CN218655761U - 一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，该清洗装置包括固定套，固定套固定于涂胶腔体内的腔底板上且套装于涂胶显影机的旋转主轴上，旋转主轴的上端从固定套中露出且固定有真空吸盘，旋转主轴上还固定有清洗盘，清洗盘处于真空吸盘的下方，清洗盘上设置有清洗液喷淋环槽，清洗盘的侧壁上设置有与清洗液喷淋环槽连通的清洗孔，清洗孔朝向涂胶腔体的侧壁，固定套上固定有与清洗液供液管路连通的出液嘴，出液嘴伸入清洗液喷淋环槽内将清洗液喷入清洗液喷淋环槽内，旋转主轴由主轴旋转动力装置驱动；该装置能在旋转主轴旋转时对涂胶腔体的侧壁进行清洗，且无需拆除装置，大大提高了清洗效率和生产效率。

Description

一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置

技术领域

本实用新型涉及涂胶显影机的涂胶腔体清洗技术领域，尤其涉及一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置。

背景技术

涂胶显影机是制造半导体的常用设备，一般用于光刻胶涂布及显影等工艺；涂胶显影机是实施光刻胶涂布和显影去胶的主体，光刻胶涂布的过程一般包括将硅片安置于涂胶显影机，由涂胶显影机的光刻胶喷嘴向硅片表面喷上光刻胶，通过硅片的旋转使硅片上的光刻胶涂抹均匀，目前，涂胶显影机包括外壳，所述外壳内设有涂胶腔体，在硅片的旋转过程中会产生以下缺陷：在硅片离心过程中，多余的光刻胶通过离心力会甩到涂胶腔体的侧壁上，不断积累后导致涂胶腔体的侧壁上的光刻胶越来越多，影响硅片的转动，同时由于涂胶腔体的侧壁上的光刻胶越来越多，导致离硅片也会越来越近，离心甩出的光刻胶接触到侧壁上的光刻胶会发生回弹，溅射到硅片上导致涂抹不均匀；因此需要给涂胶腔体的侧壁定时清洗，这是需要进行装置的拆除，此时就无法进行光刻胶涂布，影响效率；因此提供一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，该装置能在旋转主轴旋转时对涂胶腔体的侧壁进行清洗，有效减少了光刻胶附着在涂胶腔体的侧壁，且无需拆除装置，大大提高了清洗效率和生产效率。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，该清洗装置安装于涂胶显影机的外壳内，所述涂胶腔体设置于外壳内部，该清洗装置包括固定套，所述固定套固定于涂胶腔体内的腔底板上且套装于涂胶显影机的旋转主轴上，所述旋转主轴的上端从固定套中露出且固定有真空吸盘，所述旋转主轴上还固定有清洗盘，所述清洗盘处于真空吸盘的下方，所述清洗盘上设置有清洗液喷淋环槽，所述清洗盘的侧壁上设置有与清洗液喷淋环槽连通的清洗孔，所述清洗孔朝向涂胶腔体的侧壁，所述固定套上固定有与清洗液供液管路连通的出液嘴，所述出液嘴伸入所述清洗液喷淋环槽内将清洗液喷入清洗液喷淋环槽内，所述旋转主轴由主轴旋转动力装置驱动。

作为一种优选的方案，所述固定套的外周设置有将从清洗液喷淋环槽流出的清洗液导流至涂胶腔体腔底的导流结构。

作为一种优选的方案，所述导流结构包括导流锥套，所述导流锥套的上端为小口径端，下端为大口径端，所述导流锥套的小口径端固定在所述固定套的外周。

作为一种优选的方案，所述清洗孔朝斜向上方设置。

作为一种优选的方案，所述涂胶腔体内还安装有对真空吸盘上的硅片边缘进行喷淋清洗的边缘清洗机构。

作为一种优选的方案，所述边缘清洗机构包括升降安装有外壳外部的升降座，所述升降座由升降动力装置驱动，所述升降座上转动安装有旋转轴，所述旋转轴的上端伸入到外壳内，所述涂胶腔体内安装有套装在所述旋转轴外的伸缩套，所述伸缩套的上端安装有偏转轴，所述偏转轴与所述旋转轴固定，所述偏转轴的自由端安装有对硅片边缘倾斜喷淋的喷头，所述喷头与清洗管道连通，所述清洗管道从偏转轴和伸缩套内穿过并延伸至外壳的下方，所述升降座上安装有驱动所述偏转轴偏转的偏转动力装置。

作为一种优选的方案，所述喷头的喷射方向与硅片平面的夹角为15-30°。

采用了上述技术方案后，本实用新型的效果是：由于涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，该清洗装置安装于涂胶显影机的外壳内，所述涂胶腔体设置于外壳内部，该清洗装置包括固定套，所述固定套固定于涂胶腔体内的腔底板上且套装于涂胶显影机的旋转主轴上，所述旋转主轴的上端从固定套中露出且固定有真空吸盘，所述旋转主轴上还固定有清洗盘，所述清洗盘处于真空吸盘的下方，所述清洗盘上设置有清洗液喷淋环槽，所述清洗盘的侧壁上设置有与清洗液喷淋环槽连通的清洗孔，所述清洗孔朝向涂胶腔体的侧壁，所述固定套上固定有与清洗液供液管路连通的出液嘴，所述出液嘴伸入所述清洗液喷淋环槽内将清洗液喷入清洗液喷淋环槽内，所述旋转主轴由主轴旋转动力装置驱动；首先主轴旋转动力装置驱动旋转主轴转动，接着带动清洗盘转动，此时清洗液供液管路输出清洗液从出液嘴喷出，接着将清洗液喷入清洗液喷淋环槽内，清洗盘经过旋转产生离心力使处于清洗液喷淋环槽内的清洗液从清洗孔甩出，从而使清洗液均匀喷洒在涂胶腔体的侧壁上，从而清洗涂胶腔体的侧壁上的光刻胶；该装置能在旋转主轴旋转时对涂胶腔体的侧壁进行清洗，有效减少了光刻胶附着在涂胶腔体的侧壁，且无需拆除装置，大大提高了清洗效率和生产效率。

又由于所述固定套的外周设置有将从清洗液喷淋环槽流出的清洗液导流至涂胶腔体腔底的导流结构；这样能使清洗液进行导流导向而快速排出，使涂胶腔体的侧壁上的光刻胶有效的清除。

又由于所述导流结构包括导流锥套，所述导流锥套的上端为小口径端，下端为大口径端，所述导流锥套的小口径端固定在所述固定套的外周；所述导流锥套被分为小口径端喝大口径端，这样锥面就形成了一个由小到大的形状，当硅片甩出清洗液后，对清洗液摔到涂胶腔体的侧壁上后会发生滴落，当滴在导流锥套上后就能进行导流导向，使清洗液向侧壁进行流动，对侧壁进行充分的清洁，也方便清洁液集中排液。

又由于所述清洗孔朝斜向上方设置；由于在涂胶时，在真空吸盘上的硅片离心后将光刻胶甩出后会先到达涂胶腔体的上端，此时光刻胶还没凝固，会向下流动，因此向斜上设置能很好清洗光刻胶溅射的区域，保证清洗效率。

又由于所述涂胶腔体内还安装有对真空吸盘上的硅片边缘进行喷淋清洗的边缘清洗机构；能对涂胶腔体进行进一步的清洗，同时与清洗孔内甩出的清洗液产生的溅射相互抵消，避免清洗孔内甩出的清洗液溅射到真空吸盘上影响生产质量。

又由于所述边缘清洗机构包括升降安装有外壳外部的升降座，所述升降座由升降动力装置驱动，所述升降座上转动安装有旋转轴，所述旋转轴的上端伸入到外壳内，所述涂胶腔体内安装有套装在所述旋转轴外的伸缩套，所述伸缩套的上端安装有偏转轴，所述偏转轴与所述旋转轴固定，所述偏转轴的自由端安装有对硅片边缘倾斜喷淋的喷头，所述喷头与清洗管道连通，所述清洗管道从偏转轴和伸缩套内穿过并延伸至外壳的下方，所述升降座上安装有驱动所述偏转轴偏转的偏转动力装置；这样就能控制边缘清洗机构的转动和升降，需要进行清洗时，通过升降动力装置驱动升降座上升，从而带动伸缩套伸出，使偏转轴的自由端高于涂胶腔体，接着偏转动力装置控制喷头偏转对准真空吸盘上的硅片边缘，使边缘清洗机构的灵活度提高，适应不同高度大小的涂胶腔体。

又由于所述喷头的喷射方向与硅片平面的夹角为15-30°，该角度能使喷头喷淋后的清洗效果最大化，提高清洗效率。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型实施例的立体图；

图2是本实用新型实施例的右侧的结构示意图；

图3是本实用新型实施例的俯视图；

图4是图3在A-A处的剖视图；

图5是图3在B-B处的剖视图；

图6是本实用新型实施例的涂胶腔体内的结构示意图；

附图中：1、外壳；2、腔底板；3、固定套；4、旋转主轴；5、真空吸盘；6、清洗盘；61、清洗液喷淋环槽；62、清洗孔；7、出液嘴；8、清洗液供液管路；9、第一电机；10、导流锥套；11、直线气缸；12、气缸支座；13、连接板；14、升降座；15、第二电机；16、旋转轴；17、偏转轴；18、伸缩套；19、喷头；20、旋转轴承；21、涂胶腔体。

具体实施方式

下面通过具体实施例对本实用新型作进一步的详细描述。

如图1至图6所示，一种涂胶显影机的涂胶腔体21清洗装置，该清洗装置安装于涂胶显影机的外壳1内，所述涂胶腔体21设置于外壳1内部，该清洗装置包括固定套3，所述固定套3固定于涂胶腔体21内的腔底板2上且套装于涂胶显影机的旋转主轴4上，所述旋转主轴4的上端从固定套3中露出且固定有真空吸盘5，所述旋转主轴4上还固定有清洗盘6，所述清洗盘6处于真空吸盘5的下方，所述清洗盘6上设置有清洗液喷淋环槽61，所述清洗盘6的侧壁上设置有与清洗液喷淋环槽61连通的清洗孔62，所述清洗孔62朝向涂胶腔体21的侧壁，所述固定套3上固定有与清洗液供液管路8连通的出液嘴7，所述出液嘴7伸入所述清洗液喷淋环槽61内将清洗液喷入清洗液喷淋环槽61内，所述旋转主轴4由主轴旋转动力装置驱动。

在本实施例中，所述主轴旋转动力装置包括第一电机9，所述第一电机9带动旋转主轴4转动，所述旋转主轴4上套装由旋转轴承20，方便第一电机9驱动旋转，接着所述旋转主轴4带动真空吸盘5和清洗盘6转动，这样就能在旋转过程中使清洗液从清洗孔62内甩出，完成喷洒。

如图3所示，所述固定套3的外周设置有将从清洗液喷淋环槽61流出的清洗液导流至涂胶腔体21腔底的导流结构，

这样能使清洗液进行导流导向而快速排出，使涂胶腔体21的侧壁上的光刻胶有效的清除。

涂胶腔体21进一步的，所述导流结构包括导流锥套10，所述导流锥套10的上端为小口径端，下端为大口径端，所述导流锥套10的小口径端固定在所述固定套3的外周，所述导流锥套10为圆锥形，开口由小变大，形成了一定的斜度且当真空吸盘5上的硅片旋转时甩出的光刻胶与涂胶腔体21接触时，清洗液会溅射到旋转主轴4上，因此清洗液会向下流动，接着经过导流锥套10的导流避免清洗液进入第一电机9影响转动，也能进一步集中清洗液，对光刻胶清除后，方便从排液口36排出。

进一步的，所述清洗孔62朝斜向上方设置，由于在涂胶时，在真空吸盘5上的硅片离心后将光刻胶甩出后会先到达涂胶腔体21的上端，此时光刻胶还没凝固，会向下流动，因此向斜上设置能很好清洗光刻胶溅射的区域，保证清洗效率。

所述涂胶腔体21的上端为圆锥状，涂胶腔体21的下端为圆柱状，所述圆锥状部分对应真空吸盘5涂胶甩出的位置，因此斜面能很好的减少光刻胶的冲击，减少光刻胶的溅射，并且能集中清洗液沿着涂胶腔体21的侧壁向下流动，保证清洗效率。

如图2和图3所示，所述涂胶腔体21内还安装有对真空吸盘5上的硅片边缘进行喷淋清洗的边缘清洗机构；能对涂胶腔体21进行进一步的清洗，同时与清洗孔62内甩出的清洗液产生的溅射相互抵消，避免清洗孔62内甩出的清洗液溅射到真空吸盘5上影响生产质量。

在本实施例中，所述边缘清洗机构包括升降安装有外壳1外部的升降座14，所述升降座14由升降动力装置驱动，所述升降座14上转动安装有旋转轴16，所述旋转轴16的上端伸入到外壳1内，所述涂胶腔体21内安装有套装在所述旋转轴16外的伸缩套18，所述伸缩套18的上端安装有偏转轴17，所述偏转轴17与所述旋转轴16固定，所述偏转轴17的自由端安装有对硅片边缘倾斜喷淋的喷头19，所述喷头19与清洗管道连通，所述清洗管道从偏转轴17和伸缩套18内穿过并延伸至外壳1的下方，所述升降座14上安装有驱动所述偏转轴17偏转的偏转动力装置；所述升降动力装置包括直线气缸11，所述腔底板2下方固定安装有固定所述直线气缸11的气缸支座12，所示直线气缸11的导杆上固定安装有连接板13与升降座14连接，所述偏转动力装置包括第二电机15，这样直线气缸11不动，伸缩导杆控制升降座14的升降，这样不影响第二电机15的转动，保证边缘清洗机构运转的流畅性，且伸缩套18能跟随旋转轴16任意上升下降，有效保护旋转轴16不受外部因素影响，这样边缘清洗机构的灵活度提高，适应不同高度大小的涂胶腔体21。

进一步的，所述喷头19的喷射方向与硅片平面的夹角为15-30°，该角度能使喷头19喷淋后的清洗效果最大化，提高清洗效率。

本实施例的工作原理：首先第一气缸驱动旋转主轴4旋转，旋转主轴4带动清洗盘6转动，此时，清洗液供液管路8输送清洗液至出液嘴7，出液嘴7喷洒清洗液至清洗液喷淋环槽61内，处于清洗液喷淋环槽61内的清洗液通过离心旋转，这样就会从清洗孔62内甩出，这样清洗液就喷洒至涂胶腔体21的圆锥面上，同时直线气缸11伸出导杆，带动升降座14上升，从而使喷头19高于涂胶腔体21，第二电机15驱动旋转轴16旋转，再带动偏转轴17偏转，使喷头19处于真空吸盘5正上方，再通过直线气缸11调整喷头19高度使喷头19的喷洒方向朝向涂胶腔体21开口的侧壁方向，清洗管道输送清洗液开始喷洒，接着再由导流锥套10经过上下清洗液的冲刷导流至腔底板上，使清洗液沿着侧壁均匀向下流动，对涂胶腔体21内整体清洁，冲刷完成后，清洗液供液管路8和清洗管道停止输送清洗液，第一电机9停止驱动，同时第二电机15驱动旋转轴16复位，直线气缸11驱动下降。

以上所述实施例仅是对本实用新型的优选实施方式的描述，不作为对本实用新型范围的限定，在不脱离本实用新型设计精神的基础上，对本实用新型技术方案作出的各种变形和改造，均应落入本实用新型的权利要求书确定的保护范围内。

Claims (7)

1.一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，该清洗装置安装于涂胶显影机的外壳内，所述涂胶腔体设置于外壳内部，其特征在于：该清洗装置包括固定套，所述固定套固定于涂胶腔体内的腔底板上且套装于涂胶显影机的旋转主轴上，所述旋转主轴的上端从固定套中露出且固定有真空吸盘，所述旋转主轴上还固定有清洗盘，所述清洗盘处于真空吸盘的下方，所述清洗盘上设置有清洗液喷淋环槽，所述清洗盘的侧壁上设置有与清洗液喷淋环槽连通的清洗孔，所述清洗孔朝向涂胶腔体的侧壁，所述固定套上固定有与清洗液供液管路连通的出液嘴，所述出液嘴伸入所述清洗液喷淋环槽内将清洗液喷入清洗液喷淋环槽内，所述旋转主轴由主轴旋转动力装置驱动。

2.如权利要求1所述的一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，其特征在于：所述固定套的外周设置有将从清洗液喷淋环槽流出的清洗液导流至涂胶腔体腔底的导流结构。

3.如权利要求2所述的一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，其特征在于：所述导流结构包括导流锥套，所述导流锥套的上端为小口径端，下端为大口径端，所述导流锥套的小口径端固定在所述固定套的外周。

4.如权利要求3所述的一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，其特征在于：所述清洗孔朝斜向上方设置。

5.如权利要求4所述的一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，其特征在于：所述涂胶腔体内还安装有对真空吸盘上的硅片边缘进行喷淋清洗的边缘清洗机构。

6.如权利要求5所述的一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，其特征在于：所述边缘清洗机构包括升降安装有外壳外部的升降座，所述升降座由升降动力装置驱动，所述升降座上转动安装有旋转轴，所述旋转轴的上端伸入到外壳内，所述涂胶腔体内安装有套装在所述旋转轴外的伸缩套，所述伸缩套的上端安装有偏转轴，所述偏转轴与所述旋转轴固定，所述偏转轴的自由端安装有对硅片边缘倾斜喷淋的喷头，所述喷头与清洗管道连通，所述清洗管道从偏转轴和伸缩套内穿过并延伸至外壳的下方，所述升降座上安装有驱动所述偏转轴偏转的偏转动力装置。

7.如权利要求6所述的一种涂胶显影机的涂胶腔体清洗装置，其特征在于：所述喷头的喷射方向与硅片平面的夹角为15-30°。

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