CN218797030U - 一种晶片表面自动涂源设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种晶片表面自动涂源设备，包括连续传送晶片的传送机构，所述传送机构的顶端输入端的一侧设有涂源机构，在涂源机构的一侧设有与涂源机构配合使用的涂源料箱，所述传送机构的输出端设有风干机构，在传送机构上设有与涂源机构以及风干机构配合使用的晶片固定盒，所述传送机构的底部设有用于收集加工好晶片的收集箱，本实用新型中通过设置传送机构实现对晶片的连续传送，并配合涂源机构和风干机构，实现了对晶片的连续涂源。

Description

一种晶片表面自动涂源设备

技术领域

本实用新型涉及晶片涂源机构技术领域，特别涉及一种晶片表面自动涂源设备。

背景技术

半导体晶片的生产工艺需要在硼扩生产前进行空面涂源,对己清洗好的晶片硼扩前需要进行涂源、烘烤、收片、装舟等操作。

在实现本申请过程中,发明人发现该技术中至少存在如下问题,半导体晶片在进行加工时,其涂源工序及烘烤工序通常都是分开进行的,其中需要转运环节,较为繁琐,而且每涂源完成一个晶片后,需要将晶片取下才能进行下一个晶片的涂源加工,这些都会影响晶片的加工效率,因此,提出一种晶片表面自动涂源设备。

经检索，中国专利申请号CN202221422815.5公开了一种晶片表面自动涂源设备,包括加工台,加工台的上方设有转盘,转盘与加工台共同连接有旋转驱动机构,加工台的上端固定连接有支撑架,支撑架的上端左侧固定插接有气缸一,气缸一的输出端固定连接有烘千盒,烘千盒的内部固定设有多个加热棒,支撑架的上端远离气缸一的一侧开设有条形孔,条形孔的内部转动连接有活动块，活动块的上端固定插接有气缸二,气缸二.的输出端固定连接有U形板。本申请可以集上下料.烘千及涂源三工位于一体,通过三工位的旋转设计，有效提高整体的加工效率,同时通过真空吸附固定,上下料也较为方便,加工时也较为稳定性，以上专利虽然解决了上述背景技术中的问题，但是还是存在以下缺陷，以上专利不能连续进行涂源，使得其涂源效率低下。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种晶片表面自动涂源设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种晶片表面自动涂源设备，包括连续传送晶片的传送机构，所述传送机构的顶端输入端的一侧设有涂源机构，在涂源机构的一侧设有与涂源机构配合使用的涂源料箱，所述传送机构的输出端设有风干机构，在传送机构上设有与涂源机构以及风干机构配合使用的晶片固定盒，所述传送机构的底部设有用于收集加工好晶片的收集箱。

作为本实用新型优选的方案，所述传送机构包括底板，所述底板的顶端沿着其宽度方向的两侧均设有挡板，在两个挡板之间的两侧设有传送辊轮，两个传送辊轮之间套设有传送皮带，其中一个挡板靠近其中一个传送辊轮上设有驱动传送辊轮转动的电机。

作为本实用新型优选的方案，所述晶片固定盒设置在所述传送皮带上，且每个晶片固定盒内均设有吸盘，所述底板的底部设有与收集箱配合使用的避让槽，所述底板底部的四个拐角处均设有支撑柱。

作为本实用新型优选的方案，所述涂源机构包括设置在两个挡板顶端之间且倒置设置的第一U型架，在第一U型架顶端中心处设有书输出端朝下设置的第一电动伸缩杆，所述第一电动伸缩杆的输出端贯穿第一U型架并连接有涂源板，所述涂源板的底部设有若干个均匀分布的涂源孔。

作为本实用新型优选的方案，所述涂源板的顶端设有连接口，所述涂源料箱与第一U型架之间通过连接管连接，所述连接管与连接口之间通过伸缩软管连接。

作为本实用新型优选的方案，所述风干机构包括设置在两个挡板之间且倒置的第二U型架，在第二U型架的顶端设有输出端朝下设置的第二电动伸缩杆，所述第二电动伸缩杆的输出端贯穿第二U型架并连接有风机。

有益效果：针对现有技术中不能连续进行涂源，使得其涂源效率低下的问题，本实用新型中通过设置传送机构实现对晶片的连续传送，并配合涂源机构和风干机构，实现了对晶片的连续涂源。

附图说明

图1为本实用新型的立体图；

图2为本实用新型的涂源机构局部立体图；

图3为本实用新型的涂源板立体图；

图4为本实用新型的风干机构局部立体图。

图中：1、传送机构；101、底板；102、挡板；103、传送辊轮；104、传送皮带；105、电机；2、支撑柱；3、涂源机构；301、第一U型架；302、第一电动伸缩杆；303、涂源板；304、连接口；305、涂源孔；4、风干机构；401、第二U型架；402、第二电动伸缩杆；403、风机；5、涂源料箱；501、连接管；502、伸缩软管；6、收集箱；7、晶片固定盒。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例,基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的若干实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种晶片表面自动涂源设备，包括连续传送晶片的传送机构1，传送机构1的顶端输入端的一侧设有涂源机构3，在涂源机构3的一侧设有与涂源机构3配合使用的涂源料箱5，传送机构1的输出端设有风干机构4，在传送机构1上设有与涂源机构3以及风干机构4配合使用的晶片固定盒7，传送机构1的底部设有用于收集加工好晶片的收集箱6，本实用新型提供一种晶片表膜自动涂源设备，主要用于完成对晶片的连续涂源，在使用时，首先将每个晶片放置在对应的晶片固定盒内，启动吸盘，将晶片吸住，然后启动电机带动传送带传送，在涂源料箱内设有泵机，将涂源原料从涂源料箱抽到涂源板内的空腔，通过第一电动伸缩伸张至晶片上方，即可启动泵机将涂源原料均匀涂抹在晶片上，接着传送到将涂源好的晶片传送至风干机构，通过伸张电动伸缩杆启动风机对其进行加速干燥，干燥完成后，将晶片传送至下方避让槽处，松开吸盘，使得晶片落入到收集箱内即可。

具体的，传送机构1包括底板101，底板101的顶端沿着其宽度方向的两侧均设有挡板102，在两个挡板102之间的两侧设有传送辊轮103，两个传送辊轮103之间套设有传送皮带104，其中一个挡板102靠近其中一个传送辊轮103上设有驱动传送辊轮103转动的电机105，晶片固定盒7设置在传送皮带104上，且每个晶片固定盒7内均设有吸盘，底板101的底部设有与收集箱6配合使用的避让槽，底板101底部的四个拐角处均设有支撑柱2。

具体的，涂源机构3包括设置在两个挡板102顶端之间且倒置设置的第一U型架301，在第一U型架301顶端中心处设有书输出端朝下设置的第一电动伸缩杆302，第一电动伸缩杆302的输出端贯穿第一U型架301并连接有涂源板303，涂源板303的底部设有若干个均匀分布的涂源孔305，涂源板303的顶端设有连接口304，涂源料箱5与第一U型架301之间通过连接管501连接，连接管501与连接口304之间通过伸缩软管502连接。

具体的，风干机构4包括设置在两个挡板102之间且倒置的第二U型架401，在第二U型架401的顶端设有输出端朝下设置的第二电动伸缩杆402，第二电动伸缩杆402的输出端贯穿第二U型架401并连接有风机403。

综上，本实用新型中通过设置传送机构实现对晶片的连续传送，并配合涂源机构和风干机构，实现了对晶片的连续涂源。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其效物界定。

Claims (6)

1.一种晶片表面自动涂源设备，包括连续传送晶片的传送机构(1)，其特征在于：所述传送机构(1)的顶端输入端的一侧设有涂源机构(3)，在涂源机构(3)的一侧设有与涂源机构(3)配合使用的涂源料箱(5)，所述传送机构(1)的输出端设有风干机构(4)，在传送机构(1)上设有与涂源机构(3)以及风干机构(4)配合使用的晶片固定盒(7)，所述传送机构(1)的底部设有用于收集加工好晶片的收集箱(6)。

2.根据权利要求1所述的一种晶片表面自动涂源设备，其特征在于：所述传送机构(1)包括底板(101)，所述底板(101)的顶端沿着其宽度方向的两侧均设有挡板(102)，在两个挡板(102)之间的两侧设有传送辊轮(103)，两个传送辊轮(103)之间套设有传送皮带(104)，其中一个挡板(102)靠近其中一个传送辊轮(103)上设有驱动传送辊轮(103)转动的电机(105)。

3.根据权利要求2所述的一种晶片表面自动涂源设备，其特征在于：所述晶片固定盒(7)设置在所述传送皮带(104)上，且每个晶片固定盒(7)内均设有吸盘，所述底板(101)的底部设有与收集箱(6)配合使用的避让槽，所述底板(101)底部的四个拐角处均设有支撑柱(2)。

4.根据权利要求1所述的一种晶片表面自动涂源设备，其特征在于：所述涂源机构(3)包括设置在两个挡板(102)顶端之间且倒置设置的第一U型架(301)，在第一U型架(301)顶端中心处设有书输出端朝下设置的第一电动伸缩杆(302)，所述第一电动伸缩杆(302)的输出端贯穿第一U型架(301)并连接有涂源板(303)，所述涂源板(303)的底部设有若干个均匀分布的涂源孔(305)。

5.根据权利要求4所述的一种晶片表面自动涂源设备，其特征在于：所述涂源板(303)的顶端设有连接口(304)，所述涂源料箱(5)与第一U型架(301)之间通过连接管(501)连接，所述连接管(501)与连接口(304)之间通过伸缩软管(502)连接。

6.根据权利要求1所述的一种晶片表面自动涂源设备，其特征在于：所述风干机构(4)包括设置在两个挡板(102)之间且倒置的第二U型架(401)，在第二U型架(401)的顶端设有输出端朝下设置的第二电动伸缩杆(402)，所述第二电动伸缩杆(402)的输出端贯穿第二U型架(401)并连接有风机(403)。

Images