CN113744677A - 显示面板 - Google Patents

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CN113744677A
CN113744677A CN202110549908.8A CN202110549908A CN113744677A CN 113744677 A CN113744677 A CN 113744677A CN 202110549908 A CN202110549908 A CN 202110549908A CN 113744677 A CN113744677 A CN 113744677A
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light
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organic material
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安在宪
金彰洙
闵庚孩
洪锡埈
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Abstract

提供了显示面板。显示面板包括上显示衬底和下显示衬底,上显示衬底包括第一像素区域、第二像素区域、第三像素区域以及围绕第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域的遮光区域,下显示衬底包括发光元件。上显示衬底包括基础衬底、与遮光区域重叠并且布置在基础衬底上的第一堤、与遮光区域重叠并且布置在基础衬底上的第二堤、在第一堤与第二堤之间布置在基础衬底上的桥接堤以及其至少一部分布置在桥接堤上的有机材料图案。显示面板具有得到改善的可靠性。

Description

显示面板
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年5月27日提交的第10-2020-0063350号韩国专利申请的优先权,该韩国专利申请的内容通过引用以其整体特此并入。
技术领域
本公开涉及显示面板和制造显示面板的方法。更具体地,本公开涉及包括堤的显示面板和制造该显示面板的方法。
背景技术
显示装置向用户呈现图像。显示装置的图像使用由显示面板生成的源光来提供。显示面板包括生成源光的第一显示衬底和控制源光的颜色的第二显示衬底。
显示装置包括柱状间隔物以保持第一显示衬底与第二显示衬底之间的间隙。
发明内容
本公开提供了具有经改善的可靠性的显示面板。
本公开提供了制造具有经改善的可靠性的显示面板的方法。
本发明概念的实施方式提供了显示面板,该显示面板包括上显示衬底和下显示衬底,上显示衬底包括第一像素区域、第二像素区域、第三像素区域以及围绕第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域的遮光区域,下显示衬底包括发光元件。上显示衬底包括基础衬底、与遮光区域重叠并且布置在基础衬底上的第一堤、与遮光区域重叠并且布置在基础衬底上的第二堤、在第一堤与第二堤之间布置在基础衬底上的桥接堤以及有机材料图案。有机材料图案的至少一部分布置在桥接堤上。
有机材料图案布置在第一堤与第二堤之间并且覆盖桥接堤。
在平面视图中,布置在桥接堤上的有机材料图案的至少一部分与桥接堤重叠。
显示面板还包括光控制部,在平面视图中光控制部与第一像素区域重叠并且布置成与第一堤相邻,并且光控制部包括散射粒子和量子点中的至少一种。
有机材料图案与第一堤、桥接堤和第二堤重叠,并且不与光控制部重叠。
光控制部透射由发光元件生成的源光或者转换源光的波长。
有机材料图案的与桥接堤重叠的部分布置成最靠近下显示衬底。
显示面板还包括布置在桥接堤与有机材料图案之间的覆盖层。
有机材料图案包括遮光材料和树脂中的至少一种。
上显示衬底还包括布置在基础衬底与第一堤之间的滤色器层,并且滤色器层包括与第一像素区域重叠的第一滤色器、与第二像素区域重叠并且透射具有与透射过第一滤色器的光的波长不同的波长的光的第二滤色器以及与第三像素区域重叠并且透射具有与透射过第一滤色器的光的波长和透射过第二滤色器的光的波长中的每个不同的波长的光的第三滤色器。
显示面板还包括布置在基础衬底上的第三堤、布置在基础衬底上的第四堤以及布置在第三堤与第四堤之间的非桥接堤,并且非桥接堤不与有机材料图案重叠。
显示面板还包括布置在基础衬底上的第三堤以及布置在基础衬底上的第四堤,有机材料图案布置在第三堤与第四堤之间,并且有机材料图案具有比第三堤和第四堤中的每个的高度低的高度。
上显示衬底包括与第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域以及遮光区域重叠的显示区域以及围绕显示区域的非显示区域。有机材料图案与显示区域重叠。
发光元件发射蓝色光。
第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域分别提供红色光、绿色光和蓝色光。
本发明概念的实施方式提供制造显示面板的方法,该方法包括:制备上显示衬底;以及制备下显示衬底,其中,制备上显示衬底包括:制备基础衬底;在基础衬底上形成滤色器层;在滤色器层上形成多个堤;在与布置在相邻堤之间的像素区域对应的区域中形成光控制部;在布置在非像素区域中的堤上提供有机组合物;以及对有机组合物进行固化以形成有机材料图案。
该方法还包括:在形成光控制部之后在光控制部和堤上形成覆盖层。
有机组合物包括遮光材料和树脂中的至少一种。
该方法还包括:在形成有机材料图案之后将下显示衬底附接到上显示衬底。
下显示衬底包括发光元件,并且发光元件发射蓝色光。
根据上述内容,可防止因墨水组合物的误喷射而导致的缺陷,并且可保持下显示衬底与上显示衬底之间的间隙。
另外,显示面板的可靠性可通过显示面板的制造方法来改善。
附图说明
当结合附图考虑时,通过参照以下详细描述,本公开的上述和其它优点将变得容易显而易见,在附图中:
图1A是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板的透视图;
图1B是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板的剖面视图;
图2是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板的平面视图;
图3A是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板的显示区域的平面视图;
图3B是根据本公开的示例性实施方式的沿图3A的线I-I'截取的剖面视图;
图3C是根据本公开的示例性实施方式的沿图3A的线II-II'截取的剖面视图;
图3D是根据本公开的示例性实施方式的沿图3A的线III-III'截取的剖面视图;
图3E是根据本公开的示例性实施方式的沿图3A的线IV-IV'截取的剖面视图;
图4是根据本公开的另一示例性实施方式的沿图3A的线III-III'截取的剖面视图;
图5A是根据本公开的另一示例性实施方式的沿图3A的线II-II'截取的剖面视图;
图5B是根据本公开的另一示例性实施方式的沿图3A的线III-III'截取的剖面视图;
图6是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板的剖面视图;
图7是示出根据本公开的示例性实施方式的制造显示面板的方法的流程图;以及
图8A、图8B、图8C、图8D、图8E、图8F、图8G和图8H是示出根据本公开的示例性实施方式的制造显示面板的方法的工艺的视图。
具体实施方式
本公开可以许多不同的形式进行各种修改和实现,并且因此具体实施方式将例示在附图中并且将在下文中详细描述。然而,本公开应不限于具体公开的形式,并且可被解释为包括本公开的精神和范围中所包括的所有修改、等同物或替换。
在整个说明书中,相似的附图标记指相似的元件。在附图中,为了技术内容的有效的描述,部件的厚度、比例和尺寸被夸大了。将理解的是,尽管术语第一、第二等可在本文中用于描述各种元件、部件、区、层和/或者区段,但是这些元件、部件、区、层和/或者区段不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区、层或者区段与另一元件、部件、区、层或者区段区分开。因此,下面讨论的第一元件、部件、区、层或者区段可被称为第二元件、部件、区、层或者区段,而不背离本公开的教导。除非上下文另有清楚指示,否则如本文中所使用的单数形式“一(a)”、“一(an)”和“该(the)”也旨在包括复数形式。
还将理解的是,术语“可包括(may include)”和/或“包括(including)”,当在本说明书中使用时,指明所陈述的特征、整数、步骤、操作、元件和/或部件的存在,但是不排除一个或多个其它特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或其集群的存在或添加。
在下文中,将参照附图对本公开的示例性实施方式进行描述。
图1A是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板DP的透视图。图1B是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板DP的剖面视图。图2是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板DP的平面视图。
参照图1A、图1B和图2,显示面板DP可为液晶显示面板、电泳显示面板、微机电系统(Microelectromechanical System,MEMS)显示面板、电润湿显示面板和有机发光显示面板中的一种,然而,它不应特别限于上面列出的显示面板。
尽管未在图中示出,但是显示面板DP还可包括机架构件或模制构件,并且根据显示面板DP的类型还可包括背光单元。
显示面板DP可包括下显示衬底100以及面对下显示衬底100并且与下显示衬底100间隔开的上显示衬底200。例如,上显示衬底200可通过密封剂SLM与下显示衬底100间隔开。
如图1A中所示,显示面板DP可通过显示表面DP-IS中的显示区域DA来显示图像。图1B中所示的上显示衬底200的外表面200-OS可为显示表面DP-IS。
显示表面DP-IS可与由第一方向DR1和第二方向DR2限定的平面基本上平行。显示表面DP-IS可包括显示区域DA和非显示区域NDA。像素PX可布置在显示区域DA中,并且可不布置在非显示区域NDA中。非显示区域NDA可沿显示表面DP-IS的边缘限定。非显示区域NDA可围绕显示区域DA。
第三方向DR3可指示显示表面DP-IS的法线方向,即,显示面板DP的厚度方向。每个构件的前(或上)表面和后(或下)表面通过第三方向DR3彼此区分开。然而,在本示例性实施方式中描述的第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3是示例性的。
在本公开的示例性实施方式中,显示面板DP可包括平坦的显示表面DP-IS,然而显示表面DP-IS不应限于平坦的表面。显示面板DP可包括弯折的显示表面或三维的显示表面。三维的显示表面可包括面对彼此不同的方向的多个显示区域。
图2示出了布置有连接到栅极金属电路GDC的多个信号线GL1至GLn和多个信号线DL1至DLm以及多个像素PX11至PXnm的显示面板DP的平面视图。多个信号线GL1至GLn和DL1至DLm可包括多个栅极线GL1至GLn和多个数据线DL1至DLm。
多个像素PX11至PXnm中的每个可与多个栅极线GL1至GLn之中对应的栅极线和多个数据线DL1至DLm之中对应的数据线连接。多个像素PX11至PXnm中的每个可包括像素驱动电路和显示元件。布置在显示面板DP中的信号线的类型可根据像素驱动电路的配置来确定。
多个像素PX11至PXnm可排列成矩阵形式,然而多个像素PX11至PXnm的排列不应限于矩阵形式。多个像素PX11至PXnm可排列成pentile图案。多个像素PX11至PXnm可排列成菱形形状。
非显示区域NDA中可布置有栅极驱动电路。例如,栅极驱动电路可通过氧化硅栅极驱动器电路(Oxide Silicon Gate driver circuit,OSG)工艺或非晶硅栅极驱动器电路(Amorphous Silicon Gate driver circuit,ASG)工艺直接集成在显示面板DP中。
图3A是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板DP的显示区域DA的平面视图。图3B是根据本公开的示例性实施方式的沿图3A的线I-I'截取的剖面视图。图3C是根据本公开的示例性实施方式的沿图3A的线II-II'截取的剖面视图。图3D是根据本公开的示例性实施方式的沿图3A的线III-III'截取的剖面视图。图3E是根据本公开的示例性实施方式的沿图3A的线IV-IV'截取的剖面视图。
图3A是示出图1A中所示的显示区域DA的一部分的放大视图。主要示出了三个像素区域PXA-R、PXA-G和PXA-B。图3A中所示的三个像素区域PXA-R、PXA-G和PXA-B可沿第一方向DR1和第二方向DR2重复地布置在显示区域DA中。
遮光区域NPXA可布置成围绕第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B。第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B以及遮光区域NPXA可基本上限定在上显示衬底200中。
在本示例性实施方式中,第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B中的至少两个在平面视图中可具有不同的尺寸,然而它们不应限于此或由此限制。第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B中的所有可具有相同的尺寸,或者第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B中的每个可具有不同的尺寸。第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B在平面视图中可具有多边形形状,然而它们不应限于此或由此限制。第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B在平面视图中可具有带倒圆角的矩形形状或者带倒圆角的正方形形状。
在第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B之中,一个像素区域可向用户提供第一颜色光,另一个像素区域可向用户提供与第一颜色光不同的第二颜色光,并且其余的像素区域可向用户提供与第一颜色光和第二颜色光不同的第三颜色光。
在本示例性实施方式中,第一像素区域PXA-R可提供红色光,第二像素区域PXA-G可提供绿色光,并且第三像素区域PXA-B可提供蓝色光。在本示例性实施方式中,源光可为作为第三颜色光的蓝色光。源光可由诸如背光单元的光源或诸如发光二极管的显示元件来生成。
遮光区域NPXA可用作第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B之间的边界,并且因此可防止第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B之间的颜色混合。另外,遮光区域NPXA可遮挡源光,以使得源光不通过遮光区域NPXA提供给用户。
图3B示出了与第三像素区域PXA-B对应的显示面板DP的剖面。图3B示出了与驱动晶体管T-D和发光元件OLED对应的剖面。
参照图3B,与驱动晶体管T-D和发光元件OLED对应的剖面示出为代表性实例。上显示衬底200和下显示衬底100可彼此间隔开预定的间隙GP。
间隙GP可通过布置在上显示衬底200中的柱状间隔物CS(参照图3C)来保持。将在后面对柱状间隔物CS进行详细描述。在图3B中,空气层示出为间隙GP的代表性实例,然而间隙GP不应限于空气层。间隙GP可填充有有机粘合层或无机粘合层。
如图3B中所示,下显示衬底100可包括第一基础衬底BS1、布置在第一基础衬底BS1上的电路元件层DP-CL以及布置在电路元件层DP-CL上的显示元件层DP-OLED。
第一基础衬底BS1可包括合成树脂衬底或玻璃衬底。电路元件层DP-CL可包括至少一个绝缘层和电路元件。电路元件可包括信号线和像素驱动电路。电路元件层DP-CL可通过形成绝缘层、半导体层和导电层的工艺(诸如涂覆工艺和沉积工艺)以及图案化绝缘层、半导体层和导电层的工艺(诸如光刻工艺)来形成。
在本示例性实施方式中,电路元件层DP-CL可包括缓冲层BFL、第一绝缘层10、第二绝缘层20和第三绝缘层30。第一绝缘层10和第二绝缘层20可为无机层,并且第三绝缘层30可为有机层。
图3B示出了形成驱动晶体管T-D的有源区A-D、源极区S-D、漏极区D-D和栅电极G-D的结构。有源区A-D、源极区S-D和漏极区D-D可根据有源层的掺杂浓度或导电率来彼此区分开。
显示元件层DP-OLED可包括发光元件OLED。发光元件OLED可生成上述源光。发光元件OLED可包括第一电极AE、第二电极CE以及布置在第一电极AE与第二电极CE之间的发光层EML。在本示例性实施方式中,发光元件OLED可包括有机发光二极管。显示元件层DP-OLED可包括像素限定层PDL。作为实例,像素限定层PDL可为有机层,但是不限于此。
第一电极AE可布置在第三绝缘层30上。在图3B中未示出第一电极AE与驱动晶体管T-D之间的连接结构,然而第一电极AE可直接或间接地连接到驱动晶体管T-D。开口OP可通过像素限定层PDL形成。第一电极AE的至少一部分可通过像素限定层PDL的开口OP暴露。由像素限定层PDL暴露的第一电极AE可为发光区域。
空穴控制层HCL、发光层EML和电子控制层ECL可横跨第一电极AE和像素限定层PDL公共地布置。空穴控制层HCL、发光层EML和电子控制层ECL可共同地布置在第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B(参照图3A)中。
空穴控制层HCL可包括空穴传输层,并且还可包括空穴注入层。发光层EML可生成蓝色光。蓝色光可具有约410nm至约480nm的波长。蓝色光的发光光谱可具有在约440nm至约460nm的范围内的最大峰值。电子控制层ECL可包括电子传输层,并且还可包括电子注入层。发光层EML可具有串联结构或单层结构。
第二电极CE可布置在电子控制层ECL上。第二电极CE可公共地布置在第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B(参照图3A)中。第二电极CE可具有比第一电极AE的面积大的面积。
第二电极CE上可布置有薄膜封装层TFE以封装第二电极CE。薄膜封装层TFE可包括有机材料或无机材料。详细地,薄膜封装层TFE可具有无机层和有机层交替地堆叠的多层结构。例如,薄膜封装层TFE可具有无机层/有机层/无机层的封装结构。薄膜封装层TFE还可包括折射率控制层以改善发光效率。
尽管未在图中示出,但是下显示衬底100可包括分别与图3A中所示的第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B对应的第一显示元件、第二显示元件和第三显示元件。第一显示元件、第二显示元件和第三显示元件可具有相同的堆叠结构,并且可具有与图3B中所示的发光元件OLED的堆叠结构基本上相同的堆叠结构。
如图3B中所示,上显示衬底200可包括第二基础衬底BS2、布置在第二基础衬底BS2的下表面上的滤色器层CFL以及布置在滤色器层CFL下方的光控制层WCL。
第二基础衬底BS2可包括合成树脂衬底或玻璃衬底。滤色器层CFL可包括布置在第二基础衬底BS2的下表面上的划分图案BM、与第一像素区域PXA-R重叠的第一滤色器CF-R、与第二像素区域PXA-G重叠的第二滤色器CF-G以及与第三像素区域PXA-B重叠的第三滤色器CF-B。
划分图案BM可为遮光图案,并且布置在第二基础衬底BS2上以与遮光区域NPXA重叠。开口BM-OP可通过划分图案BM来限定,以对应于第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-G和第三像素区域PXA-B中的每个。在本示例性实施方式中,第三像素区域PXA-B可限定为与划分图案BM的开口BM-OP对应。
第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B可透射具有彼此不同的波长的光。在本示例性实施方式中,第一滤色器CF-R可为红色滤色器,第二滤色器CF-G可为绿色滤色器,并且第三滤色器CF-B可为蓝色滤色器。
第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B可包括基础树脂和分散在基础树脂中的染料和/或颜料。第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B可包括不同类型的染料和/或颜料。
光控制层WCL可包括多个堤BK、第一光控制部CCF-R、第二光控制部CCF-G和第三光控制部CCF-B。第一光控制部CCF-R、第二光控制部CCF-G和第三光控制部CCF-B可布置在多个堤BK之间。
第一光控制部CCF-R和第二光控制部CCF-G中的每个可吸收源光并且可生成具有与源光的颜色不同的颜色的光。第一光控制部CCF-R和第二光控制部CCF-G可为光转换层。第一光控制部CCF-R可生成透射过第一滤色器CF-R的光,并且第二光控制部CCF-G可生成透射过第二滤色器CF-G的光。
第一光控制部CCF-R、第二光控制部CCF-G和第三光控制部CCF-B中的每个可包括基础树脂、散射粒子和量子点。散射粒子可散射入射到光控制部中的源光。第三光控制部CCF-B可不具有量子点。
第一光控制部CCF-R和第二光控制部CCF-G中的每个可包括基础树脂以及与基础树脂混合(或分散在其中)的相应的量子点QD1(或QD2)。基础树脂可为分散有量子点QD1和量子点QD2的介质,并且可包括通常被称为粘合剂的各种树脂组合物,然而它不限于此或由此限制。在本公开中,分散有量子点的任何介质均可被称为基础树脂,而与它的名称、附加功能、构成材料等无关。基础树脂可为聚合物树脂。例如,基础树脂可为丙烯酸基树脂、聚氨酯基树脂、硅酮基树脂或环氧基树脂。基础树脂可为透明树脂。
量子点QD1和量子点QD2是改变入射到其的光的波长的粒子。量子点QD1和量子点QD2为具有几纳米尺寸的晶体结构的材料,包含数百至数千个原子,并且展现出能带隙因小尺寸而增加的量子限制效应。当具有比带隙高的能量的波长的光入射到量子点QD1和量子点QD2中时,量子点QD1和量子点QD2吸收光并且被激发,并且然后量子点QD1和量子点QD2发射特定波长的光并且落入基态。发射的特定波长的光具有与带隙对应的值。量子点QD1和量子点QD2可通过调整它们的尺寸和组合物来控制由于量子限制效应而导致的它们的发光属性。
第一光控制部CCF-R可包括第一量子点QD1,并且第二光控制部CCF-G可包括与第一量子点QD1不同的第二量子点QD2。第一量子点QD1可吸收蓝色光并且可生成红色光。第二量子点QD2可吸收蓝色光并且可生成绿色光。
量子点可选自II-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、IV族元素、IV族化合物及其组合。
II-VI族化合物可选自二元化合物、三元化合物以及四元化合物,二元化合物选自由Cds、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe、MgS以及其混合物所构成的集群,三元化合物选自由CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、MgZnSe、MgZnS以及其混合物所构成的集群,四元化合物选自由HgZnTeS、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe以及其混合物所构成的集群。
III-V族化合物可选自二元化合物、三元化合物以及四元化合物,二元化合物选自由GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb以及其混合物所构成的集群,三元化合物选自由GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb以及其混合物所构成的集群,四元化合物选自由GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、GaAlNP以及其混合物所构成的集群。
IV-VI族化合物可选自二元化合物、三元化合物以及四元化合物,二元化合物选自由SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe以及其混合物所构成的集群,三元化合物选自由SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe以及其混合物所构成的集群,四元化合物选自由SnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe以及其混合物所构成的集群。IV族元素可选自由Si、Ge以及其混合物构成的集群。IV族化合物可为选自由SiC、SiGe以及其混合物构成的集群的二元化合物。
在这种情况下,二元化合物、三元化合物或四元化合物可以均匀的浓度存在于多个粒子中,或者可在划分成具有不同浓度的多个部分之后存在于同一粒子中。
每个量子点可具有核-壳结构,该核-壳结构包括核和围绕核的壳。另外,每个量子点可具有核-壳结构,在该核-壳结构中,一个量子点围绕另一量子点。核与壳之间的界面可具有存在于壳中的元素的浓度随着与核的距离的减小而降低的浓度梯度。
量子点可为纳米级粒子。量子点可具有约45nm或更小的发光波长频谱的半峰全宽(Full Width of Half Maximum,FWHM),优选地为约40nm或更小,并且更优选地为约30nm或更小。色纯度和色再现性可在该范围内得到改善。另外,由于通过量子点发射的光可在所有方向上发射,因此可改善光学视角。
另外,量子点的形状为本领域中常用的形状,并且不应受到特别限制。更详细地,球形、金字塔形、多臂或立方的纳米粒子、纳米管、纳米线、纳米纤维、纳米片或类似物可应用于量子点。
第三光控制部CCF-B可透射源光。在示例性实施方式中,第三光控制部CCF-B可透射蓝色光。第三光控制部CCF-B可包括基础树脂并且还可包括散射粒子。散射粒子可为氧化钛(TiO2)粒子或二氧化硅基纳米粒子。
堤BK可包括有机材料。例如,堤BK可包括疏液性有机材料,然而它不应限于此或由此限制。堤BK还可包括无机材料。
上显示衬底200还可包括至少一个覆盖层。例如,第一覆盖层ENL1可覆盖第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B。第一覆盖层ENL1可包括无机层。第一覆盖层ENL1可包括氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的一种。第一覆盖层ENL1还可包括提供平坦的下表面的有机层。
第二覆盖层ENL2可覆盖第一光控制部CCF-R、第二光控制部CCF-G和第三光控制部CCF-B。第二覆盖层ENL2可包括无机层。第二覆盖层ENL2还可包括布置在无机层下方以提供平坦的下表面的有机层。
图3C至图3E是示出根据本公开的示例性实施方式的上显示衬底200的剖面视图。在下文中,与图1A至图3B的元件相同的元件的详细描述将被省略。
图3C示出了沿第一方向DR1布置在相邻的第三像素区域PXA-B之间的遮光区域NPXA。
在示例性实施方式中,多个堤BK可与遮光区域NPXA重叠,并且可包括布置在第二基础衬底BS2上的滤色器层CFL上的第一堤BK1、第二堤BK2和桥接堤BK-C。第一堤BK1、第二堤BK2和桥接堤BK-C可布置成沿第一方向DR1彼此相邻。第一堤BK1、第二堤BK2和桥接堤BK-C可使用相同的材料同时形成。第一堤BK1、第二堤BK2和桥接堤BK-C之间可限定有预定空间SP。
在示例性实施方式中,滤色器层CFL可布置在第二基础衬底BS2上。第一堤BK1、第二堤BK2和桥接堤BK-C可布置在滤色器层CFL上。
桥接堤BK-C可沿第一方向DR1布置在相邻的第一堤BK1与第二堤BK2之间。桥接堤BK-C可布置在第一堤BK1与第二堤BK2之间的中心处,以具有基本上圆形的配置,但是桥接堤BK-C的形状不应限于此或由此限制。桥接堤BK-C的形状可具有多边形。桥接堤BK-C上可布置有包含有机材料的有机材料图案PN,以在平面视图中与桥接堤BK-C重叠。有机材料图案PN可包括遮光材料和树脂中的至少一种。有机材料图案PN可具有遮光性、绝缘性和弹性。
在示例性实施方式中,第二覆盖层ENL2可在有机材料图案PN与第一堤BK1、第二堤BK2和桥接堤BK-C之间布置在第一堤BK1、第二堤BK2和桥接堤BK-C上。有机材料图案PN可与第二覆盖层ENL2直接接触。
有机材料图案PN可在平面视图中布置在第一堤BK1与第二堤BK2之间,并且有机材料图案PN的至少一部分可布置在桥接堤BK-C上,以在平面视图中与桥接堤BK-C重叠。有机材料图案PN可在平面视图中完全覆盖桥接堤BK-C。在下文中,在平面视图中与桥接堤BK-C重叠的有机材料图案PN可被称为“桥接图案CS-PN”。
桥接堤BK-C和桥接图案CS-PN可为保持上显示衬底200与下显示衬底100之间的间隙GP(参照图3B)的柱状间隔物CS。
在示例性实施方式中,柱状间隔物CS可布置在多个像素PX11至PXnm(参照图2)之间,或者可以规则的间隔布置在多个像素PX11至PXnm(参照图2)之间。例如,柱状间隔物CS可沿第一方向DR1以多个像素PX11至PXnm(参照图2)之中的四个像素为单位进行布置,并且可沿第二方向DR2以多个像素PX11至PXnm(参照图2)之中的三个像素为单位进行布置。然而,示例性实施方式不限于此或由此限制,布置有有机材料图案PN的间隔可根据需要来设置,而不受特别限制。
当柱状间隔物CS以规则的间隔布置时,柱状间隔物CS可不布置在一些遮光区域NPXA中。
图3D示出未布置有柱状间隔物CS的遮光区域NPXA。在示例性实施方式中,多个堤BK可包括布置成与遮光区域NPXA重叠的第三堤BK3、第四堤BK4和非桥接堤BK-N。第三堤BK3、第四堤BK4和非桥接堤BK-N可布置成彼此相邻。第一堤BK1、第二堤BK2和桥接堤BK-C可使用相同的材料同时形成。
在示例性实施方式中,滤色器层CFL可布置在第二基础衬底BS2上。第三堤BK3、第四堤BK4和非桥接堤BK-N可布置在滤色器层CFL上。
非桥接堤BK-N可布置在第三堤BK3与第四堤BK4之间。在示例性实施方式中,非桥接堤BK-N可布置在第三堤BK3与第四堤BK4之间的中心处。非桥接堤BK-N上可不布置有有机材料图案。
有机材料图案可不布置在非桥接堤BK-N的上表面上。非桥接堤BK-N可不形成柱状间隔物。
第二覆盖层ENL2可布置在第三堤BK3、第四堤BK4和非桥接堤BK-N上。
图3E示出了布置成与遮光区域NPXA重叠的柱状间隔物CS。
参照图3C至图3E的显示区域DA,桥接堤BK-C可布置在多个像素PX11至PXnm(参照图2)之间。有机材料图案PN可沿第一方向DR1以四个像素为单位进行布置,并且可沿第二方向DR2以三个像素为单位进行布置。依据有机材料图案PN布置的间隔,布置有桥接堤BK-C和有机材料图案PN这两者的部分可用作柱状间隔物CS。
图4是根据本公开的另一示例性实施方式的沿图3A的线III-III'截取的剖面视图。在下文中,与参照图1A至图3E描述的元件相同的元件的详细描述将被省略。
图4示出了根据另一示例性实施方式的未布置有柱状间隔物的遮光区域NPXA。多个堤BK可包括布置成与遮光区域NPXA重叠的第三堤BK3、第四堤BK4和有机材料图案PN'。第三堤BK3和第四堤BK4可布置成彼此相邻。
有机材料图案PN'可布置在第三堤BK3与第四堤BK4之间,并且可布置在第二基础衬底BS2上。详细地,有机材料图案PN'可布置在第三堤BK3与第四堤BK4之间,并且可布置在布置于第二基础衬底BS2上的第二覆盖层ENL2上。
在示例性实施方式中,有机材料图案PN'可具有比第三堤BK3的高度H2和第四堤BK4的高度H3中的每个小的高度H1。在本公开中,高度是基于第二基础衬底BS2的下表面测量的长度。
由于图4中所示的有机材料图案PN'的高度H1小于第三堤BK3的高度H2和第四堤BK4的高度H3中的每个,因此与图3C中所示的有机材料图案PN不同,有机材料图案PN'可不形成柱状间隔物。
参照图4,有机材料图案PN'可布置在多个像素PX11至PXnm(参照图2)之间。桥接堤BK-C(参照图3C)可以规则的间隔布置。例如,桥接堤BK-C(参照图3C)可沿第一方向DR1以四个像素为单位进行布置,并且可沿第二方向DR2以三个像素为单位进行布置。依据布置有桥接堤BK-C(参照图3C)的间隔,布置有桥接堤BK-C(参照图3C)和有机材料图案PN这两者的部分可用作柱状间隔物CS(参照图3C)。另外,如图4中所示,柱状间隔物可不形成在未布置有桥接堤BK-C(参照图3C)和有机材料图案PN中的一个的遮光区域NPXA中。例如,参照图4,因为桥接堤BK-C(参照图3C)未布置在遮光区域NPXA中,并且仅有机材料图案PN'布置在遮光区域NPXA中,因此遮光区域NPXA中未形成有柱状间隔物。
图5A是根据本公开的另一示例性实施方式的沿图3A的线II-II'截取的剖面视图。图5B是根据本公开的另一示例性实施方式的沿图3A的线III-III'截取的剖面视图。参照图5A,有机材料图案PN可布置成在平面视图中与第一堤BK1、桥接堤BK-C和第二堤BK2重叠,并且可布置成不与第三光控制部CCF-B重叠。桥接堤BK-C和桥接图案CS-PN可形成柱状间隔物CS。
在示例性实施方式中,有机材料图案PN可完全填充第一堤BK1、桥接堤BK-C和第二堤BK2之间的预定空间(参照图3C的“SP”)。由于预定空间(参照图3C的“SP”)完全填充有有机材料图案PN,因此可防止在上显示衬底200和下显示衬底100的接合工艺期间生成气泡,并且可改善显示面板DP的可靠性。
参照图5B,有机材料图案PN'可完全填充第三堤BK3与第四堤BK4之间的预定空间(参照图3C的“SP”)。由于预定空间(参照图3C的“SP”)填充有有机材料图案PN',因此可防止在上显示衬底200和下显示衬底100的接合工艺期间生成气泡,并且可改善显示面板DP的可靠性。
图6是示出根据本公开的示例性实施方式的显示面板DP的剖面视图。显示面板DP可包括下显示衬底100和上显示衬底200。由于上显示衬底200可包括柱状间隔物CS,而柱状间隔物CS包括桥接堤BK-C和桥接图案CS-PN,因此可保持下显示衬底100与上显示衬底200之间的间隙。
在根据示例性实施方式的显示面板DP中,布置在遮光区域NPXA中的桥接堤BK-C和布置在桥接堤BK-C上的桥接图案CS-PN可用作柱状间隔物CS,而未形成保持下显示衬底100与上显示衬底200之间的间隙的单独的柱状间隔物。相应地,由于限定在布置在遮光区域NPXA中的桥接堤BK-C与其它堤之间的预定空间,可防止在喷墨工艺期间因误喷射而导致的缺陷,并且可保持下显示衬底100与上显示衬底200之间的间隙,并且因此可改善显示面板DP的可靠性。
图7是示出根据本公开的示例性实施方式的制造显示面板DP的方法的流程图。图8A至图8H是示出根据本公开示例性实施方式的制造显示面板DP的方法的视图。
参照图7,显示面板DP的制造方法(S10)可包括:制备基础衬底(S100);在基础衬底上形成滤色器层(S200);在滤色器层上形成堤(S300);在堤之中的一些堤之间形成光控制部(S400);以及在堤之中的一些堤之间提供并固化有机组合物以形成有机材料图案(S500)。
参照图7、图8A和图8B,制备基础衬底BS(S100)可包括制备合成树脂衬底或玻璃衬底。尽管未在图中示出,但是在基础衬底BS上形成滤色器层CFL(S200)可包括在基础衬底BS上形成划分图案BM(参照图3B)、第一滤色器CF-R(参照图3B)、第二滤色器CF-G(参照图3B)、以及第三滤色器CF-B(参照图3B)。
参照图7和图8C,在滤色器层CFL上形成多个堤BK(S300)可包括在滤色器层CFL上形成第十一堤BK11、第十二堤BK12、第十三堤BK13、第十四堤BK14和第十五堤BK15。
参照图7和图8D,形成光控制部CCF1和光控制部CCF2(S400)可包括在第十一堤BK11与第十二堤BK12之间形成光控制部CCF1,以及在第十四堤BK14与第十五堤BK15之间形成光控制部CCF2。光控制部CCF1和光控制部CCF2可包括基础树脂和功能材料FN。功能材料FN可包括散射粒子和量子点中的至少一种。光控制部CCF1和光控制部CCF2可通过照射紫外线光UV以固化通过喷墨方法提供的墨而获得。
参照图7和图8E,在形成光控制部CCF1和光控制部CCF2之后,还可执行在光控制部CCF1和光控制部CCF2以及多个堤BK上形成覆盖层ENL的工艺。
覆盖层ENL可保护光控制部CCF1和光控制部CCF2免受外部氧和/或湿气的影响。
参照图7、图8F和图8G,在多个堤BK之中的一些堤之间提供并固化有机组合物CS-O以形成有机材料图案PN(S500)可包括形成有机组合物CS-O以覆盖第十二堤BK12、第十三堤BK13和第十四堤BK14。有机组合物CS-O可与第十二堤BK12、第十三堤BK13、第十四堤BK14重叠,并且可不与光控制部CCF1和光控制部CCF2重叠。
有机组合物CS-O可包括遮光材料和树脂中的至少一种,然而示例性实施方式不应限于此或由此限制。有机组合物CS-O还可包括固化引发剂。有机组合物CS-O可因向其照射的紫外线光UV而固化。经固化的有机组合物CS-O可形成有机材料图案PN。有机材料图案PN可与第十二堤BK12、第十三堤BK13、第十四堤BK14重叠,并且可不与光控制部CCF1和光控制部CCF2重叠。
第十三堤BK13可为上述的桥接堤BK-C。与第十三堤BK13重叠的有机材料图案PN可为桥接图案CS-PN(参照图3C)。包括第十三堤BK13和桥接图案CS-PN的柱状间隔物CS可通过固化有机组合物CS-O来形成。
参照图7和图8H,在形成有机材料图案PN(S500)之后还可执行将下显示衬底100附接到上显示衬底200的工艺。下显示衬底100与上显示衬底200之间可布置有粘合层FL。粘合层FL可包括有机材料或无机材料。
柱状间隔物CS可具有绝缘性和弹性,并且因此可保持下显示衬底100与上显示衬底200之间的间隙。图8H中的下显示衬底100可与参照图3B描述的下显示衬底100基本上相同。
根据显示面板的制造方法,有机材料图案可布置在桥接堤上以允许桥接堤和桥接图案用作柱状间隔物。由于不单独地形成柱状间隔物,因此在显示面板中空间可被确保,并且因此,由于确保的空间,可防止因墨水的误喷射而导致的缺陷。柱状间隔物可保持上显示衬底与下显示衬底之间的间隙,并且可具有经改善的可靠性。
虽然已描述了本公开的示例性实施方式,但是将理解的是,本公开不应限于这些示例性实施方式,而是本领域普通技术人员能在如随附的权利要求书所要求的本公开的精神和范围内进行各种改变和修改。
因此,所公开的主题不应限于本文中所描述的任何单个实施方式,并且本发明概念的范围应根据随附的权利要求书来确定。

Claims (15)

1.一种显示面板,包括:
上显示衬底,所述上显示衬底包括第一像素区域、第二像素区域、第三像素区域以及围绕所述第一像素区域、所述第二像素区域和所述第三像素区域的遮光区域;以及
下显示衬底,所述下显示衬底包括发光元件,
其中,所述上显示衬底包括:
基础衬底;
第一堤,所述第一堤与所述遮光区域重叠并且布置在所述基础衬底上;
第二堤,所述第二堤与所述遮光区域重叠并且布置在所述基础衬底上;
桥接堤,所述桥接堤在所述第一堤与所述第二堤之间布置在所述基础衬底上;以及
有机材料图案,所述有机材料图案的至少一部分布置在所述桥接堤上。
2.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述有机材料图案布置在所述第一堤与所述第二堤之间并且覆盖所述桥接堤。
3.如权利要求1所述的显示面板,其中,在平面视图中,布置在所述桥接堤上的所述有机材料图案的所述至少一部分与所述桥接堤重叠。
4.如权利要求1所述的显示面板,还包括:
光控制部,在平面视图中所述光控制部与所述第一像素区域重叠并且布置成与所述第一堤相邻,其中,所述光控制部包括散射粒子和量子点中的至少一种。
5.如权利要求4所述的显示面板,其中,所述有机材料图案与所述第一堤、所述桥接堤和所述第二堤重叠,并且不与所述光控制部重叠。
6.如权利要求4所述的显示面板,其中,所述光控制部透射由所述发光元件生成的源光或者转换所述源光的波长。
7.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述有机材料图案的与所述桥接堤重叠的部分布置成最靠近所述下显示衬底。
8.如权利要求1所述的显示面板,还包括:
覆盖层,所述覆盖层布置在所述桥接堤与所述有机材料图案之间。
9.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述有机材料图案包括遮光材料和树脂中的至少一种。
10.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述上显示衬底还包括:
滤色器层,所述滤色器层布置在所述基础衬底与所述第一堤之间,所述滤色器层包括:
第一滤色器,所述第一滤色器与所述第一像素区域重叠;
第二滤色器,所述第二滤色器与所述第二像素区域重叠并且透射具有与透射过所述第一滤色器的光的波长不同的波长的光;以及
第三滤色器,所述第三滤色器与所述第三像素区域重叠并且透射具有与透射过所述第一滤色器的所述光的所述波长和透射过所述第二滤色器的所述光的所述波长中的每个不同的波长的光。
11.如权利要求1所述的显示面板,还包括:
第三堤,所述第三堤布置在所述基础衬底上;
第四堤,所述第四堤布置在所述基础衬底上;以及
非桥接堤,所述非桥接堤布置在所述第三堤与所述第四堤之间,其中,所述非桥接堤不与所述有机材料图案重叠。
12.如权利要求1所述的显示面板,还包括:
第三堤,所述第三堤布置在所述基础衬底上;以及
第四堤,所述第四堤布置在所述基础衬底上,其中,所述有机材料图案布置在所述第三堤与所述第四堤之间,并且所述有机材料图案具有比所述第三堤和所述第四堤中的每个的高度低的高度。
13.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述上显示衬底包括:
显示区域,所述显示区域与所述第一像素区域、所述第二像素区域和所述第三像素区域以及所述遮光区域重叠;以及
非显示区域,所述非显示区域围绕所述显示区域,并且
其中,所述有机材料图案与所述显示区域重叠。
14.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述发光元件发射蓝色光。
15.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述第一像素区域、所述第二像素区域和所述第三像素区域分别提供红色光、绿色光和蓝色光。
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