CN218854496U - 一种瓷砖釉料研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种瓷砖釉料研磨装置，包括支撑机构，设置在支撑机构上的研磨机构，设置在研磨机构下方的过滤机构，用于配合过滤机构使用的储料机构与收集罐，所述研磨机构包括呈镂空锥体设置的磨盘，转动设置在磨盘内侧的滚轮，设置在磨盘的下端、用于配合过滤机构使用的刮板，设置在磨盘上、且外侧设置有齿轮状凸起的集料斗，设置在集料斗的一侧、呈台体的传动齿轮；该研磨装置的研磨机构中外侧设置有齿轮状凸起的集料斗能够与传动齿轮配合来带动磨盘对釉料进行多次研磨，让设置在磨盘下端的刮板也会随之转动，从而对过滤机构的釉料进行筛选处理，确保该研磨装置的研磨效果均匀；而滚轮的设置能够让磨盘更加顺畅的进行研磨转动。
Description
技术领域
本实用新型具体涉及一种瓷砖釉料研磨装置。
背景技术
陶瓷的发展史是华夏文明的一个重要的组成部分，中国作为四大文明古国之一，为人类社会的进步和发展做出了卓越的贡献，其中瓷砖作为陶瓷中用于地面铺设，提高地面美观性的主角，瓷砖在制作过程为了提高瓷砖的美观性需要进行喷釉处理；而如今市面所买的釉料细腻程度较差，需要对其经过研磨装置的研磨才能满足给瓷砖进行喷釉的釉料细腻程度需要。
但现有的研磨装置从釉料进入到排出，整个过程中受到的研磨次数较少，不能保证研磨效果；另外是在研磨时，一些体积小的釉料容易直接从磨盘的缝隙中滑落使之没有经过研磨，影响最终成品的细腻度；再者是研磨的效果不均匀，使得研磨后的颗粒不均匀，影响后期加工效率。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型目的是提供一种能够对釉料进行多次研磨、不会让体积小的釉料从缝隙中滑落、并且研磨效果均匀的瓷砖釉料研磨装置。
为了解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是一种瓷砖釉料研磨装置，包括支撑机构，设置在支撑机构上的研磨机构，设置在研磨机构下方的过滤机构，用于配合过滤机构使用的储料机构与收集罐，所述研磨机构包括呈镂空锥体设置的磨盘，转动设置在磨盘内侧的滚轮，设置在磨盘的下端、用于配合过滤机构使用的刮板，设置在磨盘上、且外侧设置有齿轮状凸起的集料斗，设置在集料斗的一侧、呈台体的传动齿轮，设置传动齿轮上的电机，设置在收集罐上、用于电机固定的支撑架。
作为优选，所述磨盘的内测开设有配合滚轮使用的半圆槽、且在半圆槽的两端开设有用于滚轮固定的通孔。
作为优选，所述支撑机构包括呈锥体设置、且开设有环形凹槽的研磨座，设置在研磨座下方的固定柱。
进一步，所述过滤机构包括设置在研磨座的底端、呈C型的导料管，设置在导料管上的滤网，设置在导料管上、并通向收集罐的出料管。
进一步，所述储料机构包括位于导料管的C型缺口下方的储料罐，设置在储料罐上、并通向集料斗上方的引料管，设置在引料管上的釉料泵。
本实用新型技术效果主要体现在以下方面：该研磨装置通过在研磨座上开设环形凹槽不仅能够防止体积小的釉料从缝隙中直接滑落，让所有釉料都能够受到研磨，确保最终成品的细腻度，还能够与研磨机构中的滚轮配合，让磨盘能够更加顺畅的进行研磨转动；通过磨盘与研磨座的配合让釉料能够从头到尾进行多次的研磨，从而保证该研磨装置的研磨效果良好，其中研磨机构中外侧设置有齿轮状凸起的集料斗能够与传动齿轮配合来带动磨盘进行旋转研磨，而设置在磨盘下端的刮板也会随之转动，从而对过滤机构的釉料进行筛选处理，颗粒大小合格的釉料会经过滤网由导料管集中送向收集罐内，颗粒较大的釉料则会被刮板送中导料管的C型缺口处掉入储料罐内，在釉料泵的作用再次送入研磨机构进行研磨处理，确保该研磨装置的研磨效果均匀。
附图说明
图1为本实用新型一种瓷砖釉料研磨装置的结构图；
图2为图1中研磨机构的结构图；
图3为图2中的A部放大图；
图4为图1中过滤机构的结构图；
图5为图1中储料机构的结构图。
具体实施方式
以下结合附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步详述，以使本实用新型技术方案更易于理解和掌握。
在本实施例中，需要理解的是，术语“中间”、“上”、“下”、“顶部”、“右侧”、“左端”、“上方”、“背面”、“中部”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
另，在本具体实施方式中如未特别说明部件之间的连接或固定方式，其连接或固定方式均可为通过现有技术中常用的螺栓固定或钉销固定，或销轴连接等方式，因此，在本实施例中不在详述。
一种瓷砖釉料研磨装置，如图1所示，包括支撑机构1，设置在支撑机构1上的研磨机构2，设置在研磨机构2下方的过滤机构3，用于配合过滤机构3使用的储料机构4与收集罐5。
结合图1所示，所述支撑机构1包括呈锥体设置、且开设有环形凹槽的研磨座11，设置在研磨座11下方的固定柱12。通过在研磨座11上开设环形凹槽不仅能够防止体积小的釉料从缝隙中直接滑落，让所有釉料都能够受到研磨，确保最终成品的细腻度，还能够与研磨机构2中的滚轮22配合，让磨盘21能够更加顺畅的进行研磨转动。
如图2-3所示，所述研磨机构2包括呈镂空锥体设置的磨盘21，转动设置在磨盘21内侧的滚轮22，设置在磨盘21的下端、用于配合过滤机构3使用的刮板23，设置在磨盘21上、且外侧设置有齿轮状凸起的集料斗24，设置在集料斗24的一侧、呈台体的传动齿轮25，设置传动齿轮25上的电机26，设置在收集罐5上、用于电机26固定的支撑架27；所述磨盘21的内测开设有配合滚轮22使用的半圆槽、且在半圆槽的两端开设有用于滚轮22固定的通孔。通过磨盘21与研磨座11的配合让釉料能够从头到尾进行多次的研磨，从而保证该研磨装置的研磨效果良好，其中研磨机构2中外侧设置有齿轮状凸起的集料斗24能够与传动齿轮25配合来带动磨盘21进行旋转研磨，而设置在磨盘21下端的刮板23也会随之转动，从而对过滤机构3的釉料进行筛选处理，颗粒大小合格的釉料会经过滤网32由导料管31集中送向收集罐5内，颗粒较大的釉料则会被刮板23送中导料管31的C型缺口处掉入储料罐41内，在釉料泵43的作用再次送入研磨机构2进行研磨处理。
如图4-5所示，所述过滤机构3包括设置在研磨座11的底端、呈C型的导料管31，设置在导料管31上的滤网32，设置在导料管31上、并通向收集罐5的出料管33。所述储料机构4包括位于导料管31的C型缺口下方的储料罐41，设置在储料罐41上、并通向集料斗24上方的引料管42，设置在引料管42上的釉料泵43。通过过滤机构3对研磨好的釉料的筛选，符合要求的则由导料管31集中送向收集罐5内，不符合的便会送入储料罐41中由釉料泵43的作用再次送入研磨机构2进行研磨处理，确保该研磨装置的研磨效果均匀。
本实用新型技术效果主要体现在以下方面：该研磨装置通过在研磨座上开设环形凹槽不仅能够防止体积小的釉料从缝隙中直接滑落，让所有釉料都能够受到研磨，确保最终成品的细腻度，还能够与研磨机构中的滚轮配合，让磨盘能够更加顺畅的进行研磨转动；通过磨盘与研磨座的配合让釉料能够从头到尾进行多次的研磨，从而保证该研磨装置的研磨效果良好，其中研磨机构中外侧设置有齿轮状凸起的集料斗能够与传动齿轮配合来带动磨盘进行旋转研磨，而设置在磨盘下端的刮板也会随之转动，从而对过滤机构的釉料进行筛选处理，颗粒大小合格的釉料会经过滤网由导料管集中送向收集罐内，颗粒较大的釉料则会被刮板送中导料管的C型缺口处掉入储料罐内，在釉料泵的作用再次送入研磨机构进行研磨处理，确保该研磨装置的研磨效果均匀。
当然，以上只是本实用新型的典型实例，除此之外，本实用新型还能够有其它多种具体实施方式，凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本实用新型要求保护的范围之内。
Claims (5)
1.一种瓷砖釉料研磨装置，包括支撑机构，设置在支撑机构上的研磨机构，设置在研磨机构下方的过滤机构，用于配合过滤机构使用的储料机构与收集罐，其特征在于：所述研磨机构包括呈镂空锥体设置的磨盘，转动设置在磨盘内侧的滚轮，设置在磨盘的下端、用于配合过滤机构使用的刮板，设置在磨盘上、且外侧设置有齿轮状凸起的集料斗，设置在集料斗的一侧、呈台体的传动齿轮，设置传动齿轮上的电机，设置在收集罐上、用于电机固定的支撑架。
2.如权利要求1所述的一种瓷砖釉料研磨装置，其特征在于：所述磨盘的内测开设有配合滚轮使用的半圆槽、且在半圆槽的两端开设有用于滚轮固定的通孔。
3.如权利要求1所述的一种瓷砖釉料研磨装置，其特征在于：所述支撑机构包括呈锥体设置、且开设有环形凹槽的研磨座，设置在研磨座下方的固定柱。
4.如权利要求3所述的一种瓷砖釉料研磨装置，其特征在于：所述过滤机构包括设置在研磨座的底端、呈C型的导料管，设置在导料管上的滤网，设置在导料管上、并通向收集罐的出料管。
5.如权利要求4所述的一种瓷砖釉料研磨装置，其特征在于：所述储料机构包括位于导料管的C型缺口下方的储料罐，设置在储料罐上、并通向集料斗上方的引料管，设置在引料管上的釉料泵。
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