CN218507891U - 用于x射线管液态金属轴承的镀膜系统及旋转装置 - Google Patents
用于x射线管液态金属轴承的镀膜系统及旋转装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN218507891U CN218507891U CN202222303626.2U CN202222303626U CN218507891U CN 218507891 U CN218507891 U CN 218507891U CN 202222303626 U CN202222303626 U CN 202222303626U CN 218507891 U CN218507891 U CN 218507891U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- bevel gear
- bearing
- coating
- connecting piece
- rotating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本申请公开了一种镀膜系统以及用于镀膜的旋转装置。其中,用于镀膜的旋转装置,包括:支架、旋转驱动机构、第一锥形齿轮、第一连接件以及回转机构。其中,旋转驱动机构固定于支架上;第一锥形齿轮与旋转驱动机构的驱动轴同轴并且固定设置,并且第一锥形齿轮的锥面朝向旋转驱动机构;第一连接件与旋转驱动机构的驱动轴连接;并且回转机构与第一连接件连接,用于固定镀膜加工对象。并且其中,回转机构包括与第一锥形齿轮啮合的第二锥形齿轮,从而在回转机构围绕旋转驱动机构旋转的情况下,第二锥形齿轮带动镀膜加工对象旋转。
Description
技术领域
本申请涉及表面加工技术领域,特别是涉及一种用于X射线管液态金属轴承的镀膜系统及旋转装置。
背景技术
用于X射线管的液态金属轴承,通常包括转动部件(旋转外套、法兰)和可以支撑转动部件的静止部件(轴承芯),在转动部件和静止部件之间,填充有用于形成动压润滑的润滑剂。液态金属润滑剂与轴承摩擦表面的润湿性,以及滑动表面之间的耐磨性,对轴承整体性能起着非常重要的作用,并且直接影响射线管的工作性能和使用寿命。为了获得稳定可靠的、具备润湿性和耐磨性的轴承摩擦表面,一般需要在轴承芯的圆柱表面镀相应的涂层。
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)通过在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜。相对于传统的电镀、化学镀等技术,物理气相沉积由于镀膜质量高、环境污染小,是目前在精密机械零件的圆柱表面镀膜常采用的方法。
常见的镀膜设备,可以在零件的平面上镀膜。如果要在零件的圆柱表面镀膜,一般需要设计特有的工艺装置及方法。其中,膜层的均匀性和镀膜效率,对于零件圆柱表面镀膜工艺至关重要。如何在圆柱面镀膜,实现膜层的均匀性,并提高镀膜效率,一直以来是镀膜工艺研究的重点。
本实用新型提供了一种用于X射线管液态金属轴承的镀膜系统以及应用于镀膜的旋转装置,以满足精密机械零件生产中,对镀膜的高质量和高效率的需求。
实用新型内容
本实用新型提供了一种用于X射线管液态金属轴承的镀膜系统及旋转装置,以满足精密机械零件生产中,对镀膜的高质量和高效率的需求。
根据本申请的一个方面,提供了一种用于镀膜的旋转装置,包括:支架、旋转驱动机构、第一锥形齿轮、第一连接件以及回转机构。其中,旋转驱动机构固定于支架上;第一锥形齿轮与旋转驱动机构的驱动轴同轴并且固定设置,并且第一锥形齿轮的锥面朝向旋转驱动机构;第一连接件与旋转驱动机构的驱动轴连接;并且回转机构与第一连接件连接,用于固定镀膜加工对象。并且其中,回转机构包括与第一锥形齿轮啮合的第二锥形齿轮,从而在回转机构围绕旋转驱动机构旋转的情况下,第二锥形齿轮带动镀膜加工对象旋转。
可选地,回转机构包括:第二连接件、轴承以及第二锥形齿轮。其中,第二连接件与第一连接件连接;轴承的外圈与第二连接件连接;以及第二锥形齿轮的齿轮轴与轴承的内圈固定连接,并且第二锥形齿轮的齿轮轴设置有与固定镀膜加工对象连接的连接结构。
可选地,连接结构为螺纹结构。
可选地,回转机构包括:第二连接件、轴承以及第二锥形齿轮。其中,第二连接件与第一连接件连接;轴承的外圈与第二连接件连接;以及第二锥形齿轮的齿轮轴与轴承的内圈固定连接,并且内圈设置有与固定镀膜加工对象连接的连接结构。
可选地,连接结构为螺纹结构。
可选地,回转机构为沿着与驱动轴同心的圆周设置的多个回转机构。
此外,根据本实用新型的另一个方面,提供了一种镀膜系统,包括蒸镀装置以及旋转装置,其中蒸镀装置用于镀膜材料蒸发,并且旋转装置用于在镀膜过程中旋转镀膜加工对象。旋转装置包括:支架、旋转驱动机构、第一锥形齿轮、第一连接件以及回转机构。其中,旋转驱动机构固定于支架上;第一锥形齿轮与旋转驱动机构的驱动轴同轴并且固定设置,并且第一锥形齿轮的锥面朝向旋转驱动机构;第一连接件与旋转驱动机构的驱动轴连接;回转机构与第一连接件连接,用于固定镀膜加工对象。并且其中,回转机构包括与第一锥形齿轮啮合的第二锥形齿轮,从而在回转机构围绕旋转驱动机构旋转的情况下,第二锥形齿轮带动镀膜加工对象旋转。
可选地,回转机构包括:第二连接件、轴承以及第二锥形齿轮。其中,第二连接件与第一连接件连接;轴承的外圈与第二连接件连接;以及第二锥形齿轮的齿轮轴与轴承的内圈固定连接,并且第二锥形齿轮的齿轮轴设置有与固定镀膜加工对象连接的连接结构。并且其中,连接结构为螺纹结构。
可选地,回转机构包括:第二连接件、轴承以及第二锥形齿轮。其中,第二连接件与第一连接件连接;轴承的外圈与第二连接件连接;以及第二锥形齿轮的齿轮轴与轴承的内圈固定连接,并且内圈设置有与固定镀膜加工对象连接的连接结构。并且其中,连接结构为螺纹结构。
可选地,回转机构为沿着与驱动轴同心的圆周设置的多个回转机构。
从而本实用新型由于在第一连接件上可以设置多个回转机构,因此可以同时对多个镀膜加工对象进行镀膜处理。从而提高了镀膜加工的效率。并且由于在镀膜过程中,可以通过回转机构的第二锥形齿轮带动镀膜加工对象旋转,因此可以均匀地在镀膜加工对象的表面进行镀膜,从而提高了镀膜的质量。
根据下文结合附图对本申请的具体实施例的详细描述,本领域技术人员将会更加明了本实用新型的上述以及其他目的、优点和特征。
附图说明
后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本申请的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解,这些附图未必是按比例绘制的。附图中:
图1是根据本申请一个实施例的用于镀膜的旋转装置的示意图;
图2是图1所示用于镀膜的旋转装置的示意性侧视图;以及
图3是图1所示用于镀膜的旋转装置的局部放大示意图。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本实用新型保护的范围。
需要说明的是,本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的术语在适当情况下可以互换,以便这里描述的本实用新型的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式,而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时,其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
图1是根据本申请一个实施例的用于镀膜的旋转装置100的示意图。图2示出了该旋转装置100的侧视图,图3进一步示出了该旋转装置100的局部放大示意图。
参考图1至图3所示,本实用新型提供了一种用于镀膜的旋转装置100,包括:支架110、旋转驱动机构120、第一锥形齿轮130、第一连接件140以及回转机构150。其中,旋转驱动机构120固定于支架110上;第一锥形齿轮130与旋转驱动机构120的驱动轴121同轴并且固定设置,并且第一锥形齿轮130的锥面131朝向旋转驱动机构120;第一连接件140与旋转驱动机构120的驱动轴121连接;并且回转机构150与第一连接件140连接,用于固定镀膜加工对象200。并且其中,回转机构150包括与第一锥形齿轮130啮合的第二锥形齿轮151,从而在回转机构150围绕旋转驱动机构120旋转的情况下,第二锥形齿轮151带动镀膜加工对象200旋转。
其中,旋转驱动机构120例如可以是电机,也可以是气动旋转驱动机构或其他形式的旋转驱动机构。从而在旋转驱动机构120通过驱动轴121驱动第一连接件140旋转时,回转机构150围绕驱动轴121以及第一锥形齿轮130的轴线(即x轴)进行公转。并且,由于回转机构150包括与第一锥形齿轮130啮合的第二锥形齿轮151,并且第一锥形齿轮130固定(即第一锥形齿轮130不转动),因此在回转机构150围绕x轴公转时,第二锥形齿轮151带动镀膜加工对象200围绕第二锥形齿轮151的轴线(即y轴)自转。从而本实用新型由于在镀膜过程中,可以通过回转机构的第二锥形齿轮151带动镀膜加工对象200旋转,因此可以均匀地在镀膜加工对象200的表面进行镀膜,从而提高了镀膜的质量。
并且进一步参考图1至图3所示,镀膜加工对象200是用于X射线管液态金属轴承的轴承芯。从而,通过本实用新型的技术方案,可以均匀地在液态金属轴承的轴承芯表面镀覆涂层,并且可以提高对液态金属轴承的轴承芯进行镀膜的效率和质量。
可选地,参考图3所示,回转机构150包括:第二锥形齿轮151、第二连接件152、轴承153。其中,第二连接件152与第一连接件140连接;轴承153的外圈与第二连接件152连接;以及第二锥形齿轮151的齿轮轴与轴承153的内圈固定连接,并且第二锥形齿轮151的齿轮轴设置有与固定镀膜加工对象200连接的连接结构。
从而,第二锥形齿轮151通过轴承153可旋转地与第二连接件152连接,能够在围绕x轴公转的过程中围绕y轴自转,进而带动镀膜加工对象200进行旋转。
可选地,连接结构为螺纹结构。例如,第二锥形齿轮151的一端与第一锥形齿轮130啮合,另一端设置有外螺纹,从而镀膜加工对象200可以通过内螺纹与第二锥形齿轮151连接。此外,第二锥形齿轮151也可以通过其他形式的连接结构(例如,夹持机构)与镀膜加工对象200连接。
此外尽管图中未示出,也可以在轴承153的内圈设置与固定镀膜加工对象200连接的连接结构。从而可以将加工对象200与轴承153的内圈固定。从而第二锥形齿轮151旋转的过程中,可以通过轴承153的内圈驱动镀膜加工对象200旋转。并且进一步可选地,该连接结构可以为螺纹结构。
可选地,参考图1所示,回转机构150为沿着与驱动轴121同心的圆周设置的多个回转机构150。由于本实用新型在第一连接件140上设置多个回转机构150,因此可以通过多个回转机构150同时对多个镀膜加工对象200进行镀膜处理。从而提高了镀膜加工的效率。此外,第一连接件140例如可以是公转圆盘,从而便于部署多个回转机构150。
此外,根据本实施例的另一个方面,提供了一种镀膜系统,包括蒸镀装置以及旋转装置100,其中蒸镀装置用于镀膜材料蒸发,并且旋转装置100用于在镀膜过程中旋转镀膜加工对象。旋转装置100包括:支架110、旋转驱动机构120、第一锥形齿轮130、第一连接件140以及回转机构150。其中,旋转驱动机构120固定于支架110上;第一锥形齿轮130与旋转驱动机构120的驱动轴121同轴并且固定设置,并且第一锥形齿轮130的锥面131朝向旋转驱动机构120;第一连接件140与旋转驱动机构120的驱动轴121连接;回转机构150与第一连接件140连接,用于固定镀膜加工对象200。并且其中,回转机构150包括与第一锥形齿轮130啮合的第二锥形齿轮151,从而在回转机构150围绕旋转驱动机构120旋转的情况下,第二锥形齿轮151带动镀膜加工对象200旋转。
可选地,回转机构150包括:第二锥形齿轮151、第二连接件152以及轴承153。其中,第二连接件152与第一连接件140连接;轴承153的外圈与第二连接件152连接;以及第二锥形齿轮151的齿轮轴与轴承153的内圈固定连接,并且第二锥形齿轮151的齿轮轴设置有与固定镀膜加工对象200连接的连接结构,并且其中,连接结构为螺纹结构。
可选地,回转机构150包括:第二锥形齿轮151、第二连接件152以及轴承153。其中,第二连接件152与第一连接件140连接;轴承153的外圈与第二连接件152连接;以及第二锥形齿轮151的齿轮轴与轴承153的内圈固定连接,并且内圈设置有与固定镀膜加工对象200连接的连接结构。并且其中,连接结构为螺纹结构。
可选地,回转机构150为沿着与驱动轴121同心的圆周设置的多个回转机构150。
从而本实用新型由于在第一连接件140上可以设置多个回转机构150,因此可以同时对多个镀膜加工对象200进行镀膜处理。从而提高了镀膜加工的效率。并且由于在镀膜过程中,可以通过回转机构的第二锥形齿轮151带动镀膜加工对象200旋转,因此可以均匀地在镀膜加工对象200的表面进行镀膜,从而提高了镀膜的质量。
并且进一步地,本实用新型用于X射线管液态金属轴承的轴承芯。从而,通过本实用新型的技术方案,可以均匀地在液态金属轴承的轴承芯表面镀覆涂层,并且可以提高对液态金属轴承的轴承芯进行镀膜的效率和质量。
除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本实用新型的范围。同时,应当明白,为了便于描述,附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
为了便于描述,在这里可以使用空间相对术语,如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等,用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是,空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的器件被倒置,则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而,示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位),并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,在未作相反说明的情况下,这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制;方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。
以上所述,仅为本申请较佳的具体实施方式,但本申请的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此,本申请的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种用于镀膜的旋转装置(100),其特征在于,包括:支架(110)、旋转驱动机构(120)、第一锥形齿轮(130)、第一连接件(140)以及回转机构(150),其中,
所述旋转驱动机构(120)固定于所述支架(110)上;
所述第一锥形齿轮(130)与所述旋转驱动机构(120)的驱动轴(121)同轴并且固定设置,并且所述第一锥形齿轮(130)的锥面(131)朝向所述旋转驱动机构(120);
所述第一连接件(140)与所述旋转驱动机构(120)的驱动轴(121)连接;
所述回转机构(150)与所述第一连接件(140)连接,用于固定镀膜加工对象(200),并且其中
所述回转机构(150)包括与所述第一锥形齿轮(130)啮合的第二锥形齿轮(151),从而在所述回转机构(150)围绕所述旋转驱动机构(120)旋转的情况下,所述第二锥形齿轮(151)带动所述镀膜加工对象(200)旋转。
2.根据权利要求1所述的旋转装置(100),其特征在于,所述回转机构(150)包括:所述第二锥形齿轮(151)、第二连接件(152)以及轴承(153),其中
所述第二连接件(152)与所述第一连接件(140)连接;
所述轴承(153)的外圈与所述第二连接件(152)连接;以及
所述第二锥形齿轮(151)的齿轮轴与所述轴承(153)的内圈固定连接,并且所述第二锥形齿轮(151)的齿轮轴设置有与所述固定镀膜加工对象(200)连接的连接结构。
3.根据权利要求2所述的旋转装置(100),其特征在于,所述连接结构为螺纹结构。
4.根据权利要求1所述的旋转装置(100),其特征在于,所述回转机构(150)包括:所述第二锥形齿轮(151)、第二连接件(152)以及轴承(153),其中
所述第二连接件(152)与所述第一连接件(140)连接;
所述轴承(153)的外圈与所述第二连接件(152)连接;以及
所述第二锥形齿轮(151)的齿轮轴与所述轴承(153)的内圈固定连接,并且所述内圈设置有与所述固定镀膜加工对象(200)连接的连接结构。
5.根据权利要求4所述的旋转装置(100),其特征在于,所述连接结构为螺纹结构。
6.根据权利要求1所述的旋转装置(100),其特征在于,所述回转机构(150)为沿着与所述驱动轴(121)同心的圆周设置的多个回转机构(150)。
7.一种镀膜系统,包括蒸镀装置以及旋转装置(100),其中所述蒸镀装置用于将镀膜材料蒸发,并且所述旋转装置(100)用于在镀膜过程中旋转镀膜加工对象,其特征在于,所述旋转装置(100)包括:支架(110)、旋转驱动机构(120)、第一锥形齿轮(130)、第一连接件(140)以及回转机构(150),
其中,所述旋转驱动机构(120)固定于所述支架(110)上;
所述第一锥形齿轮(130)与所述旋转驱动机构(120)的驱动轴(121)同轴并且固定设置,并且所述第一锥形齿轮(130)的锥面(131)朝向所述旋转驱动机构(120);
所述第一连接件(140)与所述旋转驱动机构(120)的驱动轴(121)连接;
所述回转机构(150)与所述第一连接件(140)连接,用于固定所述镀膜加工对象(200),并且其中
所述回转机构(150)包括与所述第一锥形齿轮(130)啮合的第二锥形齿轮(151),从而在所述回转机构(150)围绕所述旋转驱动机构(120)旋转的情况下,所述第二锥形齿轮(151)带动所述镀膜加工对象(200)旋转。
8.根据权利要求7所述的镀膜系统,其特征在于,所述回转机构(150)包括:所述第二锥形齿轮(151)、第二连接件(152)以及轴承(153),其中
所述第二连接件(152)与所述第一连接件(140)连接;
所述轴承(153)的外圈与所述第二连接件(152)连接;以及
所述第二锥形齿轮(151)的齿轮轴与所述轴承(153)的内圈固定连接,并且所述第二锥形齿轮(151)的齿轮轴设置有与所述固定镀膜加工对象(200)连接的连接结构,并且其中,所述连接结构为螺纹结构。
9.根据权利要求7所述的镀膜系统,其特征在于,所述回转机构(150)包括:所述第二锥形齿轮(151)、第二连接件(152)以及轴承(153),其中
所述第二连接件(152)与所述第一连接件(140)连接;
所述轴承(153)的外圈与所述第二连接件(152)连接;以及
所述第二锥形齿轮(151)的齿轮轴与所述轴承(153)的内圈固定连接,并且所述内圈设置有与所述固定镀膜加工对象(200)连接的连接结构,并且其中,
所述连接结构为螺纹结构。
10.根据权利要求7所述的镀膜系统,其特征在于,所述回转机构(150)为沿着与所述驱动轴(121)同心的圆周设置的多个回转机构(150)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202222303626.2U CN218507891U (zh) | 2022-08-31 | 2022-08-31 | 用于x射线管液态金属轴承的镀膜系统及旋转装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202222303626.2U CN218507891U (zh) | 2022-08-31 | 2022-08-31 | 用于x射线管液态金属轴承的镀膜系统及旋转装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN218507891U true CN218507891U (zh) | 2023-02-21 |
Family
ID=85211665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202222303626.2U Active CN218507891U (zh) | 2022-08-31 | 2022-08-31 | 用于x射线管液态金属轴承的镀膜系统及旋转装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN218507891U (zh) |
-
2022
- 2022-08-31 CN CN202222303626.2U patent/CN218507891U/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101818326B (zh) | 溅镀装置 | |
CN209039577U (zh) | 一种真空镀膜用夹具 | |
EP3540093B1 (en) | Planetary rotary shelf device for nano-coating apparatus | |
JP6034830B2 (ja) | 回転可能なスパッタリングターゲットを支持する平面エンドブロック | |
US8241473B2 (en) | Sputter-coating apparatus | |
JPH0215448B2 (zh) | ||
CN101376964B (zh) | 溅镀式镀膜装置及镀膜方法 | |
CN203487225U (zh) | 一种用于提高镀膜均匀性的行星机构 | |
CN218507891U (zh) | 用于x射线管液态金属轴承的镀膜系统及旋转装置 | |
US20120160675A1 (en) | Loading device and sputtering device using same | |
WO2018147122A1 (ja) | 成膜装置および成膜物の製造方法 | |
JP5401130B2 (ja) | 蒸着装置と蒸着方法 | |
CN101994090B (zh) | 溅镀载具及包括该溅镀载具的溅镀装置 | |
CN204529969U (zh) | 柱状样品表面涂层工件架 | |
CN110983284A (zh) | 一种柱状件表面涂层物理气相沉积用轴向转动夹持机构 | |
CN212375373U (zh) | 一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具 | |
JP2008223110A (ja) | 薄膜処理装置 | |
KR20090099966A (ko) | 휴대폰 외부 케이스의 코팅장치 | |
US8535495B2 (en) | Coating device | |
KR101321914B1 (ko) | 진공증착 코팅장치 | |
CN211595785U (zh) | 一种柱状件表面涂层物理气相沉积用轴向转动夹持机构 | |
CN211311574U (zh) | 一种空心圆柱形被镀件外表面镀膜的旋转装置 | |
CN110923652B (zh) | 一种丝材表面涂层磁控溅射连续沉积用装置 | |
US20030059557A1 (en) | Planetary multi-substrate holder system for material deposition | |
CN110273128B (zh) | 一种用于制备离子镀涂层的夹具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |