CN218059193U - 一种喷气面积增大的气相沉积炉 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000002347 injection Methods 0.000 title claims description 17
- 239000007924 injection Substances 0.000 title claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 26
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 121
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000003863 physical function Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型提供了一种喷气面积增大的气相沉积炉,涉及化工设备技术领域,该气相沉积炉包括炉体,炉体的内腔设为沉积腔,沉积腔内设气体喷头导管,气体喷头导管与气体导管连通,气体导管置于炉体的外部,气体喷头导管上设有从各个角度向沉积腔喷射的若干个气体扩散喷头,气体扩散喷头与气体喷头导管导通。本实用新型的气体扩散喷头能够从各个角度向沉积腔喷射气体,可将气体大面积均匀喷出,实现气体与待处理高温材料的充分反应,克服了气体与待处理高温材料反应不均匀导致的材料损坏的缺陷。
Description
技术领域
本实用新型涉及化工设备技术领域,尤其是涉及一种喷气面积增大的气相沉积炉。
背景技术
化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。目前,化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。
随着工业生产要求的不断提高,气相沉积工艺及设备得到不断改进,现已获得了更多新的膜层,并大大提高了膜层的性能和质量。与此同时交叉、综合地使用复合的方法,不仅启用了各种新型的加热源,还充分运用了各种化学反应、高频电磁(脉冲、射频、微波等)及等离子体等效应来激活沉积离子,成为技术创新的重要途径。
但是气相沉积炉内的气体与待处理材料的反应不均匀,导致材料损坏成为了本领域技术人员亟待解决的技术问题。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的目的在于提供一种喷气面积增大的气相沉积炉,以解决现有技术中气相沉积炉的气体与待处理材料的反应不均匀,导致材料损坏的技术问题。
为了实现上述目的,本实用新型提供了一种喷气面积增大的气相沉积炉,包括炉体,所述炉体的内腔设为沉积腔,所述沉积腔内设气体喷头导管,所述气体喷头导管与气体导管连通,所述气体导管置于所述炉体的外部,所述气体喷头导管上设有从各个角度向所述沉积腔喷射的若干个气体扩散喷头,所述气体扩散喷头与所述气体喷头导管导通。
根据一种可选实施方式,所述炉体包括可隔热的外壁和盖板,所述外壁设为顶端开口的腔体结构,所述盖板可拆卸地盖设于所述外壁的开口上,所述气体喷头导管置于所述外壁的内腔中。
根据一种可选实施方式,所述外壁的下方设有用于支撑所述外壁的底座,所述底座上设有向所述外壁的内腔延伸的固定立柱,所述固定立柱的自由端置于所述外壁的内腔中,用于固定待处理高温材料。
根据一种可选实施方式,所述气体喷头导管沿着所述外壁的内腔的内壁设置。
根据一种可选实施方式,还包括进气仓,所述气体导管设于所述进气仓与所述气体喷头导管之间,且与所述进气仓与所述气体喷头导管导通。
根据一种可选实施方式,所述气体导管穿过所述外壁连接所述气体喷头导管和所述进气仓。
根据一种可选实施方式,所述气体导管上设有气体加热器。
根据一种可选实施方式,所述进气仓上连接有若干个进气管。
根据一种可选实施方式,所述进气仓内设电动机和风扇,所述电动机置于所述进气仓的顶壁上,且与所述风扇驱动连接。
根据一种可选实施方式,所述气体扩散喷头呈圆锥状,且表面设有若干个喷射孔。
本实用新型提供的喷气面积增大的气相沉积炉,具有以下技术效果:
该种喷气面积增大的气相沉积炉,主要由炉体构成,炉体的内腔设为沉积腔,沉积腔用于容置待处理高温材料,沉积腔内还设有气体喷头导管,气体喷头导管与气体导管连通,气体导管置于炉体的外部,用于为气体喷头导管供气,气体喷头导管上设有若干个气体扩散喷头,气体扩散喷头与气体喷头导管导通,本实用新型的气体扩散喷头能够从各个角度向沉积腔喷射气体,可将气体大面积均匀喷出,实现气体与待处理高温材料的充分反应,克服了气体与待处理高温材料反应不均匀导致的材料损坏的缺陷。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型一实施例气相沉积炉的结构示意图;
图2是图1中气相沉积炉的气体扩散喷头的立体结构示意图。
其中,图1-图2:
1、炉体;11、外壁;12、盖板;13、沉积腔;14、气体喷头导管;15、气体扩散喷头;151、喷射孔;
2、底座;3、固定立柱;4、待处理高温材料;
5、气体导管;51、气体加热器;
6、进气仓;61、进气管;62、电动机;63、风扇。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本实用新型的技术方案进行详细的描述。显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式,都属于本实用新型所保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上;术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可视具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
正如背景技术所述,随着工业生产要求的不断提高,气相沉积工艺及设备得到不断改进,现已获得了更多新的膜层,并大大提高了膜层的性能和质量。与此同时交叉、综合地使用复合的方法,不仅启用了各种新型的加热源,还充分运用了各种化学反应、高频电磁(脉冲、射频、微波等)及等离子体等效应来激活沉积离子,成为技术创新的重要途径。但是气相沉积炉内的气体与待处理材料的反应不均匀,导致材料损坏。
基于此,本实用新型提供了一种喷气面积增大的气相沉积炉,主要由炉体构成,炉体的内腔设为沉积腔,沉积腔用于容置待处理高温材料,沉积腔内还设有气体喷头导管,气体喷头导管与气体导管连通,气体导管置于炉体的外部,用于为气体喷头导管供气,气体喷头导管上设有若干个气体扩散喷头,气体扩散喷头与气体喷头导管导通,气体扩散喷头能够从各个角度向沉积腔喷射气体,可将气体大面积均匀喷出,实现气体与待处理高温材料的充分反应,克服了气体与待处理高温材料反应不均匀导致的材料损坏的缺陷。
下面结合具体的附图1和图2对本实用新型的技术方案进行详细的说明。
如图1所述,为本实用新型提供的气相沉积炉的结构示意图,该气相沉积炉包括炉体1,炉体1具有内腔,该内腔为沉积腔13,沉积腔13内可放置待处理高温材料4。沉积腔13内还设有气体喷头导管14,气体喷头导管14沿着沉积腔13的内壁设置,即沉积腔13内的前后左右四个面上均具有气体喷头导管14,气体喷头导管14上设有若干个气体扩散喷头15,气体扩散喷头15与气体喷头导管14导通,如图1所示,气体喷头导管14上包括四个气体扩散喷头15,分别位于上、下、左和右的气体喷头导管14上,四个气体扩散喷头15均朝着沉积腔13的中心方向喷射,实现气体的大面积均匀喷出。
其中,如图2所示,气体扩散喷头15优选为圆锥状,但是不局限于圆锥形,还可以是其它形状,只要能够实现气体大面积均匀喷出,均在本实用新型的保护范围之内。
气体扩散喷头15表面设有若干个喷射孔151,若干个喷射孔151可将气体大面积均匀向沉积腔13喷出,使气体与置于沉积腔13内的待处理高温材料4充分反应。
如图1所示,气体喷头导管14与气体导管5连通,气体导管5置于炉体1的外部,通过气体导管5为气体喷头导管14供气。
具体的,如图1所示,炉体1包括可隔热的外壁11和盖板12,外壁11设为顶端开口的腔体结构,该腔体结构即为沉积腔13,盖板12可拆卸地盖设于外壁11的开口上,在置于沉积腔13内的材料沉积结束后,可打开盖板12更换已反应完后的材料以及进行沉积腔13排气。
如图1所示,外壁11的下方设有底座2,即底座2位于炉体1的下方,底座2的作用在于支撑、稳固外壁11;底座2上还设有向外壁11的内腔延伸的固定立柱3,固定立柱3的自由端置于外壁11的内腔中,固定立柱3的作用在于固定待处理高温材料4。
为了适时为沉积腔13供气,如图1所示,还包括进气仓6,进气仓6与沉积腔13相邻设置,气体导管5设于进气仓6与气体喷头导管14之间,气体导管5穿过外壁11连接气体喷头导管14和进气仓6,并且同时进气仓6与气体喷头导管14导通,置于进气仓6内的气体经过气体导管5能够进入气体喷头导管14内,在通过气体扩散喷头15向沉积腔13喷射气体。
如图1所示,在气体导管5上设有气体加热器51,当气体通过时可预加热气体,在一定程度上防止低温气体直吹高温材料。
如图1所示,进气仓6上连接有若干个进气管61,本实施例优选为3个,3个进气管61从上到下依次设置,通过三个进气管61为进气仓6供气,操作人员还可根据实际情况选择通入气体的种类,也可关闭其中的某个进气管61,只让一种气体进入。
如图1所示,进气仓6的顶壁上还设有一个电动机62以及与电动机62相连接的风扇63,电动机62与风扇63驱动连接,风扇63在电动机62的驱动下,转动时可混合进气仓6中的通过进气管61进入的各种气体,同时加速气体的传递。
本实施例提供的一种气相沉积炉,操作人员根据实际需要,选择要通入的一种或几种气体,气体通过进气管61进入进气仓6,此时启动电动机62,电动机62驱动风扇63旋转,旋转的风扇63可混合进气仓6中的气体,并加速气体的传输,接着气体经过气体导管5和气体喷头导管14进入沉积腔13,气体再通过气体导管5时会被气体导管5上的气体加热器51进行预加热,防止到达沉积腔13的气体温度相较于待处理材料温度过低,当气体到达气体扩散喷头15时会从喷头的多个喷射孔151均匀喷出,来与待处理材料反应,形成沉积膜,之后停止进气,打开盖板12,将处理好的材料取出放入下一个待处理材料以及对沉积腔13内进行排气之后关闭盖板12,便完成了一次气相沉积操作。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种喷气面积增大的气相沉积炉,包括炉体,所述炉体的内腔设为沉积腔,其特征在于,所述沉积腔内设气体喷头导管,所述气体喷头导管与气体导管连通,所述气体导管置于所述炉体的外部,所述气体喷头导管上设有从各个角度向所述沉积腔喷射的若干个气体扩散喷头,所述气体扩散喷头与所述气体喷头导管导通。
2.根据权利要求1所述的喷气面积增大的气相沉积炉,其特征在于,所述炉体包括可隔热的外壁和盖板,所述外壁设为顶端开口的腔体结构,所述盖板可拆卸地盖设于所述外壁的开口上,所述气体喷头导管置于所述外壁的内腔中。
3.根据权利要求2所述的喷气面积增大的气相沉积炉,其特征在于,所述外壁的下方设有用于支撑所述外壁的底座,所述底座上设有向所述外壁的内腔延伸的固定立柱,所述固定立柱的自由端置于所述外壁的内腔中,用于固定待处理高温材料。
4.根据权利要求2所述的喷气面积增大的气相沉积炉,其特征在于,所述气体喷头导管沿着所述外壁的内腔的内壁设置。
5.根据权利要求2-4任一所述的喷气面积增大的气相沉积炉,其特征在于,还包括进气仓,所述气体导管设于所述进气仓与所述气体喷头导管之间,且与所述进气仓与所述气体喷头导管导通。
6.根据权利要求5所述的喷气面积增大的气相沉积炉,其特征在于,所述气体导管穿过所述外壁连接所述气体喷头导管和所述进气仓。
7.根据权利要求5所述的喷气面积增大的气相沉积炉,其特征在于,所述气体导管上设有气体加热器。
8.根据权利要求5所述的喷气面积增大的气相沉积炉,其特征在于,所述进气仓上连接有若干个进气管。
9.根据权利要求5所述的喷气面积增大的气相沉积炉,其特征在于,所述进气仓内设电动机和风扇,所述电动机置于所述进气仓的顶壁上,且与所述风扇驱动连接。
10.根据权利要求1所述的喷气面积增大的气相沉积炉,其特征在于,所述气体扩散喷头呈圆锥状,且表面设有若干个喷射孔。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202221312737.3U CN218059193U (zh) | 2022-05-17 | 2022-05-17 | 一种喷气面积增大的气相沉积炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202221312737.3U CN218059193U (zh) | 2022-05-17 | 2022-05-17 | 一种喷气面积增大的气相沉积炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN218059193U true CN218059193U (zh) | 2022-12-16 |
Family
ID=84432250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202221312737.3U Active CN218059193U (zh) | 2022-05-17 | 2022-05-17 | 一种喷气面积增大的气相沉积炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114855147A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-08-05 | 天津得瑞伯机电设备有限公司 | 一种喷气面积增大的气相沉积炉 |
-
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114855147A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-08-05 | 天津得瑞伯机电设备有限公司 | 一种喷气面积增大的气相沉积炉 |
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