CN218647090U - 一种Wafer片绝缘性测量装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及LED照明领域，尤其涉及一种Wafer片绝缘性测量装置，包括工作台和探针；所述工作台上设有Wafer片定位座、调节机构和电源；所述探针设置在调节机构上；所述探针朝向Wafer片定位座设置。本实用新型提供的Wafer片绝缘性测量装置相较于传统的测试方式，节省了人力物力，提高了测量精度。
Description
技术领域
本实用新型涉及LED照明领域，尤其涉及一种Wafer片绝缘性测量装置。
背景技术
LED即发光二极管，是一种电能转化为光能的固态半导体器件，其制备方法可参考申请号为201410301391.0、名称为LED芯片的制备方法及LED芯片的中国发明专利。作为新型的发光器件，LED具有高光效、节能、使用寿命长、响应时间短、环保等优点，因此被称为最有潜力的新一代光源，在照明领域应用领域极为常见。目前一般的LED芯片工艺中都有用到SiO2作为电流阻挡层，目的是为了使电流不会直接从电极下方注入至外延层，而是扩展到整个芯片外延层以此来提高亮度，高端的LED芯片工艺中SiO2通常是作为正负极间的绝缘层。然而，若SiO2的绝缘性不够则会导致芯片漏电，降低出光效率甚至死灯，因此需要对SiO2的绝缘性进行测试。
实用新型内容
为了克服上述现有技术的缺陷，本实用新型所要解决的技术问题是提供一种省时省力的Wafer片绝缘性测量装置。
为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种Wafer片绝缘性测量装置，包括工作台和探针；
所述工作台上设有Wafer片定位座、调节机构和电源；
所述探针设置在调节机构上；
所述探针朝向Wafer片定位座设置。
进一步地，所述工作台为光学平板。
进一步地，所述Wafer片定位座和所述调节机构均与所述工作台锁接。
进一步地，所述Wafer片定位座设有Wafer片安装槽。
进一步地，所述Wafer片安装槽的边缘具有豁口。
进一步地，还包括安装座，所述安装座设置在所述调节机构上，所述探针设置在所述安装座上。
进一步地，所述调节机构包括底座、第一电机、第一螺杆、第一移动座、第二电机、第二螺杆、第二移动座、第三电机、第三螺杆和第三移动座，所述底座设置在所述工作台上，所述第一电机设置在所述底座上，所述第一电机与所述第一螺杆连接，所述第一移动座与所述底座滑动连接，所述第一移动座与所述第一螺杆螺纹配合，所述第二电机设置在所述第一移动座上，所述第二电机与所述第二螺杆连接，所述第二移动座与所述第一移动座滑动连接，所述第二移动座与所述第二螺杆螺纹配合，所述第三电机设置在所述第二移动座上，所述第三电机与所述第三螺杆连接，所述第三移动座与所述第二移动座滑动连接，所述第三移动座与所述第三螺杆螺纹配合，所述第一螺杆、第二螺杆和第三螺杆相互垂直，所述探针设置在所述第三移动座上。
本实用新型的有益效果在于：提供一种Wafer片绝缘性测量装置，设计专门的Wafer片测试台，Wafer片定位座用以放置待测试Wafer片，调节机构用以调节探针的角度和位置以适应不同的测试高度、方位，调节后的探针接触待测试Wafer片的金属电极，电源与待测试Wafer片连接，若测试到的电流值在预设值以下，则SiO2的绝缘性良好，可以作为芯片的绝缘层；反之SiO2膜层作为芯片的绝缘层可能会导致芯片漏电。本实用新型提供的Wafer片绝缘性测量装置相较于传统的测试方式，节省了人力物力，提高了测量精度。
附图说明
图1所示为本实用新型实施例的Wafer片绝缘性测量装置的结构示意图；
标号说明：
1、工作台；11、Wafer片定位座；111、Wafer片安装槽；1111、豁口；12、调节机构；13、电源；2、探针；3、安装座。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
本实用新型提供一种Wafer片绝缘性测量装置，应用在Wafer片的绝缘性测量作业中。
请参照图1所示，本实用新型的一种Wafer片绝缘性测量装置，包括工作台1和探针2；
所述工作台1上设有Wafer片定位座11、调节机构12和电源13；
所述探针2设置在调节机构12上；
所述探针2朝向Wafer片定位座11设置。
从上述描述可知，本实用新型的有益效果在于：提供一种Wafer片绝缘性测量装置，设计专门的Wafer片测试台，Wafer片定位座11用以放置待测试Wafer片，调节机构12用以调节探针2的角度和位置以适应不同的测试高度、方位，调节后的探针2接触待测试Wafer片的金属电极，电源13与待测试Wafer片连接，若测试到的电流值在预设值以下，则SiO2的绝缘性良好，可以作为芯片的绝缘层；反之SiO2膜层作为芯片的绝缘层可能会导致芯片漏电。本实用新型提供的Wafer片绝缘性测量装置相较于传统的测试方式，节省了人力物力，提高了测量精度。
在可选实施例中，所述工作台1为光学平板。
在可选实施例中，所述Wafer片定位座11和所述调节机构12均与所述工作台1锁接。
从上述描述可知，Wafer片定位座11和调节机构12通过螺丝与工作台1锁接。
在可选实施例中，所述Wafer片定位座11设有Wafer片安装槽111。
从上述描述可知，Wafer片安装槽111用以放置沉积有SiO2膜层并蒸镀完金属电极的Wafer片。
在可选实施例中，所述Wafer片安装槽111的边缘具有豁口1111。
从上述描述可知，豁口1111起到便于Wafer产品取放的作用。
在可选实施例中，还包括安装座3，所述安装座3设置在所述调节机构12上，所述探针2设置在所述安装座3上。
从上述描述可知，探针2与安装座3可拆卸连接，方便拆装和调试。
在可选实施例中，所述调节机构12包括底座、第一电机、第一螺杆、第一移动座、第二电机、第二螺杆、第二移动座、第三电机、第三螺杆和第三移动座，所述底座设置在所述工作台1上，所述第一电机设置在所述底座上，所述第一电机与所述第一螺杆连接，所述第一移动座与所述底座滑动连接，所述第一移动座与所述第一螺杆螺纹配合，所述第二电机设置在所述第一移动座上，所述第二电机与所述第二螺杆连接，所述第二移动座与所述第一移动座滑动连接，所述第二移动座与所述第二螺杆螺纹配合，所述第三电机设置在所述第二移动座上，所述第三电机与所述第三螺杆连接，所述第三移动座与所述第二移动座滑动连接，所述第三移动座与所述第三螺杆螺纹配合，所述第一螺杆、第二螺杆和第三螺杆相互垂直，所述探针2设置在所述第三移动座上。
从上述描述可知，利用三组电机、螺杆和移动座分别在三个方向上实现探针2的位置调节，提高装置的测试效率和精度。
本实用新型的工作原理是：使用时将沉积有SiO2膜层并蒸镀完金属电极(Wafer片上有SiO2层，SiO2层上蒸镀金属电极)的Wafer片放置到Wafer片安装槽111馁，利用调节机构12调节探针2的位置后，探针2接触待测试Wafer片的金属电极，同时电源13向待测试Wafer片供电。由于行业内芯片的漏电流一般小于0.1μA，若测试到的电流值在0.1μA以下，则SiO2的绝缘性良好，可以作为芯片的绝缘层；若大于0.1μA，则此SiO2膜层作为芯片的绝缘层可能会导致芯片漏电。
请参照图1所示，本实用新型的实施例一为：一种Wafer片绝缘性测量装置，包括工作台1和探针2；
所述工作台1上设有Wafer片定位座11、调节机构12和电源13；
所述探针2设置在调节机构12上；
所述探针2朝向Wafer片定位座11设置。
所述工作台1为光学平板。所述Wafer片定位座11和所述调节机构12均与所述工作台1锁接。所述Wafer片定位座11设有Wafer片安装槽111。所述Wafer片安装槽111的边缘具有豁口1111。还包括安装座3，所述安装座3设置在所述调节机构12上，所述探针2设置在所述安装座3上。所述调节机构12包括底座、第一电机、第一螺杆、第一移动座、第二电机、第二螺杆、第二移动座、第三电机、第三螺杆和第三移动座，所述底座设置在所述工作台1上，所述第一电机设置在所述底座上，所述第一电机与所述第一螺杆连接，所述第一移动座与所述底座滑动连接，所述第一移动座与所述第一螺杆螺纹配合，所述第二电机设置在所述第一移动座上，所述第二电机与所述第二螺杆连接，所述第二移动座与所述第一移动座滑动连接，所述第二移动座与所述第二螺杆螺纹配合，所述第三电机设置在所述第二移动座上，所述第三电机与所述第三螺杆连接，所述第三移动座与所述第二移动座滑动连接，所述第三移动座与所述第三螺杆螺纹配合，所述第一螺杆、第二螺杆和第三螺杆相互垂直，所述探针2设置在所述第三移动座上。
综上所述，本实用新型提供一种Wafer片绝缘性测量装置，设计专门的Wafer片测试台，Wafer片定位座用以放置待测试Wafer片，调节机构用以调节探针的角度和位置以适应不同的测试高度、方位，调节后的探针接触待测试Wafer片的金属电极，电源与待测试Wafer片连接，若测试到的电流值在预设值以下，则SiO2的绝缘性良好，可以作为芯片的绝缘层；反之SiO2膜层作为芯片的绝缘层可能会导致芯片漏电。本实用新型提供的Wafer片绝缘性测量装置相较于传统的测试方式，节省了人力物力，提高了测量精度。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (6)
1.一种Wafer片绝缘性测量装置，其特征在于，包括工作台和探针；所述工作台上设有Wafer片定位座、调节机构和电源；所述探针设置在调节机构上；所述探针朝向Wafer片定位座设置；
所述调节机构包括底座、第一电机、第一螺杆、第一移动座、第二电机、第二螺杆、第二移动座、第三电机、第三螺杆和第三移动座，所述底座设置在所述工作台上，所述第一电机设置在所述底座上，所述第一电机与所述第一螺杆连接，所述第一移动座与所述底座滑动连接，所述第一移动座与所述第一螺杆螺纹配合，所述第二电机设置在所述第一移动座上，所述第二电机与所述第二螺杆连接，所述第二移动座与所述第一移动座滑动连接，所述第二移动座与所述第二螺杆螺纹配合，所述第三电机设置在所述第二移动座上，所述第三电机与所述第三螺杆连接，所述第三移动座与所述第二移动座滑动连接，所述第三移动座与所述第三螺杆螺纹配合，所述第一螺杆、第二螺杆和第三螺杆相互垂直，所述探针设置在所述第三移动座上。
2.根据权利要求1所述的Wafer片绝缘性测量装置，其特征在于，所述工作台为光学平板。
3.根据权利要求1所述的Wafer片绝缘性测量装置，其特征在于，所述Wafer片定位座和所述调节机构均与所述工作台锁接。
4.根据权利要求1所述的Wafer片绝缘性测量装置，其特征在于，所述Wafer片定位座设有Wafer片安装槽。
5.根据权利要求4所述的Wafer片绝缘性测量装置，其特征在于，所述Wafer片安装槽的边缘具有豁口。
6.根据权利要求1所述的Wafer片绝缘性测量装置，其特征在于，还包括安装座，所述安装座设置在所述调节机构上，所述探针设置在所述安装座上。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN202221764504.7U CN218647090U (zh) | 2022-07-08 | 2022-07-08 | 一种Wafer片绝缘性测量装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN202221764504.7U CN218647090U (zh) | 2022-07-08 | 2022-07-08 | 一种Wafer片绝缘性测量装置 |
Publications (1)
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|---|---|
| CN218647090U true CN218647090U (zh) | 2023-03-17 |
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Family Applications (1)
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| CN202221764504.7U Active CN218647090U (zh) | 2022-07-08 | 2022-07-08 | 一种Wafer片绝缘性测量装置 |
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2022
- 2022-07-08 CN CN202221764504.7U patent/CN218647090U/zh active Active
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