CN218834780U - 一种立式搅拌球磨机下料机构 - Google Patents

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樊文博
孙博阳
屠振华
张雨源
李晏杰
杨欢欢
杨小琦
闫越峰
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404 Co Ltd China National Nuclear Corp
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404 Co Ltd China National Nuclear Corp
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Abstract

本实用新型涉及粉末冶金球磨技术领域,尤其涉及一种立式搅拌球磨机下料机构。所述下料机构设置于立式搅拌球磨机底部,包括:筛分盘面和封堵拉杆;所述封堵拉杆为一根金属杆连接一面筛盘面;所述筛盘面连接于筛分盘面中心,相对于筛分盘面上下移动,用于遮盖和漏出卸料口;所述筛分盘面的中心设置有卸料口,所述卸料口被筛盘面覆盖,卸料口周围留有孔隙,所述孔隙不大于5mm。本实用新型减少立式搅拌球磨机物料滞留,提高球磨工艺稳定性。

Description

一种立式搅拌球磨机下料机构
技术领域
本实用新型涉及粉末冶金球磨技术领域,尤其涉及一种立式搅拌球磨机下料机构。
背景技术
立式循环搅拌球磨主要工作原理及流程为:搅拌球磨机下部设有下料接口,伴随球磨机不断球磨破碎粉末,粉末经由下部接口流出,再通过物料循环装置,经球磨机上部入料口将粉末不断输入球磨机,从而实现物料不断循环又不断球磨破碎的效果。这类处理方式的优点在于因物料不断的循环进入球磨罐内,物料可以频繁的在罐内重新分布,其物料球磨处理的均匀性较好。其应用风险点在于,球磨破碎颗粒较细粉末,粉末易在物料循环过程中产生堵积滞留。
根据M06线《球磨系统设计定型文件》技术指标要求,需要对模拟粉末物料进行破碎研磨。在粉末球磨破碎研磨的过程中,随着物料粉末粒度下降,粉末粘结性升高,物料流通能力下降,从罐内卸出难度变大。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是:提供一种立式搅拌球磨机下料机构,减少立式搅拌球磨机物料滞留,提高球磨工艺稳定性。
本实用新型提供了一种立式搅拌球磨机下料机构,所述下料机构设置于立式搅拌球磨机底部,包括:筛分盘面和封堵拉杆;
所述封堵拉杆为一根金属杆连接一面筛盘面;所述筛盘面连接于筛分盘面中心,相对于筛分盘面上下移动,用于遮盖和漏出卸料口;
所述筛分盘面的中心设置有卸料口,所述卸料口被筛盘面覆盖,卸料口周围留有孔隙,所述孔隙不大于5mm。
优选地,所述筛分盘面留有环状孔隙。
优选地,所述筛分盘面的直径为240~260mm。
优选地,所述筛盘面的直径为80~100mm。
优选地,所述孔隙在筛分盘面上均匀分布。
与现有技术相比,本实用新型的立式搅拌球磨机下料机构,通过筛分盘面将魔球与物料粉末进行分离,利用封堵拉杆的向上运动,可漏出卸料口,用于定期卸处磨球。所述下料机构保证了物料流通顺畅且不引入磨球,减少立式搅拌球磨机物料滞留,提高球磨工艺稳定性。
附图说明
图1表示立式搅拌球磨机下料机构的结构示意图;
图2表示立式搅拌球磨机下料机构的机的侧视图;
图中,
1-筛分盘面,2-封堵拉杆,3-金属杆,4-筛盘面。
具体实施方式
为了进一步理解本实用新型,下面结合实施例对本实用新型的实施方案进行描述,但是应当理解,这些描述只是为进一步说明本实用新型的特征和优点,而不是对本实用新型的限制。
本实用新型的实施例公开了一种立式搅拌球磨机下料机构,如图1和2所示,所述下料机构设置于立式搅拌球磨机底部,包括:筛分盘面1和封堵拉杆2;
所述封堵拉杆2为一根金属杆3连接一面筛盘面4;所述筛盘面4连接于筛分盘面1中心,相对于筛分盘面1上下移动,用于遮盖和漏出卸料口;
所述筛分盘面1的中心设置有卸料口,所述卸料口被筛盘面4覆盖,卸料口周围留有孔隙,所述孔隙不大于5mm。
所述孔隙优选为环状,在筛分盘面上均匀分布,以利于物料粉末流场地从孔隙中排出,且截留磨球。
所述筛分盘面1连接于立式搅拌球磨机的底部出料处,其直径为240~260mm,优选为250mm。还可以根据立式搅拌球磨机的出料口尺寸进行调整。
封堵拉杆2包括相互连接的一根金属杆3和筛盘面4,封堵拉杆2可拖动拉开,露出卸料口
所述筛盘面的直径优选为80~100mm。
为了进一步理解本实用新型,下面结合实施例对本实用新型提供的立式搅拌球磨机下料机构进行详细说明,本实用新型的保护范围不受以下实施例的限制。
实施例1
图1为下料筛盘结构示意图,其整体尺寸为φ250mm,由两部分组成,一个是筛分盘面,一个是封堵拉杆。筛分盘面留有环状孔隙,可用于筛分直径≥5mm磨球;封堵拉杆置于筛分盘面之上,其结构为一根金属杆连接一面尺寸约为φ80mm的小型筛盘面,当其拖动拉开,筛分盘面将露出一个φ80mm尺寸的卸料口,用于卸除磨球;当其未拉开,小型晒盘面封堵大筛分盘面时,筛分盘面不通过磨球,只通过物料粉末。
根据上述技术方案,在模拟料立式搅拌循环球磨过程中使用,以下是立式搅拌循环球磨工艺参数:
表1.球磨工艺表
Figure BDA0003913322190000031
表2.使用下料筛盘后球磨实验结果
Figure BDA0003913322190000032
Figure BDA0003913322190000041
可以看到,使用该下料机构,单次球磨循环时间稳定,滞留量基本稳定,球磨效果明显,未在实验过程中发生粉末堵积的情况;经现场技术人员查验,滞留量主要为磨球粘附物料,下料机构功能实现完整。
实施例2
对照实例1,采用不同的投料量与球料比,查看下料机构是否能够稳定使用。
表3.对照球磨工艺表
Figure BDA0003913322190000042
以下是球磨过程中粒度变化及滞留料增加情况:
表4.第二组穿球磨实验结果
Figure BDA0003913322190000043
可以看到,球磨效果、单次循环时间、滞留量情况依旧稳定,下料机构未发生堵积等异常情况。
在整个球磨过程完成后,拉开封堵拉杆,磨球经由筛盘预留下料口正常下料,可将罐内磨球卸除以进行磨球更换。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以对本实用新型进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (5)

1.一种立式搅拌球磨机下料机构,其特征在于,所述下料机构设置于立式搅拌球磨机底部,包括:筛分盘面和封堵拉杆;
所述封堵拉杆为一根金属杆连接一面筛盘面;所述筛盘面连接于筛分盘面中心,相对于筛分盘面上下移动,用于遮盖和漏出卸料口;
所述筛分盘面的中心设置有卸料口,所述卸料口被筛盘面覆盖,卸料口周围留有孔隙,所述孔隙不大于5mm。
2.根据权利要求1所述的立式搅拌球磨机下料机构,其特征在于,所述筛分盘面留有环状孔隙。
3.根据权利要求1所述的立式搅拌球磨机下料机构,其特征在于,所述筛分盘面的直径为240~260mm。
4.根据权利要求1所述的立式搅拌球磨机下料机构,其特征在于,所述筛盘面的直径为80~100mm。
5.根据权利要求1所述的立式搅拌球磨机下料机构,其特征在于,所述孔隙在筛分盘面上均匀分布。
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