CN218993858U - 一种高洁净度硅片烘干槽 - Google Patents
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Abstract
本实用新型揭示了一种高洁净度硅片烘干槽，其包括内部形成有空腔的外壳，所述外壳内部设置有一支撑底板，将所述空腔分隔为上下分布的烘干腔与沥水腔；所述烘干腔的前后内壁表面上设置有若干分散管，所述烘干腔的顶部设置有箱盖，所述支撑底板上设置有若干贯通上下的通口，所述外壳的左侧设置有集气腔，所述分散管的一端延伸至所述集气腔内与所述集气腔连通，所述沥水腔的底部设置有输出口。本实用新型能够有效的及时排出多余的水份，保障硅片烘干过程中烘干槽内的控制质量，及时将烘干槽内带有颗粒的气体排出。
Description
【技术领域】
本实用新型属于烘干设备技术领域，特别是涉及一种高洁净度硅片烘干槽。
【背景技术】
硅材料作为重要的半导体材料，在湿法处理后均需要烘干工艺处理，硅片在烘干时对烘干箱内的空气质量要求非常高，且内部空气是经过加热后的热空气，要求烘干箱的壳体具有一定的耐热性能以及保温性能。现有烘干槽体多为PVDF材质或SUS316结合Helar喷涂的方式，制作成本高。
现有技术中专利公开号为CN210952133U公开了一种硅片烘干槽，其经过过滤加热后的气体由烘干槽的底部进入烘干箱内，且在烘干槽内部下方设置有加热器；现有技术中专利公开号为CN215413064U也公开了一种内置热风烘干装置，其也是在烘干槽的内部设置加热器，采用风机进行内部循环，风机设置在烘干槽的底部，然后通过底部的新风管进入到烘干槽内部空间。上述两种方式的加热气体均是由下向上，这种结构会存在一些问题，硅片放置在载具中刚放入烘干槽内时，硅片上的水珠会向下滴落，而该两种烘干槽的槽底是进风管，多余的水珠无法排出，一方面会对烘干槽内部的空气质量造成一定的影响，水珠中的金属颗粒容易被吹到硅片表面上，影响硅片质量；且滴落的水珠若流淌到新风管内或流淌到下面的风机中，容易损坏零件，影响烘干槽的使用寿命。
因此，需要额外设计一款高洁净度硅片烘干槽来解决上述技术问题。
【实用新型内容】
本实用新型的主要目的在于提供一种高洁净度硅片烘干槽，能够有效的及时排出多余的水份，保障硅片烘干过程中烘干槽内的控制质量，及时将烘干槽内带有颗粒的气体排出。
本实用新型通过如下技术方案实现上述目的：一种高洁净度硅片烘干槽，其包括内部形成有空腔的外壳，所述外壳内部设置有一支撑底板，将所述空腔分隔为上下分布的烘干腔与沥水腔；所述烘干腔的前后内壁表面上设置有若干分散管，所述烘干腔的顶部设置有箱盖，所述支撑底板上设置有若干贯通上下的通口，所述外壳的左侧设置有集气腔，所述分散管的一端延伸至所述集气腔内与所述集气腔连通，所述沥水腔的底部设置有输出口。
进一步的，所述外壳的底部设置有与所述输出口连接的且竖直向下的第一管路，所述第一管路的中部水平延伸连接有第二管路，所述第二管路的输出端接入至所述排风单元的输入端。
进一步的，所述第一管路的底部设置有排水管。
进一步的，所述排水管上设置有单向阀。
进一步的，所述沥水腔的底部形成有便于水渍汇聚至所述第一管路中的斜坡底面。
进一步的，所述外壳上还设置有与所述集气腔连通的进风口。
进一步的，所述支撑底板上设置有对硅片载具进行快速定位的定位底座。
进一步的，所述箱盖受一驱动件驱动进行自动开合动作。
进一步的，所述外壳的外围表面上设置有加强筋。
进一步的，所述外壳的内壁表面贴合设置有PVDF或PTFE内衬。
与现有技术相比，本实用新型一种高洁净度硅片烘干槽的有益效果在于：在烘干槽内通过设置带有若干通口的支撑底板，将烘干槽分为烘干腔与沥水腔，并在沥水腔底部设置通气与排水共用的第一管路，在第一管路上水平延伸分出用于排气的第二管路、底部水平延伸出用于排水的排水管，支撑底板上设置有用于快速定位硅片载具的定位底座，承载有硅片的硅片载具放置在定位底座上，在烘干腔内进行烘干，而硅片及硅片载具上的水渍则可以滴落至沥水腔中经底部的排水管进行自动排出，保障了烘干槽内的水渍能够及时的排出，并通过第二管路及时带出其中所含水蒸气、硅粉等颗粒物，保障烘干槽空气的洁净度。
【附图说明】
图1为本实用新型实施例的长边剖面结构示意图；
图2为本实用新型实施例的短边剖面结构示意图；
图中数字表示：
100-高洁净度硅片烘干槽；101-硅片及载具；
1-外壳；2-支撑底板；3-烘干腔；4-沥水腔；5-分散管；6-箱盖；7-第一管路；8-第二管路；9-排风单元；10-排水管；11-阀门；12-集气腔；13-进风口；14-定位底座；15-驱动件；16-加强筋；17-PVDF或PTFE内衬。
【具体实施方式】
实施例一：
请参照图1-图2，本实施例为一种高洁净度硅片烘干槽100，其包括内部形成有空腔的外壳1，外壳1内部设置有一支撑底板2，将所述空腔分隔为上下分布的烘干腔3与沥水腔4，烘干腔3的前后内壁表面上设置有若干分散管5，烘干腔3的顶部设置有箱盖6，支撑底板2上设置有若干贯通上下的通口(图中未标示)，一方面便于烘干腔3内硅片上的水渍向下滴落至沥水腔4中，另一方面也方便烘干腔3内的气体进入沥水腔4后向下排出。
外壳1的底部设置有与沥水腔4连通的且竖直向下的第一管路7，第一管路7的中部水平延伸连接有第二管路8，第二管路8的输出端接入至一个排风单元9的输入端，将烘干腔3内的气体主动抽出。第一管路7的底部设置有排水管10，用于排出沥水腔4内多余的水渍。本实施例中，第一管路7设置有两个，两个第一管路7上的第二管路8汇流在一起后接入排风单元9。沥水腔4的底部形成有便于水渍汇聚至第一管路7中的斜坡底面。水渍进入到第一管路7中后向下流淌至第一管路7的底部，然后经排水管10自动排出。排水管10上设置有阀门11，阀门11可采用单向阀，仅允许向外排水，而不允许朝内进入空气，保障烘干腔3内的空气质量。
外壳1的左侧设置有集气腔12，分散管5为多孔圆管，其一端延伸至集气腔12内与集气腔12连通。外壳1上还设置有与集气腔12连通的进风口13，外部经过过滤加热后的高压高洁净度气体通过送风风机送入至进风口13进入集气腔12内，然后一一进入分散管5，经过分散管5分散为均匀的气体吹入烘干腔3，对烘干腔3内的硅片进行统一均匀的烘干。分散管5为多孔圆管，其上孔径优选0.5mm～2mm，分散管5数量优选2～5组，每组左右两支，各分散管5的喷射角度可调。
支撑底板2上设置有对硅片载具进行快速定位的定位底座14。
箱盖6受一驱动件15驱动进行自动开合动作，实现烘干腔3的自动打开与关闭。
本实施例中，外壳1采用15mm厚的PP板材加工焊接而成，在45℃以内烘干时，烘干槽槽体强度足够，能够保证不形变，但是当烘干工艺温度大于45℃时，PP外壳受热形变，从而影响内部硅片及载具，易造成碎片或其他风险，为了防止外壳1高温变形，本实施例在外壳1的外围表面上设置有加强筋16，加强筋16的布置方式可采用水平布置、或竖直布置、或水平与竖直结合布置，数量也可以根据烘干箱的整体大小灵活增减。由于PP材质耐温性与洁净度均不够理想，因此为了保证硅片烘干区域的洁净度，本实施例在PP外壳1的内壁表面贴合设置有PVDF或PTFE内衬17，厚度为1～5mm，在保证高洁净度的同时，也实现了隔热作用，保护了外壳1。
本实施例一种高洁净度硅片烘干槽100，当硅片及载具101放置到定位底座14上后，驱动件15驱动箱盖6关闭，高压高温高洁净的新风通过进风口13进入集气腔12内；经集气腔12进入分散管5内，其喷射气流作用于硅片及载具101上，在排风单元9提供额外排风动力作用下，使烘干腔3内的空气穿过支撑底板2后进入沥水腔4，然后经过第一管路7、第二管路8以及排风单元9内部后及时排出，带出其中所含水蒸气、硅粉等颗粒物，从而更有效的烘干硅片及载具101，部分多余水分可通过排水管10排出。
以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种高洁净度硅片烘干槽，其包括内部形成有空腔的外壳(1)，其特征在于：所述外壳(1)内部设置有一支撑底板(2)，将所述空腔分隔为上下分布的烘干腔(3)与沥水腔(4)；所述烘干腔(3)的前后内壁表面上设置有若干分散管(5)，所述烘干腔(3)的顶部设置有箱盖(6)，所述支撑底板(2)上设置有若干贯通上下的通口，所述外壳(1)的左侧设置有集气腔(12)，所述分散管(5)的一端延伸至所述集气腔(12)内与所述集气腔(12)连通，所述沥水腔(4)的底部设置有输出口。
2.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽，其特征在于：所述外壳(1)的底部设置有与所述输出口连接的且竖直向下的第一管路(7)，所述第一管路(7)的中部水平延伸连接有第二管路(8)，所述第二管路(8)的输出端接入至一个排风单元(9)的输入端。
3.如权利要求2所述的高洁净度硅片烘干槽，其特征在于：所述第一管路(7)的底部设置有排水管(10)。
4.如权利要求3所述的高洁净度硅片烘干槽，其特征在于：所述排水管(10)上设置有单向阀(11)。
5.如权利要求2或3所述的高洁净度硅片烘干槽，其特征在于：所述沥水腔(4)的底部形成有便于水渍汇聚至所述第一管路(7)中的斜坡底面。
6.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽，其特征在于：所述外壳(1)上还设置有与所述集气腔(12)连通的进风口(13)。
7.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽，其特征在于：所述支撑底板(2)上设置有对硅片载具进行快速定位的定位底座(14)。
8.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽，其特征在于：所述箱盖(6)受一驱动件(15)驱动进行自动开合动作。
9.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽，其特征在于：所述外壳(1)的外围表面上设置有加强筋(16)。
10.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽，其特征在于：所述外壳(1)的内壁表面贴合设置有PVDF或PTFE内衬(17)。
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| CN202222768421.1U CN218993858U (zh) | 2022-10-20 | 2022-10-20 | 一种高洁净度硅片烘干槽 |
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| CN218993858U true CN218993858U (zh) | 2023-05-09 |
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Family Applications (1)
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| CN202222768421.1U Active CN218993858U (zh) | 2022-10-20 | 2022-10-20 | 一种高洁净度硅片烘干槽 |
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2022
- 2022-10-20 CN CN202222768421.1U patent/CN218993858U/zh active Active
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