CN218451118U - 显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及显示装置。该显示装置包括：显示层，在显示层中限定有多个发光区；障壁，设置在显示层上，并且具有在述障壁中限定的、与所述多个发光区重叠的多个第一开口；以及多个光学图案，设置在多个第一开口中。障壁可以包括第一部分和第二部分，该第一部分围绕多个第一开口，该第二部分与多个第一开口间隔开且第一部分在第二部分和多个第一开口之间，并且第一部分可以比第二部分拒液更多。

Description

显示装置

相关申请的交叉引用

本申请要求2021年9月3日提交的第10-2021-0117564号韩国专利申请的优先权和权益，该申请的全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本文中的本公开涉及一种通过防止或减少由墨水沉积工艺引起的缺陷而具有提高的可靠性的显示装置和用于制造该显示装置的方法。

背景技术

显示面板包括选择性地透射从光源产生的源光的透射显示面板和在显示面板自身中产生源光的发光显示面板。显示面板可以根据像素包括不同类型(种类)的光控制图案，以生成彩色图像。光控制图案可以仅透射源光的部分波长范围和/或转换源光的颜色。一些光控制图案可以改变光的特性而不转换源光的颜色。

实用新型内容

根据本公开的一个或多个实施例的方面针对一种通过防止或减少由墨水沉积工艺(例如，墨水误滴落)引起的缺陷而具有提高的可靠性的显示装置和用于制造该显示装置的方法。

附加方面将部分地在下面的描述中被阐述，并且将部分地从描述显而易见，或者可以通过实践本公开的所呈现的实施例而习得。

根据本公开的一个或多个实施例，一种显示装置包括：显示层，在显示层中限定有多个发光区；障壁，在显示层上，并且具有在障壁中限定的多个第一开口，该多个第一开口与多个发光区重叠；以及多个光学图案，在多个第一开口中。障壁可以包括第一部分和第二部分，该第一部分围绕(例如，包围)多个第一开口，该第二部分与多个第一开口间隔开且第一部分在第二部分和多个第一开口之间，并且第一部分可以比第二部分拒液更多。

在实施例中，显示装置可以进一步包括：多个滤色器，与多个发光区重叠，该多个滤色器可以包括第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器，并且多个第一开口中的每个第一开口可以与第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器中的一个滤色器相对应。

在实施例中，障壁可以进一步具有在障壁中限定的多个第二开口，该多个第二开口与多个发光区非重叠(不重叠)，该多个第二开口可以被第二部分包围，并且多个第二开口中的每个第二开口可以与第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器中的所有滤色器重叠。

在实施例中，当在平面上观看时，第二部分和多个第一开口可以在第一方向或与第一方向交叉的第二方向上间隔开第一距离。

在实施例中，第一距离可以为约11μm至约20μm。

在实施例中，显示层可以包括第一基底基板、在第一基底基板上的多个发光元件以及覆盖多个发光元件的封装层，并且障壁的第一部分和第二部分可以被限定在障壁的面对封装层的下表面上。

在实施例中，显示装置可以进一步包括：第二基底基板，与显示层间隔开，而障壁和多个光学图案在第二基底基板和显示层之间；以及多个滤色器，在第二基底基板的下表面上，其中，障壁和多个光学图案可以在多个滤色器与显示层之间。

在实施例中，第二基底基板的与多个滤色器接触的下表面可以是平坦的。

在实施例中，障壁的第二部分可以包括朝向显示层突出的间隔物。

在实施例中，显示层可以包括基底基板、在基底基板上的多个发光元件以及覆盖多个发光元件的封装层，并且障壁的第一部分和第二部分可以被限定在障壁的背对封装层的上表面上。

在实施例中，显示装置可以进一步包括：多个滤色器，在障壁和多个光学图案上；以及覆盖层，覆盖多个滤色器。

在实施例中，覆盖层的与多个滤色器接触的下表面被弯曲为与多个滤色器的形状相对应。

根据本公开的一个或多个实施例，一种显示装置包括：显示层，在显示层中限定有多个发光区；障壁，在显示层上，并且具有在障壁中限定的多个第一开口，该多个第一开口与多个发光区重叠；以及多个光学图案，在多个第一开口中，其中，障壁包括第一部分和第二部分，该第一部分围绕(例如，包围)多个第一开口，该第二部分与多个第一开口间隔开且第一部分在第二部分与多个第一开口之间，并且第一部分比第二部分具有更小的表面能。

根据本公开的一个或多个实施例，一种用于制造显示装置的方法包括：形成障壁，在障壁中限定有多个第一开口，并且在多个第一开口中形成多个光学图案，其中，障壁的形成包括：形成障壁层；在障壁层上布置掩模，在该掩模中限定有用于阻挡光的第一掩模区、用于透射光的第二掩模区以及用于阻挡光中的至少一部分的第三掩模区；并且对障壁层进行图案化以形成多个第一开口，其中，障壁包括第一部分和第二部分，该第一部分与第二掩模区重叠，该第二部分与第三掩模区重叠，并且第一部分比第二部分拒液更多。

在实施例中，多个第一开口的形成可以进一步包括：使障壁层暴露于光，并且第一部分可以比第二部分具有更大的曝光量。

在实施例中，该方法可以进一步包括：形成显示层，其中，障壁层形成在显示层上。

在实施例中，该方法可以进一步包括：形成显示层；并且将显示层、障壁和多个光学图案结合。

在实施例中，该方法可以进一步包括：在基底基板上形成多个滤色器，其中，障壁层可以形成在多个滤色器上。

在实施例中，障壁的形成可以进一步包括：形成多个第二开口，该多个第二开口与多个第一开口间隔开。

在实施例中，多个第二开口可以形成于在其中多个滤色器当中的透射三种不同颜色的光的三个滤色器重叠的区中。

附图说明

附图被包括以提供对本公开的进一步理解，并且被并入本说明书并构成本说明书的一部分。附图图示本公开的实施例，并且与描述一起用于解释本公开的原理。在附图中：

图1A是根据本公开的实施例的显示面板的透视图；

图1B是根据本公开的实施例的显示面板的一些部件的示意性截面图；

图2是根据本公开的实施例的显示面板的截面图；

图3A是图示根据本公开的实施例的显示面板的一部分的平面图；

图3B是图示显示面板的包括与图3A的线I-I'相对应的截面的一部分的截面图；

图4A是图示根据本公开的实施例的显示面板的一部分的平面图；

图4B是图示显示面板的包括与图4A的线II-II'相对应的截面的一部分的截面图；

图5是根据本公开的实施例的显示面板的截面图；

图6是图示根据本公开的实施例的显示面板的一部分的平面图；

图7A至图7C是示意性图示根据本公开的实施例的用于制造显示装置的方法的视图；

图8A至图8C是示意性图示根据本公开的实施例的用于制造显示装置的方法的视图；并且

图9A至图9C是示意性图示根据本公开的实施例的用于制造显示装置的方法的视图。

具体实施方式

在本说明书中，当元件(或区、层、部分等)被称为“在”另一元件“上”、“连接到”或“耦接到”另一元件时，意味着该元件可以直接设置在另一元件上/连接到/耦接到另一元件，或者第三元件可以设置在该元件与另一元件之间。

相同的附图标记指相同的元件。在一些实施例中，在附图中，为了技术内容的有效描述，元件的厚度、比例和大小可以被夸大。术语“和/或”包括相关列出的项目中一个或多个的任意和所有的组合。如在本文中使用的，当在元素的列表之后时，诸如“……中的至少一个”、“……中的一个”和“选自”的表述修饰元素的整个列表而不修饰列表中的单个元素。例如，“a、b和c中的至少一个”可以表示仅a、仅b、仅c、a和b两者(例如，同时)、a和c两者(例如，同时)、b和c两者(例如，同时)、a、b和c的全部或者其变体。如在本文中使用的，术语“大致”、“约”和类似术语被用作近似术语而不是程度术语，并且旨在考虑本领域普通技术人员将认识到的测量的或计算的值中的固有偏差。此外，本文中所列举的任何数值范围旨在包括归入所列举的范围内的相同数值精度的所有子范围。例如，“1.0至10.0”的范围旨在包括在所列举的1.0的最小值和所列举的10.0的最大值之间(并且包括1.0和10.0)的所有子范围，即，具有等于或大于1.0的最小值以及等于或小于10.0的最大值的所有子范围，诸如，例如2.4至7.6。本文中所列举的任何最大数值限制旨在包括归入其中的所有较低数值限制，并且本说明书中所列举的任何最小数值限制旨在包括归入其中的所有较高数值限制。因此，申请人保留修改本说明书(包括权利要求)的权利，以明确地列举归入在本文中明确列举的范围内的任何子范围。

将理解，尽管本文中可以使用“第一”、“第二”等术语来描述一个或多个适当的元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件，而不脱离本公开的示例实施例的范围。除非上下文另有明确说明，否则单数形式的术语可以包括复数形式。

在一些实施例中，诸如“下方”、“下”、“上方”和/或“上”等术语被用于描述附图中示出的配置的关系。这些术语被用作相对概念，并且参考附图中指示的方向被描述。

应理解，术语“包括”、“包含”或“具有”旨在指明本公开中的所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、部件或它们的组合的存在，但是不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、部件或它们的组合的存在或附加。

除非另有定义，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义。还应理解，常用词典中定义的术语应被解释为具有与它们在相关领域的背景中的含义一致的含义，并且将不以理想化的或过于正式的意义被解释，除非本文中明确地如此定义。

下文中，将参考附图描述本公开的实施例。

图1A是根据本公开的实施例的显示面板DP的透视图。图1B是根据本公开的实施例的显示面板DP的一些部件的示意性截面图。

如图1A中图示的，显示面板DP可以通过显示表面DP-IS显示图像。显示表面DP-IS与由第一方向DR1和第二方向DR2限定的平面平行。显示表面DP-IS可以包括显示区DA和非显示区NDA。像素PX设置在显示区DA中，并且像素PX不设置在非显示区NDA中。非显示区NDA沿显示表面DP-IS的边缘限定。非显示区NDA可以围绕显示区DA。在本公开的实施例中，非显示区NDA可以不被提供，或者可以仅被设置在显示区DA的一侧。

显示表面DP-IS的法线方向(即显示面板DP的厚度方向)由第三方向DR3指示。将被描述的各个层或单元的前表面(或上表面)以及后表面(或下表面)被第三方向DR3(例如，沿第三方向DR3)分隔开。然而，本实施例中图示的第一至第三方向DR1、DR2和DR3仅为示例。

在本公开的实施例中，具有平坦的显示表面DP-IS的显示面板DP被图示，但是本公开不限于此。显示面板DP可以包括弯曲的显示表面或者三维的显示表面。三维的显示表面可以包括指示(例如，面向)不同方向的多个显示区。

如图1B中图示的，显示面板DP可以包括第一显示基板100和第二显示基板200。第一显示基板100可以包括基底层BS1、电路层CCL和显示元件层EL。

基底层BS1可以包括合成树脂基板或玻璃基板。电路层CCL可以包括电路元件和至少一个绝缘层。电路元件可以包括信号线和/或像素驱动电路等。可以通过利用涂覆和/或沉积等形成绝缘层、半导体层和/或导电层的工艺以及利用光刻工艺对绝缘层、半导体层和/或导电层进行图案化的工艺来形成电路层CCL。显示元件层EL可以包括至少一个显示元件。

第二显示基板200可以转换从第一显示基板100提供的光的颜色。第二显示基板200可以包括光控制图案以及用于提高光转换效率的结构。

图2是根据本公开的实施例的显示面板DP的截面图。

参考图2，显示面板DP可以包括第一显示基板100(或下显示基板)以及与第一显示基板100面对且间隔开的第二显示基板200(或上显示基板)。设定的或预定的单元间隙GAP可以形成在第一显示基板100和第二显示基板200之间。单元间隙GAP可以通过将第一显示基板100与第二显示基板200结合的密封剂来保持。密封剂可以设置在图1A中图示的非显示区NDA中。在本公开的实施例中，可以在单元间隙GAP中设置合成树脂材料。在图2中，显示面板DP是有机发光显示面板的情况将被描述作为示例。

可以在显示面板DP中限定第一像素区PXA-R、第二像素区PXA-G、第三像素区PXA-B和外围区NPXA。

显示面板DP可以通过第一像素区PXA-R提供第一颜色的光、通过第二像素区PXA-G提供第二颜色的光并且通过第三像素区PXA-B提供第三颜色的光。第一颜色的光、第二颜色的光和第三颜色的光可以是不同颜色的光。在一些实施例中，第一颜色的光至第三颜色的光中的一个可以是绿光，另一个可以是红光，并且其他一个可以是蓝光。

外围区NPXA可以是与第一像素区PXA-R、第二像素区PXA-G和第三像素区PXA-B邻近设置的区。外围区NPXA可以设定第一像素区PXA-R、第二像素区PXA-G和第三像素区PXA-B的边界。外围区NPXA可以防止或大致防止第一像素区PXA-R、第二像素区PXA-G和第三像素区PXA-B混色。在一些实施例中，外围区NPXA可以阻挡或减少源光，以防止或减少或者大致防止或减少向用户提供源光。

第一显示基板100可以包括第一基底层BS1(或基底层)、电路层CCL、显示元件层EL以及薄膜封装层TFE。电路层CCL可以设置在第一基底层BS1上。电路层CCL可以包括多个绝缘层、多个导电层以及半导体层。显示元件层EL可以设置在电路层CCL上。薄膜封装层TFE可以设置在显示元件层EL上，并且可以对显示元件层EL进行封装。

第一基底层BS1可以是包括硅基板、塑料基板、玻璃基板、绝缘膜或多个绝缘层的堆叠结构。

电路层CCL可以包括多个晶体管以及多个绝缘层IL1、IL2、IL3和IL4。在图2中，一个驱动晶体管T-D被图示为示例。多个绝缘层IL1、IL2、IL3和IL4可以包括第一绝缘层IL1、第二绝缘层IL2、第三绝缘层IL3和第四绝缘层IL4。

第一绝缘层IL1可以设置在第一基底层BS1上，并且驱动晶体管T-D可以设置在第一绝缘层IL1上。驱动晶体管T-D可以包括有源(例如，有源层)A-D、源极(例如，源电极)S-D、漏极(例如，漏电极)D-D以及栅极(例如，栅电极)G-D。

有源A-D、源极S-D和漏极D-D可以是根据半导体图案的掺杂浓度或导电率划分的区。有源A-D、源极S-D和漏极D-D可以设置在第一绝缘层IL1上方。相比于第一基底层BS1，有源A-D、源极S-D和漏极D-D可以具有更大的对第一绝缘层IL1的粘合力。

第一绝缘层IL1可以是保护有源A-D、源极S-D和漏极D-D的下表面的阻挡层。在这种情况下，第一绝缘层IL1可以阻挡或减少第一基底层BS1本身(例如，第一基底层BS1的部件)、污染物和/或通过第一基底层BS1引入的湿气渗透到有源A-D、源极S-D和漏极D-D中。在一些实施例中，第一绝缘层IL1可以是阻挡或减少通过第一基底层BS1入射的外部光入射到有源A-D的遮光层。在这种情况下，第一绝缘层IL1可以进一步包括遮光材料。

第二绝缘层IL2可以设置在第一绝缘层IL1上，并且可以覆盖有源A-D、源极S-D和漏极D-D。第二绝缘层IL2可以包括无机材料。无机材料可以包括氮化硅、氧氮化硅、氧化硅、氧化钛和氧化铝中的至少一种。

栅极G-D可以设置在第二绝缘层IL2上。第三绝缘层IL3可以设置在第二绝缘层IL2上，并且可以覆盖栅极G-D。第三绝缘层IL3可以由单层或多层形成。在一些实施例中，单层可以包括无机层。多层可以包括有机层和无机层。

第四绝缘层IL4可以设置在第三绝缘层IL3上。第四绝缘层IL4可以由单层或多层形成。在一些实施例中，单层可以包括有机层。多层可以包括有机层和无机层。第四绝缘层IL4可以是在其上部上提供平坦的表面的平坦化层。

显示元件层EL可以设置在第四绝缘层IL4上。显示元件层EL可以包括发光元件OLED和像素限定膜PDL。在本实施例中，发光元件OLED可以是有机发光二极管，但是本公开不限于此。在一些实施例中，发光元件OLED可以是微型LED元件或纳米LED元件。像素限定膜PDL可以是有机层。

发光元件OLED可以包括第一电极AE2(在下文中，第二像素电极)、空穴控制层HCL、发射层EML、电子控制层ECL以及第二电极CE(或公共电极)。第二像素电极AE2可以针对每个像素单独地提供。作为示例，图2图示了第一像素电极AE1、第二像素电极AE2和第三像素电极AE3。

第一像素电极AE1可以被设置为与第一像素区PXA-R相对应，第二像素电极AE2可以被设置为与第二像素区PXA-G相对应，并且第三像素电极AE3可以被设置为与第三像素区PXA-B相对应。如本文中描述的，术语“与……相对应”指示当在显示面板DP的厚度方向DR3上观看时，两个部件彼此重叠，并且不限于相同的区域。

第一像素电极AE1、第二像素电极AE2和第三像素电极AE3可以设置在第四绝缘层IL4上。第一像素电极AE1、第二像素电极AE2和第三像素电极AE3可以各自直接或间接地电连接到对应的驱动晶体管。例如，第二像素电极AE2可以直接或间接地连接到图2中图示的驱动晶体管T-D。在图2中，第二像素电极AE2与驱动晶体管T-D之间的连接结构未图示。

像素限定膜PDL可以暴露第一像素电极AE1、第二像素电极AE2和第三像素电极AE3中的每个的一部分。在一些实施例中，可以在像素限定膜PDL中限定发光开口OP。第一像素电极AE1、第二像素电极AE2和第三像素电极AE3中的每个的一部分可以通过发光开口OP被暴露。

第一发光区EA1、第二发光区EA2和第三发光区EA3可以各自通过发光开口OP被限定。在一些实施例中，第一发光区EA1可以被限定为与第一像素区PXA-R相对应，第二发光区EA2可以被限定为与第二像素区PXA-G相对应，并且第三发光区EA3可以被限定为与第三像素区PXA-B相对应。如本文中描述的，术语“与……相对应”指示当在显示面板DP的厚度方向DR3上观看时，两个部件彼此重叠，并且不限于相同的区域。

空穴控制层HCL、发射层EML、电子控制层ECL和第二电极CE可以共同地设置在第一像素区PXA-R、第二像素区PXA-G、第三像素区PXA-B以及外围区NPXA中。空穴控制层HCL可以包括空穴传输层，并且可以进一步包括空穴注入层。

发射层EML可以具有单层结构或串联结构。发射层EML可以产生作为光源的蓝光。蓝光可以具有约410nm(纳米)至约480nm的波长。蓝光的发光光谱可以具有约440nm至约460nm的峰值波长。发射层EML可以共同地或独立地设置在第一至第三像素区PXA-R、PXA-G和PXA-B中。独立地布置意味着发射层EML针对第一至第三像素区PXA-R、PXA-G和PXA-B中的每个分隔开。

电子控制层ECL可以包括电子传输层，并且可以进一步包括电子注入层。第二电极CE可以设置在电子控制层ECL上。第二电极CE可以共同地设置在多个像素PX(参见图1A)中。

薄膜封装层TFE可以设置在第二电极CE上。在一些实施例中，薄膜封装层TFE可以直接地设置在显示元件层EL上。薄膜封装层TFE可以包括顺序堆叠的第一无机封装层ITL1、有机封装层OTL和第二无机封装层ITL2。有机封装层OTL可以设置在第一无机封装层ITL1与第二无机封装层ITL2之间。第一无机封装层ITL1和第二无机封装层ITL2可以通过无机材料的沉积被形成，并且有机封装层OTL可以通过有机材料的沉积、印刷或涂覆被形成。

第一无机封装层ITL1和第二无机封装层ITL2可以保护显示元件层EL免受湿气/氧气的影响，并且有机封装层OTL可以保护显示元件层EL免受诸如灰尘颗粒的杂质的影响。第一无机封装层ITL1和第二无机封装层ITL2可以包括氮化硅、氧氮化硅、氧化硅、氧化钛和氧化铝中的至少一种。有机封装层OTL可以包括聚合物，例如，丙烯酸类有机层。然而，这被呈现为示例，并且本公开的实施例不限于此。

图2图示了薄膜封装层TFE包括两个无机层和一个有机层作为示例，但是实施例不限于此。在一些实施例中，薄膜封装层TFE可以包括三个无机层和两个有机层，并且在这种情况下，薄膜封装层TFE可以具有在其中无机层和有机层被交替堆叠的结构。在一些实施例中，显示面板DP可以进一步包括在薄膜封装层TFE的上侧的折射率控制层，以提高光输出效率。

第二显示基板200可以设置在第一显示基板100上。第二显示基板200可以包括第二基底层BS2(或覆盖基底层)、第一滤色器CF1、第二滤色器CF2、第三滤色器CF3、第一光学图案WC1、第二光学图案WC2、第三光学图案WC3、障壁BW以及多个绝缘层200-1、200-2和200-3。

第二基底层BS2可以是包括硅基板、塑料基板、玻璃基板、绝缘膜或多个绝缘层的堆叠结构。第二基底层BS2的下表面BS2-B可以是平坦的。

多个滤色器CF1、CF2和CF3可以设置在第二基底层BS2的一个表面上。在一些实施例中，多个滤色器CF1、CF2和CF3可以设置在第二基底层BS2的下表面BS2-B上。第一滤色器CF1可以被设置为与第一发光区EA1重叠，第二滤色器CF2可以被设置为与第二发光区EA2重叠，并且第三滤色器CF3可以被设置为与第三发光区EA3重叠。

第三滤色器CF3可以设置在第三像素区PXA-B和外围区NPXA中。可以在第三滤色器CF3中限定多个开口。多个开口可以限定第一像素区PXA-R和第二像素区PXA-G。第一滤色器CF1可以被设置为与第一像素区PXA-R重叠，并且第二滤色器CF2可以被设置为与第二像素区PXA-G重叠。

第一至第三滤色器CF1、CF2和CF3可以各自透射特定波长范围内的光，并且阻挡或减少相应波长范围外的光。第一至第三滤色器CF1、CF2和CF3可以各自包括基底树脂以及分散在基底树脂中的染料和/或颜料。基底树脂是在其中分散有染料和/或颜料的介质，并且可以由一种或多种通常可以被称为粘合剂的适当的树脂组合物形成。

第一滤色器CF1可以透射第一颜色的光，第二滤色器CF2可以透射第二颜色的光，并且第三滤色器CF3可以透射从发射层EML提供的源光。在一些实施例中，第一滤色器CF1可以是红色滤色器，第二滤色器CF2可以是绿色滤色器，并且第三滤色器CF3可以是蓝色滤色器。在本公开的实施例中，第一滤色器CF1和第二滤色器CF2可以是黄色滤色器。在这种情况下，第一滤色器CF1和第二滤色器CF2可以彼此连接并被提供(例如，作为单一主体被提供)。

第一滤色器CF1可以与第二滤色器CF2邻近设置。第三滤色器CF3可以与第一滤色器CF1和第二滤色器CF2重叠。在其中多个滤色器CF1、CF2和CF3全部重叠的区可以阻挡或减少光。在这种情况下，包括遮光材料的黑色垫可以不被包括。在其中多个滤色器CF1、CF2和CF3全部重叠的区可以与外围区NPXA相对应，并且可以与障壁BW相对应。术语“与……相对应”指示当在显示面板DP的厚度方向DR3上观看时，两个部件彼此重叠，并且不限于相同的区域。

第一绝缘层200-1可以设置在第一滤色器CF1、第二滤色器CF2和第三滤色器CF3下方，并且可以覆盖第一滤色器CF1、第二滤色器CF2和第三滤色器CF3。第二绝缘层200-2可以覆盖第一绝缘层200-1，并且可以在下侧提供平坦的表面。第一绝缘层200-1可以是无机膜，并且第二绝缘层200-2可以是有机膜。

障壁BW可以设置在第二绝缘层200-2下方。障壁BW可以设置在外围区NPXA中。多个第一开口BW-OP1可以限定在障壁BW中。障壁BW可以包括具有设定的或预定的值或者更小值的透射率的材料。在一些实施例中，障壁BW可以包括遮光材料，例如典型的黑色成分。障壁BW可以包括与基底树脂混合的黑色染料和/或黑色颜料。在一些实施例中，障壁BW可以包括丙二醇甲醚醋酸酯、3-甲氧基乙酸正丁酯、丙烯酸酯单体、丙烯酸单体、有机颜料和丙烯酸酯中的至少一种。

障壁BW的下表面BW-B可以被限定为面对薄膜封装层TFE的表面。第一部分P1(参见图3A)和第二部分P2(参见图3A)可以被限定在障壁BW的下表面BW-B上。这将在稍后更详细地描述。

多个第一开口BW-OP1可以分别与第一像素区PXA-R、第二像素区PXA-G和第三像素区PXA-B相对应。多个第一开口BW-OP1可以分别与第一发光区EA1、第二发光区EA2和第三发光区EA3相对应。术语“与……相对应”指示当在显示面板DP的厚度方向DR3上(例如，在平面图中)观看时，两个部件彼此重叠，并且不限于相同的区域。

第一光学图案WC1可以设置在多个第一开口BW-OP1中的一个第一开口BW-OP1的内部，并且可以将源光转换为第一颜色的光。第二光学图案WC2可以设置在多个第一开口BW-OP1中的一个第一开口BW-OP1的内部，并且可以将源光转换为第二颜色的光。第三光学图案WC3可以设置在多个第一开口BW-OP1中的一个第一开口BW-OP1的内部，并且可以透射源光。

第一光学图案WC1、第二光学图案WC2和第三光学图案WC3可以通过喷墨工艺被形成。可以将组合物(例如，墨水组合物)提供到由障壁BW限定的位置处，例如多个第一开口BW-OP1中的每个第一开口BW-OP1处，用以形成第一光学图案WC1、第二光学图案WC2和第三光学图案WC3。

第一光学图案WC1和第二光学图案WC2可以各自包括基底树脂、量子点和散射颗粒，并且第三光学图案WC3可以包括基底树脂和散射颗粒。在本公开的实施例中，散射颗粒可以不在第一光学图案WC1、第二光学图案WC2和第三光学图案WC3中的任何一个中提供。

基底树脂是在其中分散有量子点或散射颗粒的介质，并且可以由一种或多种通常可以被称为粘合剂的适当的树脂组合物形成。然而，本公开的实施例不限于此，并且在本说明书中，任何能够使量子点分散的介质都可以被称为基底树脂，而不管其名称、附加的其他功能和/或组成材料如何。基底树脂可以是聚合物树脂。在一些实施例中，基底树脂可以是丙烯酸树脂、聚氨酯类树脂、硅类树脂和/或环氧树脂等。基底树脂可以是透明树脂。

散射颗粒可以是氧化钛(TiO₂)或硅类纳米颗粒。散射颗粒可以使入射光散射，以增加提供到外部的光的量。在本公开的实施例中，第一光学图案WC1和第二光学图案WC2中的至少一个可以不包括(例如，可以排除)散射颗粒。

量子点可以是用于转换入射光的波长的颗粒。量子点具有尺寸为几纳米的晶体结构，包含数百至数千个原子，并且表现出能量带隙由于量子点的小尺寸而被增大的量子限制效应。当具有比带隙高的能量的波长的光入射到量子点上时，量子点吸收被激发的光，并且在发射特定波长的光的同时下降到基态。被发射的、特定波长的光具有与带隙相对应的值。当在尺寸和组成上调整量子点时，由于量子限制效应产生的发光特性可以被控制。

每个量子点的核可以选自II-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、IV族元素、IV族化合物、III-VI族化合物、I-III-VI族化合物及其组合。

II-VI族化合物可以选自由二元化合物、三元化合物和四元化合物组成的组，该二元化合物选自由CdSe、CdTe、CdS、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe、MgS及其混合物组成的组；该三元化合物选择由CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、MgZnSe、MgZnS及其混合物组成的组；该四元化合物选自由HgZnTeS、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe及其混合物组成的组。

III-VI族化合物可以包括诸如In₂S₃和/或In₂Se₃的二元化合物、诸如InGaS₃和/或InGaSe₃的三元化合物或者它们的任何组合。

I-III-VI族化合物可以包括三元化合物和/或四元化合物，该三元化合物选自由AgInS、AgInS₂、CuInS、CuInS₂、AgGaS₂、CuGaS₂、CuGaO₂、AgGaO₂、AgAlO₂及其任意混合物组成的组；该四元化合物为诸如AgInGaS₂和/或CuInGaS₂。

III-V族化合物可以选自由二元化合物、三元化合物和四元化合物组成的组，该二元化合物选自由GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb及其混合物组成的组；该三元化合物选自由GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InGaP、InAlP、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb及其混合物组成的组；该四元化合物选自由GaAlNP、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb及其混合物组成的组。在一些实施例中，III-V族化合物可以进一步包括II族金属。在一些实施例中，InZnP等可以被选择为III-II-V族化合物。

IV-VI族化合物可以选自由二元化合物、三元化合物和四元化合物组成的组，该二元化合物选自由SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe及其混合物组成的组；该三元化合物选自由SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe及其混合物组成的组；该四元化合物选自由SnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe及其混合物组成的组。IV族元素可以选自由Si、Ge及其混合物组成的组。IV族化合物可以是选自由SiC、SiGe及其混合物组成的组的二元化合物。

二元化合物、三元化合物和/或四元化合物可以以大致均匀的浓度分布存在于颗粒中，或者可以以部分不同的浓度分布大致存在于相同的颗粒中。在一些实施例中，可以存在一个量子点围绕另一个量子点的核/壳结构。核与壳之间的界面可以具有在其中存在于壳中的元素的浓度朝向中心降低的浓度梯度。

在一些实施例中，量子点可以具有核/壳结构，该核/壳结构包括具有纳米晶体的核以及围绕(例如，包围)该核的壳，如以上描述的。量子点的壳可以作为保护层以防止或减少核的化学变形从而保持半导体特性，和/或作为充电层以向量子点赋予电泳特性。壳可以是单层或多层。核与壳之间的界面可以具有在其中存在于壳中的元素的浓度朝向中心降低的浓度梯度。量子点的壳的示例可以是金属或非金属氧化物、半导体化合物或它们的组合。

在一些实施例中，金属或非金属的氧化物可以是二元化合物或三元化合物，该二元化合物为诸如SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZnO、MnO、Mn₂O₃、Mn₃O₄、CuO、FeO、Fe₂O₃、Fe₃O₄、CoO、Co₃O₄和/或NiO，该三元化合物为诸如MgAl₂O₄、CoFe₂O₄、NiFe₂O₄和/或CoMn₂O₄，但是本公开的实施例不限于此。

在一些实施例中，半导体化合物可以是例如CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnSeS、ZnTeS、GaAs、GaP、GaSb、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InP、InGaP、InSb、AlAs、AlP、AlSb等，但是本公开的实施例不限于此。

量子点可以具有约45nm或更小、约40nm或更小或约30nm或更小的发光波长光谱的半峰全宽(FWHM)，并且颜色纯度和/或颜色再现性可以在以上范围内被增强。在一些实施例中，通过这种量子点发射的光在所有方向上被发射，并且因此可以改善宽视角。

在一些实施例中，量子点的形式不被具体限制，只要它是本领域通常利用的形式即可，并且例如，可以利用球形、金字塔形、多臂、立方纳米颗粒、纳米管、纳米线、纳米纤维、纳米片等形式的量子点。

量子点可以根据其颗粒尺寸来控制被发射的光的颜色，并且因此，量子点可以具有一种或多种适当的被发射的光的颜色，例如蓝色、红色、绿色等。

第三绝缘层200-3可以覆盖障壁BW、第一光学图案WC1、第二光学图案WC2和第三光学图案WC3。在一些实施例中，第三绝缘层200-3可以是将障壁BW、第一光学图案WC1、第二光学图案WC2和第三光学图案WC3密封的无机层。

图3A是图示根据本公开的实施例的显示面板DP的一部分的平面图。图3B是图示显示面板DP的包括与图3A的线I-I'相对应的截面的一部分的截面图。

图3A图示障壁BW的下表面BW-B。多个第一开口BW-OP1可以限定在障壁BW中。图3A是从单元间隙GAP(参见图2)沿第三方向DR3观看障壁BW时的平面图。障壁BW的下表面BW-B可以被限定为面对薄膜封装层TFE(参见图2)的表面。

参考图2、图3A和图3B，多个第一开口BW-OP1可以由障壁BW来限定，并且可以与多个发光区EA1、EA2和EA3重叠。多个第一开口BW-OP1可以各自与第一滤色器CF1、第二滤色器CF2和第三滤色器CF3中的对应一个重叠。组合物IK(或墨水、墨水组合物，参见图7C)被提供到多个第一开口BW-OP1中的每个，以形成第一光学图案WC1、第二光学图案WC2和第三光学图案WC3。图3B图示了与第二滤色器CF2相对应且具有形成在其中的第二光学图案WC2的第一开口BW-OP1，作为示例。

障壁BW可以包括第一部分P1和第二部分P2。第一部分P1和第二部分P2可以彼此连接为单一主体。第一部分P1和第二部分P2可以被限定在障壁BW的面对薄膜封装层TFE的下表面BW-B上。第一部分P1可以被限定为围绕(例如，包围)多个第一开口BW-OP1的部分。在一些实施例中，多个第一开口BW-OP1可以各自被第一部分P1完全包围。第二部分P2可以被限定为与多个第一开口BW-OP1间隔开的部分，第一部分P1在第二部分P2和第一开口BW-OP1之间。

第一部分P1可以比第二部分P2拒液更多。拒液更多的特征可以被限定为更疏液。疏液性可以是分散体与分散介质之间的低亲和力的特性。因此，与材料(例如，液体或墨水)滴落到拒液更少的部分上时相比，当材料滴落到拒液更多的部分上时，材料可以形成具有更小的曲率半径的球体形状。

第二部分P2可以被限定为与第一部分P1邻近且围绕(例如，包围)第一部分P1的部分。第二部分P2可以被限定为在第一方向DR1上与多个第一开口BW-OP1间隔开第一距离DT1。在一些实施例中，第二部分P2可以被限定为在与第一方向DR1交叉的第二方向DR2上与多个第一开口BW-OP1间隔开第一距离DT1。

第二部分P2可以比第一部分P1拒液更少。当墨水IK滴落(例如，沉积或误滴落)到障壁BW而不是限定在障壁BW中的第一开口BW-OP1上时，由于相对拒液更少的第二部分P2，墨水IK可以扩散。例如，滴落到第二部分P2上的墨水IK可以形成具有大曲率半径的部分球体形状，并且墨水IK在障壁BW上形成的高度可以被降低。因此，在随后的结合工艺中，在上板和下板中的间隙缺陷或者薄膜封装层的裂纹发生的可能性可以更小或者可以被防止或减少。

第一部分P1可以比第二部分P2拒液更多。第一部分P1与第一开口BW-OP1邻近且相对拒液更多，并且因此，即使供应到第一开口BW-OP1的涂覆液体滴落到障壁BW的第一部分P1的上表面上，该涂覆液体也可以不移动到其他部分。因此，涂覆液体流出到被供应有不同类型或种类的涂覆液体的邻近的另一第一开口BW-OP1的缺陷可以被减少。

较小的第一距离DT1可以导致第二部分P2的较大的面积。第二部分P2越大，防止或减少墨水滴落到障壁BW上的缺陷的可靠性越大，然而，当第一距离DT1小于11μm时，第一部分P1具有较小的面积，并且因此第一部分P1的拒液更多的效用可能被降低。在一些实施例中，当第一距离DT1大于20μm时，防止或减少墨水滴落(例如，沉积)缺陷的效用可能被降低。因此，第一距离DT1可以为约11μm至约20μm。

第一部分P1可以比第二部分P2具有更小的表面能。曝光量(例如，在形成障壁BW的光刻工序期间的曝光量)越大，则拒液性越大，而拒液性越大，测量出的表面能可以越小。例如，与第二部分P2相比，以更大的曝光量形成的第一部分P1可以比第二部分P2具有更小的表面能，并且更小的表面能将赋予更大的拒液性。第一部分P1和第二部分P2以不同的曝光量形成，但是第一部分P1的上表面和第二部分P2的上表面可以彼此对齐。

图4A是图示根据本公开的实施例的显示面板DP的一部分的平面图。图4B是图示显示面板DP的包括与图4A的线II-II'相对应的截面的一部分的截面图。将参考图3A和图3B描述图4A和图4B，并且与图3A和图3B中描述的部件相同的部件的重复描述将不被提供。

图4A图示了障壁BW的下表面BW-B、多个第一开口BW-OP1、间隔物SPC以及多个第二开口BW-OP2。例如，与图3A所示的结构相比，图4A图示了进一步包括多个第二开口BW-OP2和间隔物SPC的结构。图4A是从单元间隙GAP(参见图2)沿第三方向DR3观看显示面板DP时的平面图。障壁BW的下表面BW-B可以被限定为面对薄膜封装层TFE(参见图2)的表面。

参考图2、图4A和图4B，多个第二开口BW-OP2可以被限定在障壁BW的第二部分P2中，并且与多个发光区EA1、EA2和EA3可以非重叠(例如，可以不重叠)。多个第二开口BW-OP2中的每个可以与第一滤色器CF1、第二滤色器CF2或第三滤色器CF3重叠。在形成第一至第三光学图案WC1、WC2和WC3中利用的组合物可以不被提供到多个第二开口BW-OP2。例如，多个第二开口BW-OP2可以是空的空间。图4B图示了与第二滤色器CF2相对应且具有形成在其中的第二光学图案WC2的第一开口BW-OP1，作为示例。

显示面板DP可以进一步包括间隔物SPC。图4A中图示了一个间隔物SPC，但是间隔物SPC的数量不具体限于此。在一些实施例中，间隔物SPC的数量可以是两个或更多个。间隔物SPC可以具有朝向显示元件层EL突出的结构。间隔物SPC可以是被提供以保持单元间隙GAP的间距的结构。在一些实施例中，间隔物SPC可以具有进一步从障壁BW朝向显示元件层EL突出的结构。间隔物SPC可以与障壁BW利用相同的材料被提供，并且间隔物SPC可以与障壁BW具有单一的主体结构。然而，本公开的实施例不限于此，并且间隔物SPC可以是额外地设置在障壁BW的下表面BW-B上的结构。

障壁BW可以被限定为第一部分P1和第二部分P2。第一部分P1可以被限定为围绕(例如，包围)多个第一开口BW-OP1的部分。第二部分P2可以围绕多个第二开口BW-OP2。第二部分P2可以被限定为与多个第一开口BW-OP1间隔开的部分、围绕(例如，包围)多个第二开口BW-OP2的部分以及设置有间隔物SPC的部分，第一部分P1在第二部分P2和第一开口BW-OP1之间。

第二部分P2可以比第一部分P1拒液更少。当墨水IK滴落(例如，沉积)到障壁BW而不是限定在障壁BW中的第一开口BW-OP1上时，由于相对拒液更少的第二部分P2，墨水IK可以扩散。例如，滴落到第二部分P2上的墨水IK可以形成具有大曲率半径的部分球体形状，并且墨水IK在障壁BW上形成的高度可以被降低。因此，在随后的结合工艺中，在上板和下板中的间隙缺陷或薄膜封装层的裂纹发生的可能性可以更小或者可以被防止或减少。

在一些实施例中，在障壁BW中进一步限定与发光区EA1、EA2和EA3非重叠(不重叠)的多个第二开口BW-OP2，并且第二部分P2可以与多个第二开口BW-OP2邻近。因此，滴落到与第二开口BW-OP2邻近的障壁BW上的墨水IK可以被容纳在多个第二开口BW-OP2中。在这种情况下，误滴落的墨水IK不残留在障壁BW上，使得由墨水IK(例如，在障壁BW上)形成的高度差可以不产生。

图5是根据本公开实施例的显示面板DPa的截面图。将参考图2描述图5，并且与图2中描述的部件相同的部件的重复描述将不被提供。

参考图5，显示区DA(参见图1A)包括像素区PXA和外围区NPXA。像素区PXA被限定为与像素PX(参见图1A)相对应。外围区NPXA设定多个像素区PXA之间的边界，并且防止或减少像素区PXA之间的混色。在本实施例中，像素区PXA被限定为与第一开口BW-OP1相对应。外围区NPXA可以被限定为设置有障壁BW的区。

多个像素区PXA可以包括提供第一颜色的光(例如，红光)的第一像素区、提供第二颜色的光(例如，绿光)的第二像素区以及提供第三颜色的光(例如，蓝光)的第三像素区。三种颜色(例如，主要的三种颜色)可以以其他组合被改变，并且实施例不受具体限制。图5的像素区PXA被描述为提供红光的第一像素区。由于第一像素区、第二像素区和第三像素区的截面结构大致相同，因此将主要描述第一像素区。

参考图5，显示面板DPa的与驱动晶体管T-D和发光元件OLED相对应的截面被图示为示例。显示面板DPa可以包括多个绝缘层、半导体图案、导电图案和/或信号线。绝缘层、半导体层和/或导电层可以通过诸如涂覆或沉积工艺被形成。此后，绝缘层、半导体层和/或导电层可以通过光刻和蚀刻被选择性地图案化。在电路层CCL和显示元件层EL中包括的半导体图案、导电图案和/或信号线等可以通过以上描述的这样的工艺被形成。

显示元件层EL包括像素限定膜PDL。在一些实施例中，像素限定膜PDL可以是有机层。像素限定膜PDL可以包括典型的黑色着色剂。像素限定膜PDL可以包括与基底树脂混合的黑色染料和/或黑色颜料。在实施例中，黑色着色剂可以包括炭黑、诸如铬的金属或者其氧化物。

第一电极AE可以设置在第四绝缘层IL4上。第一电极AE直接连接到驱动晶体管T-D或者通过另一结构(例如，晶体管)连接驱动晶体管T-D。在图5中，第一电极AE与驱动晶体管T-D之间的连接结构未图示。像素限定膜开口PDL-OP被限定在像素限定膜PDL中。像素限定膜开口PDL-OP暴露第一电极AE的至少一部分。像素限定膜开口PDL-OP可以与显示元件层EL的发光区相对应。

第二显示基板200-1可以设置在薄膜封装层TFE上。第二显示基板200-1可以包括障壁BW、光学图案WC、上封装层TFE2、多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a以及保护层OC。

障壁BW可以包括基底树脂和添加剂。基底树脂可以由一种或多种通常可以被称为粘合剂的适当的树脂组合物形成。添加剂可以包括偶联剂和/或光引发剂。添加剂可以进一步包括分散剂。障壁BW可以包括黑色着色剂以阻挡或减少光。障壁BW可以包括与基底树脂混合的黑色染料和/或黑色颜料。在实施例中，黑色着色剂可以包括炭黑、诸如铬的金属或者其氧化物。

障壁BW的面对上封装层TFE2的一个表面可以被限定为障壁BW的上表面BW-U。第一部分P1(参见图6)和第二部分P2(参见图6)可以被限定在障壁BW的上表面BW-U上，这将在稍后更详细地描述。

与像素限定膜开口PDL-OP相对应的第一开口BW-OP1被限定在障壁BW中。当在平面上观看时，第一开口BW-OP1与像素限定膜开口PDL-OP重叠，并且比像素限定膜开口PDL-OP具有更大的面积。

光学图案WC设置在第一开口BW-OP1的内部。光学图案WC可以改变源光的光学特性。为了提供与源光不同颜色的光，第一像素区和第二像素区的光学图案WC可以是用于转换源光的颜色的颜色转换图案。在一些实施例中，第一像素区的颜色转换图案可以将蓝光的源光转换为红光，并且第二像素区的颜色转换图案可以将蓝光的源光转换为绿光。第三像素区的光学图案WC可以是透射图案。第三像素区的光学图案WC包括散射颗粒，并且因此可以散射并且然后发射所接收到的蓝光。相对于入射光，光学图案WC可以提高被发射的光的亮度。

颜色转换图案可以包括基底树脂以及混合于(或分散在)基底树脂中的量子点。在本实施例中，颜色转换图案可以包括量子点，并且可以被限定为量子点图案，并且第一像素区和第二像素区的颜色转换图案可以包括不同的量子点。

光学图案WC可以通过喷墨工艺被形成。液体组合物可以被提供在第一开口BW-OP1中。

上封装层TFE2可以设置在障壁BW和光学图案WC上。上封装层TFE2可以包括第一无机封装层IOL10、有机封装层OL-1以及第二无机封装层IOL20。第一无机封装层IOL10和第二无机封装层IOL20可以保护光学图案WC免受外部湿气的影响，并且有机封装层OL-1可以去除由障壁BW和光学图案WC限定的台阶，并且向要被设置在上侧的构件提供平坦的表面。

第一无机封装层IOL10和第二无机封装层IOL20可以包括氧化硅、氮氧化硅和氮化硅中的至少一种。有机封装层OL-1可以包括有机材料，例如丙烯酸有机材料。

多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a可以设置在上封装层TFE2上。多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a透射特定波长范围内的光，并且阻挡或减少相应波长范围外的光。在一些实施例中，第一滤色器CF1a可以透射红光并且阻挡或减少绿光和蓝光，并且第二滤色器CF2a可以透射绿光并且阻挡或减少红光和蓝光。第三滤色器CF3a可以透射蓝光。

设置在通过有机封装层OL-1去除台阶之后的平坦的表面上的多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a可以在像素区PXA中具有大致均匀的厚度。在光学图案WC中产生的红光、绿光或蓝光可以在像素区PXA中具有大致均匀的亮度，并且可以被提供到外部。

保护层OC可以设置在多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a上。保护层OC的与多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a接触的表面可以被限定为保护层OC的下表面OC-B。保护层OC的与多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a接触的下表面OC-B可以被弯曲，以与多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a的形状相对应。

保护层OC可以是保护多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a的有机层。保护层OC可以包括光固化有机材料或热固化有机材料(例如，可以由包括光固化有机材料或热固化有机材料的组合物形成)。在保护层OC上可以进一步设置保护玻璃基板。粘合剂层可以设置在保护层OC与保护玻璃基板之间。在本公开的实施例中，保护层OC可以包括无机材料。

图6是图示根据本公开的实施例的显示面板DPa的一部分的平面图。将参考图3A描述图6，并且与图3A中描述的部件相同的部件的重复描述将不被提供。

图6图示了障壁BW的上表面BW-U和多个第一开口BW-OP1。图6是沿与第三方向DR3相反的方向看显示面板DPa时的平面图。障壁BW的上表面BW-U可以被限定为面对上封装层TFE2的表面。

参考图5和图6，障壁BW可以被限定为第一部分P1和第二部分P2。第一部分P1和第二部分P2可以被限定在障壁BW的面对上封装层TFE2的上表面BW-U上。第一部分P1可以被限定为围绕(例如，包围)多个第一开口BW-OP1的部分。第二部分P2可以被限定为与多个第一开口BW-OP1间隔开的部分，第一部分P1在第二部分P2和第一开口BW-OP1之间。

第二部分P2可以比第一部分P1拒液更少。当墨水IK滴落(例如，沉积)到障壁BW而不是限定在障壁BW中的第一开口BW-OP1上时，由于相对拒液更少的第二部分P2，墨水IK可以扩散。例如，滴落到第二部分P2上的墨水IK可以形成具有大曲率半径的部分球体形状，并且由墨水IK在障壁BW上形成的高度可以被降低。因此，在随后的结合工艺中，在上板和下板中的间隙缺陷或薄膜封装层的裂纹发生的可能性可以更小或者可以被防止或减少。

在一些实施例中，相对更多拒液的第一部分P1可以被放置成与多个第一开口BW-OP1邻近。因此，即使供应到第一开口BW-OP1的涂覆液体滴落(例如，沉积)到障壁BW的第一部分P1的上表面上，该涂覆液体也可以不移动到其他部分(例如，其他区)。因此，涂覆液体流出到被供应有不同类型或种类的涂覆液体的邻近的另一第一开口BW-OP1的缺陷可以被减少。

图7A至图7C是示意性图示根据本公开的实施例的用于制造显示装置DD的方法的视图。

参考图2和图7A至图7C，用于制造显示装置DD的方法可以包括：形成在其中限定有多个第一开口BW-OP1的障壁BW；形成设置在多个第一开口BW-OP1中的多个光学图案WC1、WC2和WC3；并且形成显示元件层EL。

障壁BW的形成可以包括：形成障壁层BWB；对齐掩模MK；并且对障壁层BWB进行图案化，以形成多个第一开口BW-OP1。

参考图7A，可以在第二基底层BS2的一个表面上形成第一滤色器CF1、第二滤色器CF2和第三滤色器CF3。此后，在第一至第三滤色器CF1、CF2和CF3上形成覆盖第一至第三滤色器CF1、CF2和CF3的障壁层BWB。

例如，在滤色器CF1、CF2和CF3的形成之后，在滤色器CF1、CF2和CF3上形成障壁层BWB。此后，在障壁层BWB上对齐掩模MK。

掩模MK可以包括第一掩模区MKA1、第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3。由于遮光材料被应用到第一掩模区MKA1，因此第一掩模区MKA1可以具有遮光的特性，并且第二掩模区MKA2可以具有透光的特性。第三掩模区MKA3可以具有阻挡光中的至少一部分的特性。

第一掩模区MKA1可以设置在与多个滤色器CF1、CF2和CF3中的任一个相对应的区中。在一些实施例中，第一掩模区MKA1可以在与第二像素区PXA-G重叠的部分中被对齐。第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3可以设置在与多个滤色器CF1、CF2和CF3中的所有滤色器重叠的区中。在一些实施例中，第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3可以被对齐为与外围区NPXA重叠。

参考图7A和图7B，障壁层BWB的与第一掩模区MKA1相对应的一部分可以被去除，以形成第一开口BW-OP1。障壁层BWB的与第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3相对应的一部分可以对应于障壁BW。

障壁层BWB可以被图案化，以形成多个第一开口BW-OP1。该图案化可以包括在掩模MK与障壁层BWB对齐的条件下曝光障壁层BWB。根据本公开的实施例，在曝光工艺中，障壁层BWB的接收光的一部分可以被固化，并且障壁层BWB的不接收光的一部分可以被去除。

障壁BW可以包括第一部分P1和第二部分P2。第一部分P1可以是障壁BW的与第一开口BW-OP1邻近的一部分，并且第二部分P2可以是障壁BW的与第一开口BW-OP1间隔开的另一部分。

第一部分P1可以与第二掩模区MKA2重叠，并且第二部分P2可以与第三掩模区MKA3重叠。第二掩模区MKA2完全地透射光，而第三掩模区MKA3仅透射光的一部分(而非全部)，并且因此，第一部分P1的通过第二掩模区MKA2曝光的曝光量可以大于第二部分P2的通过第三掩模区MKA3曝光的曝光量。曝光量越大，则拒液性越大，并且曝光量越小，则拒液性越小。例如，第一部分P1可以比第二部分P2拒液更多。第一部分P1和第二部分P2具有不同的曝光量，但是第一部分P1的上表面和第二部分P2的上表面可以彼此对齐(例如，可以在同一平面上)。

图7A至图7C图示了第二像素区PXA-G作为示例，但是与第一像素区PXA-R和第三像素区PXA-B重叠的第一开口BW-OP1也可以以大致相同的方式被形成。

图7C图示了形成设置在多个第一开口BW-OP1中的第二光学图案WC2。组合物(例如，墨水组合物)IK可以利用喷墨工艺被提供到第一开口BW-OP1。喷墨头可以包括用于提供组合物IK的喷嘴NZ。喷墨头可以在沿设定或预定方向移动的同时将组合物IK提供(例如，沉积)到第一开口BW-OP1。当组合物IK干燥时，第二光学图案WC2可以被形成。图7C图示了第二光学图案WC2作为示例，但是第一光学图案WC1和/或第三光学图案WC3也可以通过相同的工艺被形成。

在通过喷墨工艺提供组合物IK(或墨水)的工艺中，组合物IK可能滴落(例如，沉积)到障壁BW而不是第一开口BW-OP1上。当墨水滴落到障壁BW而不是第一开口BW-OP1上时，由于相对拒液更少的第二部分P2，墨水可以扩散。例如，滴落到第二部分P2上的墨水可以形成具有大曲率半径的部分球体形状，并且墨水在障壁BW上形成的高度可以被降低。因此，在随后的结合工艺中，在上板和下板中的间隙缺陷或薄膜封装层的裂纹发生的可能性可以更小或者可以被防止或减少。

为了描述第一部分P1和第二部分P2在拒液性上的差异，滴落到第一部分P1上的墨水IK1和滴落到第二部分P2上的墨水IK2被图示。滴落到拒液更多的区中的墨水IK1可以具有曲率半径相对较小的部分球体形状，并且滴落到拒液更少的区中的墨水IK2可以具有曲率半径相对较大的部分球体形状。

第一部分P1可以比第二部分P2拒液更多。第一部分P1与第一开口BW-OP1邻近并且相对拒液更多，并且因此，即使供应到第一开口BW-OP1的涂覆液体滴落到障壁BW的第一部分P1的上表面上，该涂覆液体也可以不移动到其他部分(例如，其他区)。因此，涂覆液体流出到被供应有不同类型或种类的涂覆液体的邻近的另一第一开口BW-OP1的缺陷可以被减少。

在多个光学图案WC1、WC2和WC3的形成之后，形成显示元件层EL可以被执行。在显示元件层EL的形成之后，将显示元件层EL、障壁BW和多个光学图案WC1、WC2和WC3结合可以被执行。

图8A至图8C是示意性图示根据本公开的实施例的用于制造显示装置DD-1的方法的视图。

参考图2和图8A至图8C，用于制造显示装置DD-1的方法可以包括：形成在其中限定有多个第一开口BW-OP1以及与多个第一开口BW-OP1间隔开的多个第二开口BW-OP2的障壁BWa；形成设置在多个第一开口BW-OP1中的多个光学图案WC1、WC2和WC3；并且形成显示元件层EL。

障壁BWa的形成可以包括：形成障壁层BWBa；对齐掩模MKa；并且对障壁层BWBa进行图案化，以形成多个第一开口BW-OP1和多个第二开口BW-OP2。

参考图8A，可以在第二基底层BS2的一个表面上形成第一滤色器CF1、第二滤色器CF2和第三滤色器CF3。此后，在第一至第三滤色器CF1、CF2和CF3上形成覆盖第一至第三滤色器CF1、CF2和CF3的障壁层BWBa。

例如，在滤色器CF1、CF2和CF3的形成之后，在滤色器CF1、CF2和CF3上形成障壁层BWBa。此后，在障壁层BWBa上对齐掩模MKa。

掩模MKa可以包括第一掩模区MKA1、第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3。第一掩模区MKA1在对其施加遮光材料时可以具有遮光的特性，并且第二掩模区MKA2可以具有透光的特性。第三掩模区MKA3可以具有阻挡光中的至少一部分的特性。

第一掩模区MKA1可以设置在与多个滤色器CF1、CF2和CF3中的至少一个滤色器相对应的区中。在一些实施例中，第一掩模区MKA1可以在与第二像素区PXA-G重叠的部分中被对齐，或者在与外围区NPXA的除了第一部分P1和第二部分P2之外的区重叠的部分中被对齐。第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3可以设置在与多个滤色器CF1、CF2和CF3中的所有滤色器重叠的区中。在一些实施例中，第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3可以在分别与外围区NPXA的第一部分P1和第二部分P2重叠的部分中对齐。

参考图8A和图8B，障壁层BWBa的与第一掩模区MKA1相对应的一部分可以被去除，以形成第一开口BW-OP1或第二开口BW-OP2。障壁层BWBa的与第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3相对应的一部分可以对应于障壁BW。

障壁层BWBa可以被图案化，以形成多个第一开口BW-OP1和多个第二开口BW-OP2。该图案化可以包括在掩模MKa与障壁层BWBa对齐的条件下曝光障壁层BWBa。根据本公开的实施例，在曝光工艺中，障壁层BWBa的接收光的一部分可以被固化，并且障壁层BWBa的不接收光的一部分可以被去除。

障壁BWa可以包括第一部分P1和第二部分P2。第一部分P1可以是障壁BWa的与第一开口BW-OP1邻近的一部分，并且第二部分P2可以是障壁BWa的与第一开口BW-OP1间隔开且与第二开口BW-OP2邻近的另一部分。

第一部分P1可以与第二掩模区MKA2重叠，并且第二部分P2可以与第三掩模区MKA3重叠。第二掩模区MKA2完全地透射光，而第三掩模区MKA3仅透射光的一部分(而非全部)，并且因此，第一部分P1的通过第二掩模区MKA2曝光的曝光量可以大于第二部分P2的通过第三掩模区MKA3曝光的曝光量。曝光量越大，则拒液性越大，并且曝光量越小，则拒液性越小。例如，第一部分P1可以比第二部分P2拒液更多。第一部分P1和第二部分P2具有不同的曝光量，但是第一部分P1的上表面和第二部分P2的上表面可以彼此对齐(例如，可以在同一平面上)。

图8A至图8C图示第二像素区PXA-G作为示例，但是与第一像素区PXA-R和第三像素区PXA-B重叠的第一开口BW-OP1也可以以大致相同的方式被形成。

图8C图示了形成设置在多个第一开口BW-OP1中的多个第二光学图案WC2。组合物(例如，墨水组合物)IK可以利用喷墨工艺被提供到第一开口BW-OP1。喷墨头可以包括用于提供组合物IK的喷嘴NZ。喷墨头可以在沿设定或预定方向移动的同时将组合物IK提供(例如，沉积)到第一开口BW-OP1。当组合物IK干燥时，第二光学图案WC2可以被形成。图8C图示了第二光学图案WC2作为示例，但是第一光学图案WC1和/或第三光学图案WC3也可以通过相同的工艺被形成。

在通过喷墨工艺提供组合物IK(或墨水)的工艺中，组合物IK可能滴落(例如，沉积)到障壁BWa或第二开口BW-OP2而不是第一开口BW-OP1上。当墨水滴落到障壁BWa而不是第一开口BW-OP1上时，由于相对拒液更少的第二部分P2，墨水可以扩散。例如，滴落到第二部分P2上的墨水可以形成具有大曲率半径的部分球体形状，并且墨水在障壁BWa上形成的高度可以被降低。因此，在随后的结合工艺中，在上板和下板中的间隙缺陷或薄膜封装层的裂纹发生的可能性可以更小或者可以被防止或减少。

为了描述第一部分P1和第二部分P2在拒液性上的差异，滴落到第一部分P1上的墨水IK1和滴落到第二部分P2上的墨水IK2被图示。滴落在拒液更多的区中的墨水IK1可以具有曲率半径相对较小的部分球体形状，并且滴落在拒液更少的区中的墨水IK2可以具有曲率半径相对较大的部分球体形状。

在一些实施例中，滴落到与多个第二开口BW-OP2邻近的障壁BWa的墨水可以被容纳在多个第二开口BW-OP2中。在这种情况下，误滴落的墨水不残留在障壁BWa上，使得可以不产生由墨水在障壁BWa上形成的高度差。

第一部分P1可以比第二部分P2拒液更多。第一部分P1与第一开口BW-OP1邻近且相对拒液更多，并且因此，即使供应到第一开口BW-OP1的涂覆液体滴落到障壁BWa的第一部分P1的上表面上，该涂覆液体也可以不移动到其他部分(例如，其他区)。因此，涂覆液体流出到被供应有不同类型或种类的涂覆液体的邻近的另一第一开口BW-OP1的缺陷可以被减少。

在多个光学图案WC1、WC2和WC3的形成之后，形成显示元件层EL可以被执行。在显示元件层EL的形成之后，将显示元件层EL、障壁BWa和多个光学图案WC1、WC2和WC3结合可以被执行。

图9A至图9C是示意性图示根据本公开的实施例的用于制造显示装置DDa的方法的视图。

参考图5和图9A至图9C，用于制造显示装置DDa的方法可以包括：形成显示元件层EL；形成在其中限定有多个第一开口BW-OP1的障壁BWb；并且形成设置在多个第一开口BW-OP1中的多个光学图案WC。

障壁BWb的形成可以包括：形成障壁层BWBb；对齐掩模MK；并且对障壁层BWBb进行图案化，以形成多个第一开口BW-OP1。

参考图9A，可以在第一基底层BS1上形成电路层CCL、显示元件层EL和薄膜封装层TFE。此后，在薄膜封装层TFE上形成障壁层BWBb。之后，在障壁层BWBb上对齐掩模MK。

掩模MK可以包括第一掩模区MKA1、第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3。第一掩模区MKA1在对其施加遮光材料时可以具有遮光的特性，并且第二掩模区MKA2可以具有透光的特性。第三掩模区MKA3可以具有阻挡光中的至少一部分的特性。

第一掩模区MKA1可以在与像素区PXA重叠的部分中被对齐。第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3可以被对齐为与外围区NPXA重叠。

参考图9A和图9B，障壁层BWBb的与第一掩模区MKA1相对应的一部分可以被去除，以形成第一开口BW-OP1。障壁层BWBb的与第二掩模区MKA2和第三掩模区MKA3相对应的一部分可以对应于障壁BWBb。

图9A图示了第一掩模区MKA1设置在与像素区PXA相对应的区中作为示例。像素区PXA可以是提供第一颜色的光的第一像素区、提供第二颜色的光的第二像素区以及提供第三颜色的光的第三像素区。第一颜色的光、第二颜色的光和第三颜色的光可以是不同颜色的光。在一些实施例中，第一颜色的光至第三颜色的光中的一个可以是绿光，另一个可以是红光，并且其他一个可以是蓝光。

障壁层BWBb可以被图案化，以形成多个第一开口BW-OP1。该图案化可以包括在掩模MK与障壁层BWBb对齐的条件下曝光障壁层BWBb。根据本公开的实施例，在曝光工艺中，障壁层BWBb的接收光的一部分可以被固化，并且障壁层BWBb的不接收光的一部分可以被去除。

障壁BWb可以包括第一部分P1和第二部分P2。第一部分P1可以是障壁BWb的与第一开口BW-OP1邻近的部分，并且第二部分P2可以是障壁BWb的与第一开口BW-OP1间隔开的另一部分。

第一部分P1可以与第二掩模区MKA2重叠，并且第二部分P2可以与第三掩模区MKA3重叠。第二掩模区MKA2完全透射光，而第三掩模区MKA3仅透射光的一部分(而非全部)，并且因此，第一部分P1的通过第二掩模区MKA2曝光的曝光量可以大于第二部分P2的通过第三掩模区MKA3曝光的曝光量。曝光量越大，则拒液性越大，而曝光量越小，则拒液性越小。例如，第一部分P1可以比第二部分P2拒液更多。第一部分P1和第二部分P2具有不同的曝光量，但是第一部分P1的上表面和第二部分P2的上表面可以彼此对齐(例如，可以在同一平面上)。

图9C图示了形成设置在多个第一开口BW-OP1中的多个光学图案WC。组合物(例如，墨水组合物)IK可以利用喷墨工艺被提供到第一开口BW-OP1。喷墨头可以包括用于提供组合物IK的喷嘴NZ。喷墨头可以在沿设定或预定方向移动的同时将组合物IK提供(例如，沉积)到第一开口BW-OP1。当组合物IK干燥时，多个光学图案WC可以被形成。多个光学图案WC可以包括将源光转换为第一颜色的光的第一光学图案WC1(参见图2)、将源光转换为第二颜色的光的第二光学图案WC2(参见图2)以及透射源光的第三光学图案WC3(参见图2)。

在通过喷墨工艺提供组合物IK(或墨水)的工艺中，组合物IK可能滴落(例如，沉积)到障壁BWb而不是第一开口BW-OP1上。当墨水滴落到障壁BWb而不是第一开口BW-OP1上时，由于相对拒液性更少的第二部分P2，墨水可以扩散。例如，滴落到第二部分P2上的墨水可以形成具有大曲率半径的部分球体形状，并且墨水在障壁BWb上形成的高度可以被降低。因此，在随后的结合工艺中，在上板和下板中的间隙缺陷或薄膜封装层的裂纹发生的可能性可以更小或者可以被防止或减少。

为了描述第一部分P1和第二部分P2在拒液性上的差异，滴落到第一部分P1上的墨水IK1和滴落到第二部分P2上的墨水IK2被图示。滴落到拒液更多的区中的墨水IK1可以具有曲率半径相对较小的部分球体形状，并且滴落到拒液更少的区中的墨水IK2可以具有曲率半径相对较大的部分球体形状。

第一部分P1可以比第二部分P2拒液更多。第一部分P1与第一开口BW-OP1邻近并且相对拒液更多，并且因此，即使供应到第一开口BW-OP1的涂覆液体滴落到障壁BWb的第一部分P1的上表面上，该涂覆液体也可以不移动到其他部分(例如，其他区)。因此，涂覆液体流出到被供应有不同类型或种类的涂覆液体的邻近的另一第一开口BW-OP1的缺陷可以被减少。

在多个光学图案WC的形成之后，上封装层TFE2、多个滤色器CF1a、CF2a和CF3a以及保护层OC可以被顺序地堆叠。

如本文中描述的，障壁包括第一部分和比第一部分拒液更少的第二部分。当墨水滴落(例如，沉积)到障壁而不是第一开口上时，由于相对拒液更少的第二部分，因此墨水可以扩散。例如，滴落到第二部分上的墨水可以形成具有大曲率半径的部分球体形状，并且墨水在障壁上形成的高度可以被降低。因此，在随后的结合工艺中，在上板和下板中的间隙缺陷或薄膜封装层的裂纹发生的可能性可以更小或者可以被防止或减少。

在一些实施例中，与发光区非重叠(不重叠)的多个第二开口可以进一步限定在障壁中，并且第二部分可以被放置成与多个第二开口邻近。因此，滴落到被放置成与第二开口邻近的障壁上的墨水可以被容纳在多个第二开口中。在这种情况下，误滴落的墨水不残留在障壁上，以防止或减少墨水在障壁上形成的高度差。

在一些实施例中，相对拒液更多的第一部分可以被放置成与多个第一开口邻近。因此，即使供应到第一开口的涂覆液体滴落(例如，沉积)到障壁的第一部分的上表面上，该涂覆液体也可以不移动到其他部分(例如，其他区)。因此，涂覆液体流出到被供应有不同类型或种类的涂覆液体的邻近的另一第一开口的缺陷可以被减少。

根据本文中描述的本公开的实施例的显示装置和/或任何其他相关装置或部件可以利用任何适当的硬件、固件(例如，专用集成电路)、软件、或者软件、固件和硬件的组合来实现。例如，装置的一个或多个适当的部件可以形成在一个集成电路(IC)芯片上或形成在单独的IC芯片上。此外，装置的一个或多个适当的部件可以实现在柔性印刷电路膜、带载封装(TCP)、印刷电路板(PCB)上，或者形成在一个基板上。此外，装置的一个或多个适当的部件可以是在一个或多个计算装置中的、在一个或多个处理器上运行的进程或线程，该进程或线程执行计算机程序指令并与其他系统部件交互以执行本文中描述的一个或多个适当的功能。计算机程序指令被存储在存储器中，该存储器可以在利用标准存储器器件(诸如，例如随机存取存储器(RAM)等)的计算装置中实现。计算机程序指令也可以存储在其他非暂时性计算机可读介质中，诸如，例如CD-ROM和/或闪存驱动器等。此外，本领域技术人员应认识到，一个或多个适当的计算装置的功能可以组合或集成到单个计算装置中，或者具体计算装置的功能可以跨一个或多个其他计算装置分布，而不脱离本公开的实施例的范围。

尽管已经参考本公开的优选实施例描述了本公开，但是将理解，本公开不应限于这些优选实施例，而是限于本领域技术人员可以进行的一个或多个适当的改变和修改，而不脱离本公开的精神和范围。因此，本公开的技术范围不限于说明书中的详细描述，而应仅参考权利要求及其等同物来确定。

Claims (10)

1.一种显示装置，包括：

显示层，在所述显示层中限定有多个发光区；

障壁，在所述显示层上，并且具有在所述障壁中限定的多个第一开口，所述多个第一开口与所述多个发光区重叠；以及

多个光学图案，在所述多个第一开口中，

其中，所述障壁包括第一部分和第二部分，所述第一部分围绕所述多个第一开口，所述第二部分与所述多个第一开口间隔开且所述第一部分在所述第二部分和所述多个第一开口之间，并且所述第一部分比所述第二部分拒液更多。

2.根据权利要求1所述的显示装置，进一步包括：

多个滤色器，与所述多个发光区重叠，

其中，所述多个滤色器包括第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器，并且

所述多个第一开口中的每个第一开口与所述第一滤色器、所述第二滤色器和所述第三滤色器中的一个滤色器相对应，

其中，所述障壁进一步具有在所述障壁中限定的多个第二开口，所述多个第二开口与所述多个发光区不重叠，

所述多个第二开口被所述第二部分包围，并且

所述多个第二开口中的每个第二开口与所述第一滤色器、所述第二滤色器和所述第三滤色器中的所有滤色器重叠。

3.根据权利要求1或2所述的显示装置，其中，

当在平面上观看时，所述第二部分和所述多个第一开口在第一方向或与所述第一方向交叉的第二方向上间隔开第一距离，

其中，所述第一距离为11μm至20μm。

4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述显示层包括第一基底基板、在所述第一基底基板上的多个发光元件以及覆盖所述多个发光元件的封装层，并且

所述障壁的所述第一部分和所述第二部分被限定在所述障壁的面对所述封装层的下表面上。

5.根据权利要求4所述的显示装置，进一步包括：

第二基底基板，与所述显示层间隔开，而所述障壁和所述多个光学图案在所述第二基底基板和所述显示层之间；以及

多个滤色器，在所述第二基底基板的下表面上，

其中，所述障壁和所述多个光学图案在所述多个滤色器与所述显示层之间。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，

所述第二基底基板的与所述多个滤色器接触的所述下表面是平坦的。

7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，

所述障壁的所述第二部分包括朝向所述显示层突出的间隔物。

8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述显示层包括基底基板、在所述基底基板上的多个发光元件以及覆盖所述多个发光元件的封装层，并且

所述障壁的所述第一部分和所述第二部分被限定在所述障壁的背对所述封装层的上表面上。

9.根据权利要求8所述的显示装置，进一步包括：

多个滤色器，在所述障壁和所述多个光学图案上；以及

覆盖层，覆盖所述多个滤色器，

其中，所述覆盖层的与所述多个滤色器接触的下表面被弯曲为与所述多个滤色器的形状相对应。

10.一种显示装置，包括：

显示层，在所述显示层中限定有多个发光区；

障壁，在所述显示层上，并且具有在所述障壁中限定的多个第一开口，所述多个第一开口与所述多个发光区重叠；以及

多个光学图案，在所述多个第一开口中，

其中，所述障壁包括第一部分和第二部分，所述第一部分围绕所述多个第一开口，所述第二部分与所述多个第一开口间隔开且所述第一部分在所述第二部分与所述多个第一开口之间，并且所述第一部分比所述第二部分具有更小的表面能。

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