手柄。该保护膜胶槽调整结构设计合理，胶槽支撑平台可进行升降，并且设置在胶槽支撑平台上的涂胶槽可以从涂胶辊下方移出，涂胶槽移出后与涂胶辊错位，便于清理操作；并且结构简单，升降和移出稳定可靠。

Description

一种保护膜胶槽调整结构

技术领域

本实用新型涉及保护膜处理技术领域，尤其是涉及一种保护膜胶槽调整结构。

背景技术

目前光电产品用的保护膜表面需要涂胶加工处理，在保护膜表面形成保护层，对应涂胶槽设有涂胶辊和压辊，涂胶辊位于压辊下方，涂胶辊的下部与胶槽内的胶液接触，保护膜经过涂胶辊和压辊之间的间隙，涂胶辊旋转对保护膜进行涂胶处理；保护膜涂胶停机后需对胶槽内剩余胶液进行清理，胶槽位于涂胶辊的正下方不便于清理操作。

如中国专利CN 206882022U公开的一种保护膜涂胶装置，包括放卷筒和收卷筒以及胶槽，还包括涂胶辊和压辊以及用于驱动涂胶辊转动的电机，压辊位于涂胶辊的上方，压辊和涂胶辊之间留有保护膜通过的间隙，涂胶辊的下部位于胶槽中，并在涂胶辊保护膜进入侧设有用于刮掉涂胶辊上多余胶水的刮刀；其胶槽固定在涂胶辊的正下方，不便于清理。

实用新型内容

针对现有技术不足，本实用新型所要解决的技术问题是提供一种保护膜胶槽调整结构，其可将胶槽从涂胶辊下方移出，便于胶槽清理。

为了解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案为：

该保护膜胶槽调整结构，包括涂胶槽和设在涂胶槽上方的涂胶辊和压辊，所述涂胶辊位于压辊的正下方，还包括可升降的胶槽支撑平台和用于驱动涂胶槽水平移动的丝杆滑台结构，所述丝杆滑台结构包括相配合的丝杆和滑台，所述胶槽支撑平台上设有轨槽，滑台设在轨槽内，涂胶槽设在滑台上，丝杆一端从胶槽支撑平台伸出并在丝杆一端上设有调节手柄。

进一步的：

所述滑台为设在轨槽内的一组。

所述胶槽支撑平台的下方设有基板，基板上方设有可转动的转轴，转轴上设有驱动齿轮，胶槽支撑平台的下部设有与驱动齿轮相啮合的齿条。

所述转轴上设有一组并排设置的驱动齿轮，胶槽支撑平台下部对应每个驱动齿轮设置一个对应的齿条。

所述基板上设有用于驱动的转轴转动的电机。

所述转轴的端部设有转动操作手柄。

所述基板和胶槽支撑平台之间设有导柱结构。

所述基板上设有支架，支架上设有导块，导块上设有用于导条穿过的导孔，导块的一侧设有缺口，齿轮一部分位于缺口内与齿条配合。

本实用新型与现有技术相比，具有以下优点：

该保护膜胶槽调整结构设计合理，胶槽支撑平台可进行升降，并且设置在胶槽支撑平台上的涂胶槽可以从涂胶辊下方移出，涂胶槽移出后与涂胶辊错位，便于清理操作；并且结构简单，升降和移出稳定可靠。

附图说明

下面对本说明书各幅附图所表达的内容及图中的标记作简要说明：

图1为本实用新型调整结构示意图。

图2为本实用新型导块和齿条结构示意图。

图中：

1.基板、2.导柱、3.胶槽支撑平台、4.齿条、5.驱动齿轮、6.涂胶槽、7.调节丝杆、8.涂胶辊、9.压辊、10.保护膜、11.导块。

具体实施方式

下面对照附图，通过对实施例的描述，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明。

如图1和图2所示，该保护膜胶槽调整结构，包括涂胶槽6和设在涂胶槽上方的涂胶辊8和压辊9，涂胶辊位于压辊的正下方，保护膜10通过涂胶辊和压辊之间的间隙，涂胶辊的下部与涂胶槽的胶液接触，涂胶辊旋转进行涂胶操作。

本实用新型还设置有可升降的胶槽支撑平台3和用于驱动涂胶槽水平移动的丝杆滑台结构；丝杆滑台结构包括相配合的调节丝杆7和滑台，胶槽支撑平台上设有轨槽，滑台设在轨槽内，涂胶槽设在滑台上，丝杆一端从胶槽支撑平台伸出并在丝杆一端上设有调节手柄。

胶槽支撑平台3为平板结构，胶槽支撑平台设置成可升降调节，避免涂胶槽水平移出时与涂胶辊或其它部件干涉。

滑台为设在轨槽内的一组，稳定可靠；丝杆通过轴承设在轨槽中，滑块可在轨槽内移动设置，通过旋转调节手柄，带动丝杆旋转，从而驱动滑台以及滑台上方的涂胶槽移动。

胶槽支撑平台3的下方设有基板1，基板上方设有可转动的转轴，转轴上设有驱动齿轮5，胶槽支撑平台的下部设有与驱动齿轮相啮合的齿条4。转轴上设有一组并排设置的驱动齿轮，胶槽支撑平台下部对应每个驱动齿轮设置一个对应的齿条。

基板1上设有用于驱动的转轴转动的电机；或者，转轴的端部设有转动操作手柄。通过驱动转轴带动驱动齿轮转动，驱动齿轮驱动对应的齿条上下运动，从而带动胶槽支撑平台升降，通过同一个转轴驱动升降调节，稳定可靠。

基板和胶槽支撑平台之间设有导柱结构，导柱2可设置一组，升降稳定可靠。

进一步的，基板上设有支架，支架上设有导块11，导块上设有用于导条穿过的导孔，导块的一侧设有缺口，齿轮一部分位于缺口内与齿条配合，升降稳定可靠，结构紧凑。

本实用新型保护膜胶槽调整结构设计合理，胶槽支撑平台可进行升降，并且设置在胶槽支撑平台上的涂胶槽可以从涂胶辊下方移出，涂胶槽移出后与涂胶辊错位，便于清理操作；并且结构简单，升降和移出稳定可靠。

上述仅为对本实用新型较佳的实施例说明，上述技术特征可以任意组合形成多个本实用新型的实施例方案。

上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的构思和技术方案进行的各种非实质性的改进，或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种保护膜胶槽调整结构，包括涂胶槽和设在涂胶槽上方的涂胶辊和压辊，所述涂胶辊位于压辊的正下方，其特征在于：还包括可升降的胶槽支撑平台和用于驱动涂胶槽水平移动的丝杆滑台结构，所述丝杆滑台结构包括相配合的丝杆和滑台，所述胶槽支撑平台上设有轨槽，滑台设在轨槽内，涂胶槽设在滑台上，丝杆一端从胶槽支撑平台伸出并在丝杆一端上设有调节手柄。

2.如权利要求1所述保护膜胶槽调整结构，其特征在于：所述滑台为设在轨槽内的一组。

3.如权利要求1所述保护膜胶槽调整结构，其特征在于：所述胶槽支撑平台的下方设有基板，基板上方设有可转动的转轴，转轴上设有驱动齿轮，胶槽支撑平台的下部设有与驱动齿轮相啮合的齿条。

4.如权利要求3所述保护膜胶槽调整结构，其特征在于：所述转轴上设有一组并排设置的驱动齿轮，胶槽支撑平台下部对应每个驱动齿轮设置一个对应的齿条。

5.如权利要求3所述保护膜胶槽调整结构，其特征在于：所述基板上设有用于驱动的转轴转动的电机。

6.如权利要求3所述保护膜胶槽调整结构，其特征在于：所述转轴的端部设有转动操作手柄。

7.如权利要求3所述保护膜胶槽调整结构，其特征在于：所述基板和胶槽支撑平台之间设有导柱结构。

8.如权利要求3所述保护膜胶槽调整结构，其特征在于：所述基板上设有支架，支架上设有导块，导块上设有用于导条穿过的导孔，导块的一侧设有缺口，齿轮一部分位于缺口内与齿条配合。

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