CN218052008U - 一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备，涉及铜瓦加工设备技术领域，包括工作台，所述工作台的顶部设置有夹持机构，所述夹持机构包括有螺纹杆，所述工作台的顶部开设有两个固定孔，所述固定孔的内壁转动连接有螺纹杆，所述螺纹杆的顶端固定连接有控制管，所述螺纹杆的外表面螺纹套设有螺纹盘。本实用新型，压板通过滑杆与滑孔从而使压板无法转动，从而使螺纹盘不会随着螺纹杆转动而转动，通过螺纹杆转动带动第一软垫移动，此时通过第一软垫可以对铜瓦进行夹持，通过螺纹杆在不转动的情况下螺纹盘不会移动的效果，使第一软垫可以对铜瓦进行稳定夹持，解决现有的技术中铜瓦在打磨过程中出现偏移现象。
Description
技术领域
本实用新型涉及铜瓦加工设备技术领域，尤其涉及一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备。
背景技术
现有的铜瓦在生产出来之后，需要进行打磨抛光，需要采用抛光设备进行抛光，然而在对铜瓦进行抛光时，由于抛光砂轮与铜瓦接触，通过摩擦力就会导致铜瓦发生移动，但是现有的部分抛光设备不具备夹持定位效果好的机构，从而会导致铜瓦在打磨过程中出现偏移现象，降低了加工效率，给人们带来极大的困扰。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，现有的部分抛光设备不具备夹持定位效果好的机构，从而会导致铜瓦在打磨过程中出现偏移现象，降低了加工效率的问题。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备，包括工作台，所述工作台的顶部设置有夹持机构，所述夹持机构包括有螺纹杆，所述工作台的顶部开设有两个固定孔，所述固定孔的内壁转动连接有螺纹杆，所述螺纹杆的顶端固定连接有控制管，所述螺纹杆的外表面螺纹套设有螺纹盘，所述螺纹盘的一侧固定连接有压板，所述压板的底部开设有滑槽，所述滑槽的内壁滑动连接有滑动壳，所述滑动壳的底部设置有调节机构，所述调节机构的一侧设置有固定板，所述固定板的底部固定连接有第一软垫，所述工作台的底部固定连接有支架。
作为一种优选的实施方式，所述滑槽的内部顶面固定连接有多个伸缩杆。
采用上述进一步方案的技术效果是：通过伸缩杆可以对滑动壳进行限位，增加设备的结构稳定性。
作为一种优选的实施方式，所述伸缩杆的底端与滑动壳的内部底面固定连接。
采用上述进一步方案的技术效果是：通过伸缩杆可以对弹簧进行保护，增加设备的使用寿命。
作为一种优选的实施方式，所述滑槽的内部顶面固定连接有多个弹簧。
采用上述进一步方案的技术效果是：通过滑槽可以对弹簧进行固定，增加设备的结构稳定性。
作为一种优选的实施方式，所述弹簧的底端与滑动壳的内部底面固定连接。
采用上述进一步方案的技术效果是：通过弹簧可以赋予固定板一个缓冲效果，当第一软垫与铜瓦接触时，可以通过弹簧进行缓冲，使第一软垫与铜瓦接触时，铜瓦受力时更加缓慢。
作为一种优选的实施方式，所述工作台的顶部开设有多个滑孔，所述滑孔的内壁滑动连接有滑杆，所述滑杆的顶端与压板的底部固定连接。
采用上述进一步方案的技术效果是：通过滑杆可以防止压板转动，增加设备的结构稳定性。
与现有技术相比，本实用新型的优点和积极效果在于，
1、本实用新型中，压板通过滑杆与滑孔从而使压板无法转动，从而使螺纹盘不会随着螺纹杆转动而转动，通过螺纹杆转动带动第一软垫移动，此时通过第一软垫可以对铜瓦进行夹持，通过螺纹杆在不转动的情况下螺纹盘不会移动的效果，使第一软垫可以对铜瓦进行稳定夹持，解决现有的技术中铜瓦在打磨过程中出现偏移现象。
2、本实用新型中，当对不同大小的铜瓦进行夹持时，控制两个转动板和滑动架进行调节，此时就可以调节第一软垫的位置，从而可以对不同大小的铜瓦进行夹持，增加设备的工作效率。
附图说明
图1为本实用新型提供的一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备的立体图；
图2为本实用新型提供的一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备的夹持机构处的爆炸立体图；
图3为本实用新型提供的一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备的滑槽处的结构仰视立体图；
图4为本实用新型提供的一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备的滑槽处的结构仰视爆炸立体图。
图例说明：
1、工作台；2、夹持机构；3、支架；
21、固定孔；22、螺纹杆；23、控制管；24、螺纹盘；25、压板；26、滑杆；27、滑孔；28、滑槽；29、调节机构；210、伸缩杆；211、弹簧；212、滑动壳；213、固定板；214、第一软垫；
291、连接板；292、滑动槽；293、转动板；294、滑动架；295、第二软垫。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例1
如图1-4所示，本实用新型提供一种技术方案：一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备，包括工作台1，工作台1的顶部设置有夹持机构2，夹持机构2包括有螺纹杆22，工作台1的顶部开设有两个固定孔21，固定孔21的内壁转动连接有螺纹杆22，螺纹杆22的顶端固定连接有控制管23，螺纹杆22的外表面螺纹套设有螺纹盘24，螺纹盘24的一侧固定连接有压板25，压板25的底部开设有滑槽28，滑槽28的内壁滑动连接有滑动壳212，滑动壳212的底部设置有调节机构29，调节机构29的一侧设置有固定板213，固定板213的底部固定连接有第一软垫214，工作台1的底部固定连接有支架3，滑槽28的内部顶面固定连接有多个伸缩杆210，伸缩杆210的底端与滑动壳212的内部底面固定连接，滑槽28的内部顶面固定连接有多个弹簧211，弹簧211的底端与滑动壳212的内部底面固定连接，通过弹簧211可以赋予固定板213一个缓冲效果，当第一软垫214与铜瓦接触时，可以通过弹簧211进行缓冲，使第一软垫214与铜瓦接触时，铜瓦受力时更加缓慢，工作台1的顶部开设有多个滑孔27，滑孔27的内壁滑动连接有滑杆26，滑杆26的顶端与压板25的底部固定连接，通过滑杆26可以防止压板25转动，增加设备的结构稳定性。
在本实施例中，在使用中，把铜瓦放在工作台1的顶部，然后转动控制管23，控制管23转动带动螺纹杆22转动，而由于压板25通过滑杆26与滑孔27从而使压板25无法转动，从而使螺纹盘24不会随着螺纹杆22转动而转动，此时螺纹杆22转动带动螺纹盘24移动，螺纹盘24移动带动压板25移动，压板25移动带动滑动壳212移动，滑动壳212移动带动调节机构29移动，调节机构29移动带动固定板213移动，固定板213移动带动第一软垫214移动，此时通过第一软垫214可以对铜瓦进行夹持，通过螺纹杆22在不转动的情况下螺纹盘24不会移动的效果，使第一软垫214可以对铜瓦进行稳定夹持，解决现有的技术中铜瓦在打磨过程中出现偏移现象，降低了加工效率的问题，当抛光完成之后，此时通过转动控制管23带动螺纹杆22转动，螺纹杆22转动带动第一软垫214远离铜瓦，此时就可以取出抛光完成之后铜瓦。
实施例2
如图3-4所示，调节机构29包括有连接板291，连接板291的顶部与压板25的底部固定连接，连接板291的底部开设有滑动槽292，滑动槽292的内壁滑动连接有滑块，且滑块的底部转动连接有转动板293，转动板293的一侧开设有两个滑动孔，且两个滑动孔的内壁之间滑动连接有滑动架294，滑动架294的一侧与固定板213的一侧固定连接。
在本实施例中，在使用中，当对不同大小的铜瓦进行夹持时，此时控制两个转动板293进行调节带动滑动架294移动，滑动架294移动带动固定板213移动，此时就可以调节第一软垫214的位置，而控制滑动架294移动还可以带动固定板213移动，从而可以对不同大小的铜瓦进行夹持，控制转动板293转动可以把固定板213转动至与连接板291对齐，然后通过转动板293、固定板213、第一软垫214和第二软垫295可以对最大号的铜瓦进行夹持。
工作原理：
如图1-4所示，在使用中，把铜瓦放在工作台1的顶部，然后转动控制管23，控制管23转动带动螺纹杆22转动，螺纹杆22转动带动螺纹盘24移动，螺纹盘24移动带动压板25移动，压板25移动带动滑动壳212移动，滑动壳212移动带动调节机构29移动，调节机构29移动带动固定板213移动，固定板213移动带动第一软垫214移动，此时通过第一软垫214可以对铜瓦进行夹持，当对不同大小的铜瓦进行夹持时，此时控制两个转动板293进行调节带动滑动架294移动，滑动架294移动带动固定板213移动，此时就可以调节第一软垫214的位置，而控制滑动架294移动还可以带动固定板213移动，从而可以对不同大小的铜瓦进行夹持。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非是对本实用新型作其他形式的限制，任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例应用于其他领域，但是凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本实用新型技术方案的保护范围。
Claims (6)
1.一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的顶部设置有夹持机构(2)，所述夹持机构(2)包括有螺纹杆(22)，所述工作台(1)的顶部开设有两个固定孔(21)，所述固定孔(21)的内壁转动连接有螺纹杆(22)，所述螺纹杆(22)的顶端固定连接有控制管(23)，所述螺纹杆(22)的外表面螺纹套设有螺纹盘(24)，所述螺纹盘(24)的一侧固定连接有压板(25)，所述压板(25)的底部开设有滑槽(28)，所述滑槽(28)的内壁滑动连接有滑动壳(212)，所述滑动壳(212)的底部设置有调节机构(29)，所述调节机构(29)的一侧设置有固定板(213)，所述固定板(213)的底部固定连接有第一软垫(214)，所述工作台(1)的底部固定连接有支架(3)。
2.根据权利要求1所述的一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备，其特征在于：所述滑槽(28)的内部顶面固定连接有多个伸缩杆(210)。
3.根据权利要求2所述的一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备，其特征在于：所述伸缩杆(210)的底端与滑动壳(212)的内部底面固定连接。
4.根据权利要求2所述的一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备，其特征在于：所述滑槽(28)的内部顶面固定连接有多个弹簧(211)。
5.根据权利要求4所述的一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备，其特征在于：所述弹簧(211)的底端与滑动壳(212)的内部底面固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种铜瓦加工用表面打磨抛光设备，其特征在于：所述工作台(1)的顶部开设有多个滑孔(27)，所述滑孔(27)的内壁滑动连接有滑杆(26)，所述滑杆(26)的顶端与压板(25)的底部固定连接。
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Denomination of utility model: A surface polishing equipment for copper tile processing Granted publication date: 20221216 Pledgee: Agricultural Bank of China Limited Ruijin City Branch Pledgor: RUIJIN CHEMICAL MACHINE CO.,LTD. JIANGXI Registration number: Y2024980003575 |
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