CN217936158U - 膜层组件、壳体及电子设备 - Google Patents

Abstract

本公开是关于一种膜层组件、壳体及电子设备，膜层组件包括膜层组件包括基材、阳极氧化膜，阳极氧化膜设置于所述基材的表面；阳极氧化膜上具有预设图案和多个凹孔，其中，预设图案由纳米级颜料制成，纳米级颜料分别设置于多个凹孔内，使预设图案形成于膜层组件的表面，提升膜层组件的质感与美观性，满足用户的需求，提升了膜层组件的市场竞争力。

Description

膜层组件、壳体及电子设备

技术领域

本公开涉及电子设备技术领域，尤其涉及一种膜层组件、壳体及电子设备。

背景技术

随着科技的发展，手机等电子设备的功能越来越丰富，成为人们的日常生活中必备的电子产品之一。为了适应市场的需求以及迎合个性化的趋势，电子产品的生产厂商不断优化电子设备的美观度，以提升电子设备的视觉效果。但是，面对越发激烈的市场竞争，电子设备所呈现的视觉效果依然无法满足用户不断进化的需求，电子设备的发展依然面临严峻的考验。

实用新型内容

为克服相关技术中存在的问题，本公开提供了一种膜层组件、壳体及电子设备。

根据本公开实施例的第一方面，提供了一种膜层组件，所述膜层组件包括基材、阳极氧化膜，所述阳极氧化膜设置于所述基材的表面；

所述阳极氧化膜上具有预设图案和多个凹孔；其中，所述预设图案由纳米级颜料制成，所述纳米级颜料分别设置于多个所述凹孔内。

可选地，所述基材为铝合金。

可选地，所述阳极氧化膜包括阻挡层和氧化层，所述阻挡层设置在所述基材上，所述氧化层设置在所述阻挡层远离基材一侧的表面，所述氧化层远离基材一侧的表面上形成有凹孔和预设图案。

可选地，所述氧化层的厚度大于所述阻挡层的厚度。

可选地，封孔状态下，所述凹孔位于所述氧化层表面的孔径尺寸为15nm-20nm。

可选地，所述阳极氧化膜由三氧化二铝材料制成。

可选地，所述预设图案包括渐变色图案、定制图案、纹理图案中的任一种或者任几种。

可选地，所述渐变色图案沿所述壳体的厚度方向进行渐变，和/或，所述渐变色图案沿所述壳体的第一方向进行渐变；

其中，所述第一方向和所述厚度方向垂直。

根据本公开实施例的第二方面，提供了一种壳体，所述壳体包括如上所述的膜层组件。

根据本公开实施例的第三方面，提供了一种电子设备，所述电子设备包括如上所述的壳体，所述壳体为中框和/或摄像头装饰件。

可选地，所述电子设备还包括屏幕，当所述壳体为中框时，沿着远离屏幕的方向，所述壳体的侧部由深至浅渐变。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：本公开中的预设图案由纳米级颜料制成，纳米级颜料分别设置于多个凹孔内，使预设图案形成于壳体的表面，提升膜层组件的质感与美观性，满足用户的需求，提升了膜层组件的市场竞争力。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本实用新型的实施例，并与说明书一起用于解释本实用新型的原理。

图1是根据一示例性实施例示出的膜层组件的截面示意图。

图2是根据一示例性实施例示出的膜层组件加工的示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本实用新型相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本实用新型的一些方面相一致的装置和方法的例子。

相关技术中，随着电子产品行业的不断发展，支持电子设备功能的模块越来越多，电子设备的整机结构也随之增大，不利于电子设备的薄型化设计，使电子产品失去了市场竞争力。为了满足多样化的应用，提升电子设备的视觉感受，电子产品的生产厂商提出了渐变设计理念，使电子设备从用户的视觉角度，看起来更加纤薄。

目前，技术更新迭代较快，新的外观工艺层出不穷，常规的技术手段是将壳体的目标区域浸入染色液内，以对目标区域进行渐变染色。但是，染色液的任何波动或波纹等不稳定的因素，均会使壳体产生渐变模糊不清等问题，降低了壳体加工的良率，提高了壳体加工的损耗成本。

本公开提供了一种膜层组件、壳体及电子设备，膜层组件包括膜层组件包括基材、阳极氧化膜，阳极氧化膜设置于所述基材的表面；阳极氧化膜上具有预设图案和多个凹孔，其中，预设图案由纳米级颜料制成，纳米级颜料分别设置于多个凹孔内，使预设图案形成于膜层组件的表面，提升膜层组件的质感与美观性，满足用户的需求，提升了膜层组件的市场竞争力。

在一个示例性实施例中，如图1所示，一种膜层组件，膜层组件可以设置于电子设备的中框、电子设备的后壳、摄像头装饰件等。

膜层组件包括基材1和阳极氧化膜2，基材2为铝合金，提升了膜层组件的金属质感，满足用户对外观的需求。阳极氧化膜2设置于基材1的表面，沿膜层组件的厚度方向(参照图1所示的Z轴)，阳极氧化膜2通过阳极氧化处理的方式形成于与基材1层叠设置。其中，阳极氧化膜2上具有多个凹孔22。

阳极氧化处理之前，需要对基材1进行除油处理。将基材1浸入至清洗液内，对其进行除油清洗，以便于进行下一工艺步骤，避免基材1的表面残留其它异物，保证膜层组件的染色工序的正常进行。

其中，清洗液为AY121清洗剂，当清洗过程中，清洗液的温度可以是50℃，并进行气动搅拌3min-5min，以便于提升除油效果。

当对基材1进行阳极氧化处理时，将基材1浸入至酸液内，施加第一预设电压并持续第二预设时长，腐蚀基材1的表面，以形成阳极氧化膜2，阳极氧化膜2的表面能够形成多个凹孔22。

其中，若基材1的表面采用抛光素材，进行阳极氧化处理时，则酸液比如可以是浓度为180g/L-200g/L的硫酸，第一预设电压为12.5V，第二预设时长为50min-60min，且酸液的环境温度为17℃-20℃，使多个凹孔22分布均匀，染色一致性较好。

其中，若基材1的表面采用喷砂素材，进行阳极氧化处理时，则酸液比如可以是浓度为200g/L-220g/L的硫酸，第一预设电压为13.5V，第二预设时长为45min-55min，且酸液的环境温度为18℃-21℃，有利于快速形成多个凹孔22，获得较高的深度、孔隙率和较大的孔径，方便着色。

在本实施例中，如图1所示，阳极氧化膜2上具有预设图案21。其中，预设图案21比如可以是渐变色图案、定制图案、纹理图案中的任一种或者任几种。

当为渐变色图案时，渐变色图案可以沿膜层组件的厚度方向(参照图1所示的Z轴)进行渐变，膜层组件看起来更为纤薄；或者，渐变色图案沿膜层组件的第一方向进行渐变，满足了用户的视觉需求。其中，第一方向和厚度方向垂直，第一方向比如可以是膜层组件的长度方向，也可以是膜层组件的宽度方向。

可以理解的是，渐变色图案可以沿膜层组件的厚度方向和第一方向同时设置，提升膜层组件的纤薄性和美观性。

预设图案21由纳米级颜料211制成，使得染色颜料颗粒较小，便于染色。其中，纳米级颜料211分别设置于多个凹孔22内，实现了固色，预设图案21形成于膜层组件的表面，提升了膜层组件的美观性。

其中，膜层组件的阳极氧化膜2生成之后，不宜立刻染色。阳极氧化膜2为三氧化二铝，其为无机物质，而纳米级颜料211为有机物质，两者之间结合不易。因此，利用表面活性剂覆盖于阳极氧化膜2的表面，充当阳极氧化膜2和纳米级颜料211之间的界面活性剂，以便于染色。

将表面活性剂覆盖于经过阳极氧化处理过的膜层组件的表面，进行超音波振动并持续第一预设时长，第一预设时长4min-8min，以对表面进行活性处理。

表面活性剂比如可以是CW42表面活性剂，其浓度为50g/L-60g/L，活性剂环境温度为20℃-30℃，超音波强度为3.0A-3.6A，以便于改善阳极氧化膜2的结合部位吐酸。阳极氧化膜2微缝里酸的表面张力大，不容易清洗出来，会导致染色露白。表面活性剂可以降低酸的表面张力，经超音波震荡带出微缝。

在本实施例中，如图1所示，阳极氧化膜2包括阻挡层23和氧化层24，阻挡层23设置在基材1上，用于保护基材1。氧化层24设置在阻挡层23的远离基材1一侧的表面。其中，氧化层24远离基材1一侧的表面上形成有凹孔22和预设图案21，以便于让预设图案21处于外露状态。其中，氧化层24的厚度大于阻挡层23的厚度，当阳极氧化处理时，避免腐蚀强度过大，破坏阻挡层23。

沿膜层组件的厚度方向(参照图1所示的Z轴)，多个凹孔22位于氧化层24的上表面，以便于容纳预设图案21的纳米级颜料211。其中，凹孔22为倒三角形状，位于氧化层24表面的孔径小于深处的孔径，以便于着色，封孔状态下，凹孔22位于氧化层24表面的孔径尺寸为15nm-20nm。

具体实施过程中，制备转印膜层，以便于供膜层组件可以使用，为膜层组件提供转印。参照图1、图2所示，转印膜片3比如可以是PET膜片，由树脂材料制成，使转印膜片3具有更好的尺寸稳定性、更低的吸湿性及较好的挺力性。

其中，预设图案21以打印的方式设置于转印膜片3，提升纳米级颜料211的稳定性，解决了液体染色所产生的晃动情况，提升染色过程的稳定性。

利用定位治具固定膜层组件，对转印膜层4进行抽真空操作，在负压作用下，参照图1所示，转印膜层能够吸附于膜层组件的表面。其中，预设图案21与多个凹孔22对应设置，以便于对凹孔22进行染色。

通过热升华设备对转印膜层进行加热，以-0.8kpa的真空压膜作用下，持续保压5min，将预设图案21由固态直接汽化，纳米级颜料211进入至多个凹孔22内，以填充多个凹孔22，对其进行染色，完成染色转印，最终形成具有预设图案的膜层组件。其中，对转印膜层进行加热的温度为135℃-140℃，以保证汽化效果最好，不会晕开。

其中，纳米级颜料211进入至凹孔22内，外界的波动不会的染色构成影响，保证纳米级颜料211不会脱落，实现了耐磨持久的设计效果。

完成转印后，利用治具去除转印膜片3。对多个凹孔22进行氧化封孔工艺处理，将纳米级颜料211锁死在凹孔22内，实现了阳极氧化膜2固色、抗脏污、耐腐蚀、电绝缘的效果。封孔工艺可以利用封孔液对其进行封孔，使阳极氧化膜2的凹孔吸水封闭。利用烘干机，将膜层组件烘干，最终形成具有预设图案的膜层组件，并取下膜层组件。其中，烘干温度50℃-60℃，烘干时长为30min-40min。

本公开还提供了一种壳体，壳体包括上任一个实施例中的膜层组件，以提升壳体的美观性和高级感。

本公开还提供了一种电子设备，电子设备比如是手机、平板电脑、穿戴式设备等。电子设备包括如上任一个实施例中的壳体。壳体为中框和/或摄像头装饰件，提升电子设备的整机的美观性。

该电子设备还包括屏幕，当壳体为中框时，沿着远离屏幕的方向，壳体的侧部由深至浅渐变，也就是由电子设备的屏幕至电子设备的背部方向，壳体的侧部由深至浅渐变，由于接近屏幕的部分中框与屏幕颜色接近，这样可以使电子设备看起来更加纤薄，满足用户的需求。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的实用新型后，将容易想到本实用新型的其它实施方案。本申请旨在涵盖本实用新型的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本实用新型的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本实用新型的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本实用新型并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本实用新型的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (8)

1.一种膜层组件，其特征在于，所述膜层组件包括基材和阳极氧化膜，所述阳极氧化膜设置于所述基材的表面；

所述阳极氧化膜上具有预设图案和多个凹孔；其中，所述预设图案由纳米级颜料制成，所述纳米级颜料分别设置于多个所述凹孔内。

2.根据权利要求1所述的膜层组件，其特征在于，所述基材为铝合金。

3.根据权利要求2所述的膜层组件，其特征在于，所述阳极氧化膜包括阻挡层和氧化层，所述阻挡层设置在所述基材上，所述氧化层设置在所述阻挡层远离基材一侧的表面，所述氧化层远离基材一侧的表面上形成有凹孔和预设图案。

4.根据权利要求3所述的膜层组件，其特征在于，所述氧化层的厚度大于所述阻挡层的厚度。

5.根据权利要求3所述的膜层组件，其特征在于，封孔状态下，所述凹孔位于所述氧化层远离所述基材一侧的表面的孔径尺寸为15nm-20nm。

6.根据权利要求1所述的膜层组件，其特征在于，所述阳极氧化膜由三氧化二铝材料制成。

7.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括如权利要求1-6任一项所述的膜层组件。

8.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括如权利要求7所述的壳体，所述壳体为中框和/或摄像头装饰件。

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