CN217777289U - 一种陶瓷喷釉装置和设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及陶瓷喷釉领域，特别涉及一种陶瓷喷釉装置和设备，包括支撑架、喷头、与喷头连通的供釉容器以及用于调节喷头的调节机构；所述喷头内设有进釉腔、出釉腔以及用于分隔进釉腔和出釉腔的隔板，所述隔板下方设有喷釉道，所述进釉腔和出釉腔通过喷釉道连通，所述供釉容器和进釉腔连通；所述喷头底部设有均匀分布的若干个喷嘴孔，所述喷釉道通过喷嘴孔与外界连通；所述喷头通过调节机构安装于支撑架上，所述调节机构包括联动件和调节驱动机构，所述联动件分别与支撑架和喷头连接，所述调节驱动机构驱动联动件，以使所述联动件带动喷头。采用本实用新型，保证每块砖坯釉层均匀、厚薄一致，喷釉效果好。

Description

一种陶瓷喷釉装置和设备

技术领域

本实用新型涉及陶瓷喷釉领域，特别涉及一种陶瓷喷釉装置和设备。

背景技术

施釉是釉面陶瓷制品如瓷砖生产中必不可少的工序，现有的施釉方法有淋釉。淋釉设备和操作都较为简单，其包括有釉料斗和球面淋釉盘，釉料斗在球面淋釉盘的上方倾倒釉料在球面淋釉盘，釉料沿球面形成瀑布状的釉幕，釉流淋到砖坯表面，形成釉层。但其对釉幕厚度、釉浆的比重和粘度以及砖坯与淋釉盘的相对位置距离都要求较高，会因为釉流不均匀和淋釉面的位置不一致，不仅造成同一陶瓷制品中釉层厚薄不一，出现缩釉、水波纹等情况，而且还造成每个陶瓷制品的釉层不均匀、厚薄不一大大地影响了工业生产的质量，生产效率低。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于，提供一种陶瓷喷釉装置，保证每块砖坯釉层均匀、厚薄一致，喷釉效果好。

本实用新型所要解决的技术问题还在于，提供一种设有该陶瓷喷釉装置的陶瓷喷釉设备，保证每块砖坯釉层均匀、厚薄一致，喷釉效果好。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种陶瓷喷釉装置，包括支撑架、喷头、与喷头连通的供釉容器以及用于调节喷头的调节机构；

所述喷头内设有进釉腔、出釉腔以及用于分隔进釉腔和出釉腔的隔板，所述隔板下方设有喷釉道，所述进釉腔和出釉腔通过喷釉道连通，所述供釉容器和进釉腔连通；所述喷头底部设有均匀分布的若干个喷嘴孔，所述喷釉道通过喷嘴孔与外界连通；

所述喷头通过调节机构安装于支撑架上，所述调节机构包括联动件和调节驱动机构，所述联动件分别与支撑架和喷头连接，所述调节驱动机构驱动联动件，以使所述联动件带动喷头。

作为上述方案的改进，所述联动件为伸缩架伸缩架，所述伸缩架相对的两侧分别与支撑架和喷头活动连接，所述调节驱动机构两端分别与支撑架和伸缩架连接，以驱动伸缩架伸缩。

作为上述方案的改进，所述伸缩架包括中部铰接的第一调节杆和第二调节杆，所述第一调节杆两端分别与支撑架滑动连接和与喷头铰接；所述第二调节杆两端分别与支撑架铰接和与喷头滑动连接；所述调节驱动机构两端分别与支撑架连接和与第一调节杆连接，以驱动第一调节杆和第二调节杆滑动。

作为上述方案的改进，所述喷头设有限位块，且所述限位块设于支撑架的上方。

作为上述方案的改进，所述进釉腔底部设有倒圆角，所述隔板底部靠近进釉腔的一侧设有直角。

相应地，本实用新型还提供了一种陶瓷喷釉设备，包括机架、传送机构和上述的陶瓷喷釉装置，所述传送机构安装于机架上，所述传送机构包括第一传送组件和传送驱动机构，所述喷头设于第一传送组件的上方，所述传送驱动机构驱动第一传送组件。

作为上述方案的改进，所述传送机构为两个，且为间隔设置，所述喷头设于两传送机构之间缝隙的上方。

作为上述方案的改进，所述缝隙的下方设有回收釉槽。

作为上述方案的改进，还包括升降机构，所述升降机构包括第二传动组件和升降驱动机构，所述升降驱动机构通过第二传动组件与支撑架连接，以驱动陶瓷喷釉装置升降。

作为上述方案的改进，还包括安装于机架上的清洁机构，所述清洁机构包括依次连通的输气机构、输气管和气嘴，所述气嘴的出气口朝向第一传送组件。

实施本实用新型，具有如下有益效果：

本实用新型陶瓷喷釉装置采用特定的喷头，使喷头喷釉稳定、出釉均匀，再加上调节机构对喷头高度进行实时调节，可根据不同砖坯厚度来调节喷头即调节喷嘴孔相对于喷釉面之间的距离，使喷头与每块砖坯之间的喷釉距离相同，保证每块砖坯所形成釉层不仅都是均匀的，而且厚薄一致，喷釉效果好，从而保证工业生产陶瓷砖整体质量的一致性、稳定性，生产效率高。而供釉容器与进釉腔一直保持着连通，使喷头一直保持着有充足的釉料供应，避免釉料供应不足而在釉层上出现拉线或镂空等现象，进一步保证喷釉效果。

本实用新型陶瓷喷釉设备设有该陶瓷喷釉装置，保证每块砖坯釉层均匀、厚薄一致，喷釉效果好。此外，传送机构设置了两个，且为间隔设置，喷釉的地方设于两传送机构之间的缝隙处，避免釉料污染第一传送组件而造成其他砖坯的污染，保证砖坯施釉效果的一致性。同时，喷釉处的下方即该缝隙的下方设置了回收釉槽，回收釉槽用于接收喷釉时多余釉料，对多余釉料进行回收，避免釉料损失，并可将多余釉料输送到供釉容器内再度使用，节省成本。

本实用新型陶瓷喷釉设备还设有清洁机构，该清洁机构可对第一传送组件例如传送带吹气，可以吹走传送带上附着的釉料，达到清洁的效果，避免传送带上顺附有多余的釉料而使砖坯表面不清洁，从而影响最终的施釉效果。

本实用新型陶瓷喷釉设备还设有升降机构，升降机构可将陶瓷喷釉装置整体进行高度的调节，可对不同的陶瓷制品对装置进行较大幅度的高度调整，因而除了陶瓷砖外，还可以对其他的陶瓷制品进行施釉，适用范围广。同时，通过升降机构可以对喷头进行清洁、维修或更换。

附图说明

图1是本实用新型陶瓷喷釉装置的结构示意图；

图2是本实用新型陶瓷喷釉装置的俯视图；

图3是图2沿A-A线喷头部分的剖视图；

图4是图3的B处放大图；

图5是图1调节机构部分的结构示意图；

图6是本实用新型陶瓷喷釉设备的结构示意图；

图7是图6陶瓷喷釉装置和传送机构的结构示意图；

图8是图7中喷头和第一传送组件的结构示意图；

图9是图7升降机构的结构示意图；

图10是图7清洁机构的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述。仅此声明，本实用新型在文中出现或即将出现的上、下、左、右、前、后、内、外等方位用词，仅以本实用新型的附图为基准，其并不是对本实用新型的具体限定。

参见图1-10所示，本实用新型公开了一种陶瓷喷釉装置100，用于对陶瓷制品如砖坯进行喷釉，包括支撑架3、喷头1、与喷头1连通的供釉容器2以及用于调节喷头1的调节机构4。

所述喷头1内设有进釉腔11、出釉腔12以及用于分隔进釉腔11和出釉腔12的隔板13，所述隔板13下方设有喷釉道14，所述进釉腔11和出釉腔12通过喷釉道14连通，所述供釉容器2和进釉腔11连通；所述喷头1底部设有均匀分布的若干个喷嘴孔15，所述喷釉道14通过喷嘴孔15与外界连通。

所述喷头1通过调节机构4安装于支撑架3上，所述调节机构4包括联动件和调节驱动机构41，所述联动件分别与支撑架3和喷头1连接，所述调节驱动机构41驱动联动件，以使所述联动件带动喷头1。

本实用新型陶瓷喷釉装置采用特定的喷头，使喷头喷釉稳定、出釉均匀，再加上调节机构对喷头高度进行实时调节，可根据不同砖坯厚度来调节喷头即喷嘴孔相对于喷釉面之间的距离，使喷头与每块砖坯之间的喷釉距离相同，保证每块砖坯所形成釉层不仅都是均匀的，而且厚薄一致，喷釉效果好，从而保证工业生产陶瓷砖整体质量的一致性、稳定性，生产效率高。而供釉容器与进釉腔一直保持着连通，使喷头一直保持着有充足的釉料供应，避免釉料供应不足而在釉层上出现拉线或镂空等现象，进一步保证喷釉效果。

需要说明的是，所述釉料为水性釉料或油性釉料。

优选地，所述喷嘴孔15设有至少两列，每列的所述喷嘴孔15为间隔设置，不同列的所述喷嘴孔15为错开设置，使喷釉均匀，保证砖坯表面的釉层厚薄一致，釉面不会出现沟纹等情况，喷釉效果好。

更佳地，两个相邻所述喷嘴孔15之间的距离相等，进一步使喷釉更均匀，保证喷釉效果。具体的，两个相邻所述喷嘴孔15的轴心之间的距离相等。

优选地，如图6-7所示，本实用新型还包括用于将出釉腔12内釉料输送到供釉容器2内的循环泵20，保证没有喷出的釉料可循环利用，节省釉料，降低成本。

优选地，如图4所示，所述喷嘴孔15的直径自内向外逐渐减小，使得喷嘴孔呈锥形体，使釉料在喷釉的过程中由于喷嘴孔体积的改变而使釉料呈直线型喷射，喷射效果更好，釉层厚薄均匀，喷釉均匀，避免产生有规律和无规律的沟纹等缺陷。

向进釉腔内供釉、向出釉腔内抽釉，使进釉腔为正压腔、出釉腔为负压腔，优选地，进釉腔11的宽度自顶部向底部逐渐减小，喷釉道14起到液路导向的作用，釉料从进釉腔流入喷釉道的过程中所受到的压力逐渐增大。当釉料所受到的压力达到一定值时，釉料便从喷嘴孔向外喷射，实现喷釉。

优选地，如图4所示，所述进釉腔11底部设有倒圆角111，所述隔板13底部靠近进釉腔11的一侧设有直角131。倒圆角的设置起到导向的作用，其利用了康达效应，使釉料能迅速地转换流向，将釉料导向喷釉道，同时减小了动能的损耗。直角的设置对釉料起到限位的作用，使釉料能迅速地进入喷釉道进行整合，以达到更佳的喷射状态，保证喷釉效果。

优选地，所述供釉容器2和进釉腔11的连接处设于进釉腔11的顶部，釉料在外部压力和重力共同作用下从进釉腔的顶部流入底部，进入喷釉道内形成较大的势能，使釉料从喷嘴孔高速喷出，再加上喷嘴孔的设计和喷嘴孔均匀分布在喷头底部，使喷釉均匀，喷釉效果好。

如图5所示，所述联动件为伸缩架，所述伸缩架相对的两侧分别与支撑架3和喷头1活动连接，所述调节驱动机构41两端分别与支撑架3和伸缩架连接，以驱动伸缩架伸缩。调节机构的设置可对喷头进行一定高度的调节，以适应不同厚度的砖坯的喷釉操作。调节机构对喷头高度进行实时调节，可根据不同砖坯厚度来调节喷头即喷嘴孔相对于喷釉面之间的距离，使喷头与每块砖坯之间的喷釉距离相同，保证每块砖坯所形成釉层不仅都是均匀的，而且厚薄一致，喷釉效果好，从而保证工业生产陶瓷砖整体质量的一致性、稳定性，生产效率高。一般同一批次的砖坯厚度相同，不需要进行调节。而当更换不同批次的砖坯进行喷釉时，砖坯的厚度就可能不一样，喷头可通过调节机构来调节其到喷釉面之间距离。由于喷釉力度、强度等因素会受该距离的影响，从而影响到最终的釉层形成效果。因此，必须保证该距离的一致性。所述调节驱动机构41优选为电动推杆。

优选地，所述调节机构4还包括红外线传感器(图中未示)，可实时监测砖坯等陶瓷制品的厚度，再通过控制器驱动调节机构，实现喷头与喷釉面之间距离的适应性调整。

如图5所示，所述伸缩架包括中部铰接的第一调节杆42和第二调节杆43，所述第一调节杆42两端分别与支撑架3滑动连接和与喷头1铰接；所述第二调节杆43两端分别与支撑架3铰接和与喷头1滑动连接；所述调节驱动机构41两端分别与支撑架3连接和与第一调节杆42连接，以驱动第一调节杆42和第二调节杆43滑动。

具体的，所述第一调节杆42和第二调节杆43均为两条，且对称设置。所述支撑架3上的设有第一导向孔31，所述喷头1上设有第二导向孔17。其中，两条所述第一调节杆42通过第一连接杆连接，所述第一连接杆穿设于第一导向孔31上，所述调节驱动机构41的一端与支撑架3连接，另一端与第一连接杆连接，通过调节驱动机构41的驱动使第一连接杆在第一导向孔31内滑动。两条所述第二调节杆43通过第二连接杆连接，第二连接杆上套设有滑轮，所述滑轮能在第二导向孔17内滑动。当调节驱动机构驱动第一连接杆使第一调节杆的一端沿第一导向孔滑动以改变其位置时，由于伸缩架的联动性会使其上下两侧的距离加大或缩小，从而使喷头上升或下降，达到调节喷头高度的目的。此外，喷头总共由四条调节杆与支撑架连接，使喷头连接稳定、升降稳固，避免偏移，有效地保证喷釉均匀，每块砖坯釉层均匀、厚薄一致，喷釉效果好。

优选地，如图3、5所示，所述喷头1设有限位块16，且所述限位块16设于支撑架3的上方。限位块的设置限制了喷头下降幅度，避免调节机构失灵使喷头掉落，保证生产的安全性，也保护了调节机构。更佳地，所述限位块16设于喷头1对称的两侧。

相应地，参见图6-10，本实用新型还公开了一种陶瓷喷釉设备，用于对陶瓷制品如砖坯进行喷釉，包括机架5、传送机构和上述的陶瓷喷釉装置100，所述传送机构安装于机架5上，所述传送机构包括第一传送组件61和传送驱动机构62，所述喷头1设于第一传送组件61的上方，所述传送驱动机构62驱动第一传送组件61，以传送陶瓷制品至喷嘴孔15下方。所述第一传送组件61包括传送轮和传送带，所述传送轮安装于传送驱动机构62的输出端，使传送轮转动，并带动绕在传送轮外周的传送带转动，从而将砖坯从一侧传送到另一侧，达到自动将砖坯传送到喷头下方的目的。所述陶瓷喷釉装置100的具体结构如上所述，在此不再赘述。

优选地，如图8所示，所述传送机构为两个，且为间隔设置，所述喷头1设于两传送机构之间缝隙63的上方。具体的，所述喷头1设于两第一传送组件61之间缝隙63的上方。其中，一组第一传送组件将砖坯传送到喷头1下方喷釉，另一组第一传送组件则将喷釉后的砖坯取走，实现自动化生产。缝隙的设置，避免釉料污染传送带而造成其他砖坯的污染，保证砖坯施釉效果的一致性。

更佳地，所述缝隙63的下方设有回收釉槽7。喷釉处的下方即该缝隙的下方设置了回收釉槽，回收釉槽用于接收喷釉时多余釉料，对多余釉料进行回收，避免釉料损失，并可将多余釉料输送到供釉容器内再度使用，节省成本。进一步，本实用新型还设有与回收釉槽连接的回收泵10，回收泵可将回收釉槽内的釉料抽走并输送到另一个供釉容器内存放，避免回收釉槽内的釉料过满而溢出。

进一步，如图9所示，本实用新型还包括升降机构，所述升降机构包括第二传动组件81和升降驱动机构82，所述升降驱动机构82通过第二传动组件81与支撑架3连接，以驱动陶瓷喷釉装置100升降。所述第二传动组件优选为蜗轮蜗杆。升降机构可将陶瓷喷釉装置整体进行高度的调节，可对不同的陶瓷制品对装置进行较大幅度的高度调整，因而除了陶瓷砖外，还可以对其他的陶瓷制品进行施釉，适用范围广。同时，通过升降机构可以对喷头进行清洁、维修或更换。

优选地，所述升降机构还包括导向组件，所述导向组件包括固定安装在机房上的导轨和固定安装于支撑架上滑块，所述滑块能沿导轨滑动，从而保证陶瓷喷釉装置在一直线上移动、不偏移，也保证装置移动的可靠性和稳定性、保证生产的安全性。

再进一步，如图10所示，本实用新型还包括安装于机架5上的清洁机构，所述清洁机构包括依次连通的输气机构(图中未示)、输气管91和气嘴92，所述气嘴92的出气口朝向第一传送组件91。具体的，所述气嘴92的出气口朝向传送带。该清洁机构可对第一传送组件例如传送带吹气，可以吹走传送带上附着的釉料，达到清洁的效果，避免传送带上顺附有多余的釉料而使砖坯表面不清洁，从而影响最终的施釉效果。

综上所述，本实用新型提供一种陶瓷喷釉装置和设有该陶瓷喷釉装置的陶瓷喷釉设备，保证每块砖坯釉层均匀、厚薄一致，喷釉效果好。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种陶瓷喷釉装置，其特征在于，包括支撑架、喷头、与喷头连通的供釉容器以及用于调节喷头的调节机构；

所述喷头内设有进釉腔、出釉腔以及用于分隔进釉腔和出釉腔的隔板，所述隔板下方设有喷釉道，所述进釉腔和出釉腔通过喷釉道连通，所述供釉容器和进釉腔连通；所述喷头底部设有均匀分布的若干个喷嘴孔，所述喷釉道通过喷嘴孔与外界连通；

所述喷头通过调节机构安装于支撑架上，所述调节机构包括联动件和调节驱动机构，所述联动件分别与支撑架和喷头连接，所述调节驱动机构驱动联动件，以使所述联动件带动喷头。

2.如权利要求1所述的陶瓷喷釉装置，其特征在于，所述联动件为伸缩架，所述伸缩架相对的两侧分别与支撑架和喷头活动连接，所述调节驱动机构两端分别与支撑架和伸缩架连接，以驱动伸缩架伸缩。

3.如权利要求2所述的陶瓷喷釉装置，其特征在于，所述伸缩架包括中部铰接的第一调节杆和第二调节杆，所述第一调节杆两端分别与支撑架滑动连接和与喷头铰接；所述第二调节杆两端分别与支撑架铰接和与喷头滑动连接；所述调节驱动机构两端分别与支撑架连接和与第一调节杆连接，以驱动第一调节杆和第二调节杆滑动。

4.如权利要求1所述的陶瓷喷釉装置，其特征在于，所述喷头设有限位块，且所述限位块设于支撑架的上方。

5.如权利要求1所述的陶瓷喷釉装置，其特征在于，所述进釉腔底部设有倒圆角，所述隔板底部靠近进釉腔的一侧设有直角。

6.一种陶瓷喷釉设备，其特征在于，包括机架、传送机构和如权利要求1-5中任一项所述的陶瓷喷釉装置，所述传送机构安装于机架上，所述传送机构包括第一传送组件和传送驱动机构，所述喷头设于第一传送组件的上方，所述传送驱动机构驱动第一传送组件。

7.如权利要求6所述的陶瓷喷釉设备，其特征在于，所述传送机构为两个，且为间隔设置，所述喷头设于两传送机构之间缝隙的上方。

8.如权利要求7所述的陶瓷喷釉设备，其特征在于，所述缝隙的下方设有回收釉槽。

9.如权利要求6所述的陶瓷喷釉设备，其特征在于，还包括升降机构，所述升降机构包括第二传动组件和升降驱动机构，所述升降驱动机构通过第二传动组件与支撑架连接，以驱动陶瓷喷釉装置升降。

10.如权利要求6所述的陶瓷喷釉设备，其特征在于，还包括安装于机架上的清洁机构，所述清洁机构包括依次连通的输气机构、输气管和气嘴，所述气嘴的出气口朝向第一传送组件。

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