CN203807348U - 一种喷釉单元 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及陶瓷喷墨机领域，所要解决的技术问题是提供一种可以与现有陶瓷喷墨主机对接，实现釉料喷绘作业的喷釉单元。结构包括喷绘系统、控制系统和独立机体，所述控制系统和喷绘系统安装在独立机体内，所述喷绘系统包括喷釉系统、供釉系统和温控系统，所述独立机体包括主箱体和从主箱体侧面延伸出来的悬臂箱体，所述喷釉系统安装在所述悬臂箱体内，所述独立机体还包括定位连接机构或者定位固定机构，使所述悬臂箱体横跨于喷墨主机的传送带上方。可以将其直接应用于现有的喷墨主机上，对现有的陶瓷生产工艺做进一步的改进，大大提高设备的自动化程度和生产效率，有利于降低人工成本，提高产品成品率。

Description

一种喷釉单元

技术领域

本实用新型涉及陶瓷喷墨机领域，更具体的说是一种专门用于进行釉料喷绘，可以与现有陶瓷喷墨主机配合使用的喷釉单元。

背景技术

陶瓷喷墨机是一种新型的陶瓷制作设备，通过喷墨方式将各种颜色的陶瓷墨水喷绘在陶瓷基板上再进行烧制。由于该工艺具有节能环保，能够灵活设计和变化喷绘图样，能够高效制备陶瓷等优点。改变了传统陶瓷工艺污染和浪费严重，工作环境差等缺点。该类型设备一推出就获得市场广泛好评，传统陶瓷厂家已经普遍接受该类型产品，并购入一定量的设备进行产业改造。

现有的陶瓷喷墨机主要是对陶瓷墨水进行喷绘，即喷绘出陶瓷上各种不同的图案，对于陶瓷行业中的烧制和上釉等工艺，还是采用传统的方式。如对于很多具有凹凸表面的陶瓷来说，很多是采用下陷釉工艺，就是通过印制特殊下陷釉料，在瓷砖烧成中，对应的地方，瓷砖本身的釉料会有下陷效果，不同通过模具压制形成凹凸效果。传统的下陷釉，是通过丝网印刷的，在瓷砖的生产工艺上，需要增加一道丝网印刷，丝网的成本，花色的多样性和生产优良率的控制，都有很多缺陷。由于釉料与陶瓷墨水的性质不同，对温度、喷绘压力、喷绘量的大小和流动性等参数的控制，均与陶瓷墨水不同，无法直接将釉料灌装在现有的陶瓷喷墨机上进行喷绘，现有的陶瓷喷墨机也不具备这项功能。所以现有的陶瓷喷墨机虽然解决了陶瓷图案的制作问题，但对于需要进行涂布特定釉料图案的陶瓷来说，依然要回到传统工艺。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种简易的方式拓充现有陶瓷喷墨机的功能，提供一种可以与现有陶瓷喷墨主机对接，实现釉料喷绘作业的喷釉单元。

基于上述目的，本实用新型通过以下技术方案进行实现。

本实用新型揭示了一种喷釉单元，用于安装在喷墨主机上进行釉料喷绘，包括喷绘系统、控制喷绘系统进行釉料喷绘的控制系统和独立机体，所述控制系统和喷绘系统安装在独立机体内，所述喷绘系统包括喷釉系统、向喷釉系统供应釉料的供釉系统和控制喷釉系统釉料喷绘温度的温控系统，所述独立机体包括主箱体和从主箱体侧面延伸出来的悬臂箱体，所述喷釉系统安装在所述悬臂箱体内，所述独立机体还包括用于与喷墨主机连接的定位连接机构或者用于固定独立机体的定位固定机构，独立机体通过定位连接机构或定位固定机构进行定位安装，使所述悬臂箱体横跨于喷墨主机的传送带上方。

从上述结构可以看出，所述喷釉单元是一部专门用来喷釉的设备，具有独立的喷绘系统和控制系统，通过独立机体可以与现有的多种陶瓷喷墨主机配合，拓展喷墨主机的功能，使之能够在图案喷绘外实现陶瓷上釉工艺的自动化。为了与现有喷墨主机相配合，本实用新型的独立机体采用主机箱和悬臂箱体的结构，这种结构不会妨碍喷墨主机自身的工作，根据上釉的工序可以安装在喷墨主机的前端或后端。为了保证上釉套色的精度，用于釉料喷绘悬臂箱体需要进行精准定位，本实用新型的独立机体可以采用定位连接机构与喷墨主机固定连接，或者是在喷墨主机固定的前提下，通过定位固定机构将独立机体固定在相对喷墨主机固定的位置上。所述喷绘系统具有独立于喷墨主机的喷釉系统、供釉系统和温控系统，可以独立运作，对温度、喷绘压力、喷绘量的大小和流动性等参数均可以独立设置，不会与喷墨主机间造成相互干涉。喷绘系统在控制系统的控制下进行作业，控制系统可以设置独立的程序控制，或者与喷墨主机的控制系统对接，形成联动控制。通过该方式来改造现有的设备，提高自动化程度和生产效率，无需投入大量资金对已有生长线进行置换，具有成本低，见效快等优点。

所述喷釉系统包括釉料分配埠、安装在釉料分配埠上的多组喷头，釉料分配埠内设置有输送釉料的釉料管道，釉料管道包括一个釉料入口和多个釉料出口，供釉系统连接釉料入口，釉料出口连接各组喷头。工业喷绘设备由于是连续作业，所以喷绘量大，一般设有多组喷头进行作业，为了能够方便对温度、喷绘压力、和流动性等参数的控制，本实用新型特别采用釉料分配埠这一装置，将多组喷头连接在釉料分配埠上，通过对釉料分配埠的调节，便可以控制釉料喷绘的温度、压力和流动性等，喷绘量的控制可以具体通过每组喷头实现，这样便大大减低了控制系统的控制复杂度，提高系统灵活性。

釉料墨水是一种颗粒悬浮墨水，容易产生沉淀，所以为了防止喷头被阻塞，需要经常对喷头进行清洗，在喷头不作业的情况下需要对其进行保湿。所以本实用新型的喷釉系统还包括移动式托盘，移动式托盘连接供釉系统，移动式托盘移动至多组喷头下方时，形成清洗回收循环：供釉系统-釉料分配埠-多组喷头-移动式托盘-供釉系统。清洗回收循环的作用是减少釉料墨水的浪费，因为清洗时需要从多组喷头内喷出大量的釉料墨水，釉料墨水一方面十分昂贵，另一方面直接排放会污染环境，为了避免这两方面的问题，本实用新型通过移动式托盘进行回收。由于本实用新型只用于喷绘釉料墨水，为单一墨水，所以通过移动式托盘接收后不会同现有喷绘一样会造成墨水之间的混合污染，可以直接回收，回收效率高。

同样的道理，在非工作的情况下，或只有部分喷头工作的情况下，釉料分配埠内有部分釉料管道中的釉料墨水是不流动的，为了防止其产生沉淀，造成管道或喷头的阻塞，所述釉料入口相对端的最后一个釉料出口通过一维护泵直接连接移动式托盘，维护泵工作时，形成维护回收循环：供釉系统-釉料分配埠-维护泵-移动式托盘-供釉系统。维护泵能够让釉料分配埠内所有釉料管道中的釉料墨水间断性的流动，防止其长时间静置导致沉淀。同样这些墨水也可以通过移动式托盘进行直接回收。

只有在清洗的状态下移动式托盘才移动至喷头下方与其配合，在正常喷绘作业的过程中，移动式托盘不能阻碍喷头进行喷绘作业，为了方便移动式托盘能够快速与喷头配合，本实用新型所述悬臂箱体内设有用于带动釉料分配埠和多组喷头垂直升降的升降机构和带动移动式托盘水平移动的平移机构。当需要进行清洗时，升降机构先带动釉料分配埠和多组喷头上升，然后平移机构带动移动式托盘平移至多组喷头下方，接着升降机构再带动釉料分配埠和多组喷头下降与移动式托盘配合，进行清洗。清洗完毕后，升降机构先带动釉料分配埠和多组喷头上升，然后平移机构带动移动式托盘多组喷头下方平移出来，接着升降机构再带动釉料分配埠和多组喷头下降至预设喷绘位置。这种结构简单，切换方便，多组喷头只做上下运动，不会影响其位置精度，保证了喷绘质量。

为了配合上述结构，所述悬臂箱体横截面呈L形，包括竖直部分和横向部分，所述竖直部分用于安装升降机构、釉料分配埠和多组喷头，形成容纳釉料分配埠和多组喷头的升降空间，所述横向部分安装平移机构和移动式托盘，形成移动式托盘的平移空间。悬臂箱体一方面要能够保护上述机构，另一方面要能够给其提供足够的动作空间，根据上述运动过程，最佳的形状就是L形的结构。这种结构不仅占用空间小，方便安装，而且能够快速判断喷头的位置，防止错误的安装。另外可以分别在竖直部分和横向部分上设置相互独立的检修盖，方便维护人员对各个机构进行独立检查。

本实用新型应用在工业化设备上，为了能够提供大量的釉料进行作业，所述供釉系统包括安装在主箱体下部的主釉料容器和安装在主箱体上部的副釉料容器，所述主釉料容器的体积大于副釉料容器，副釉料容器连接喷釉系统，主釉料容器通过负压机构从移动式托盘回收釉料，副釉料容器通过正压机构向喷釉系统传送釉料。主釉料容器容量很大，可以满足大量的釉料需要，安装在主箱体下部起到配重的作用，能够稳定整个独立机体，采用负压供釉的方式是为了方便上述釉料的回收，能够在移动式托盘下方形成负压吸釉的功能。副釉料容器通过主釉料容器不断向其供釉满足其釉料供应，其体积较小，容易控制其液位稳定，能够保证喷头处的喷绘压力的稳定，防止其出现滴釉或缺釉的情况，采用正压主动供墨的方式是为了满足向釉料分配埠和喷头供墨的需要。

无论是主釉料容器还是副釉料容器，其内部都装有大量的釉料墨水，为了防止这些釉料墨水沉淀，所述主釉料容器和副釉料容器设有釉料搅拌系统或釉料自循环系统。或者优选所述主釉料容器设有第一釉料搅拌系统，所述副釉料容器设有第二釉料搅拌系统和釉料自循环系统。主釉料容器由于不是直接向釉料分配埠和喷头供墨，所以其即使产生少量的沉淀也不会影响整个设备的工作，但副釉料容器直接向釉料分配埠和喷头供墨，即使是少量的沉淀也会导致釉料分配埠或喷头阻塞，所以必须采用釉料搅拌系统和釉料自循环系统进行双重保障，甚至可以在釉料自循环系统上增加过滤器进行过滤。

釉料墨水有最佳的喷绘温度，温度过高容易导致釉料降解，温度过低容易导致釉料沉淀，所以为了保证其喷绘温度，本实用新型设有温控系统。其中一种方式是所述温控系统为分布在釉料分配埠上的多个贴片式加热元件，这种温控系统虽然能够十分精准的进行温度控制，但是控制难度很大，这就导致对控制系统的压力大大增加，其控制成本很高。

由于本实用新型设有釉料分配埠，而喷头又直接安装在设有釉料分配埠上，其距离十分贴近，只需测算出釉料墨水从釉料分配埠到喷头的温度下降值，就可以通过统一控制釉料分配埠的温度来控制釉料喷绘的温度。所以本实用新型的温控系统优选水热温控系统，所述水热温控系统包括热水容器和提供水循环动力的循环泵，所述釉料分配埠内分布有输送热水的热水管道，热水管道包括一个热水入口和一个热水出口，所述热水入口和热水出口分别连接热水容器，形成热水循环。由于本实用新型仅采用釉料墨水，在釉料分配埠上可以采用同一温度控制，而无需担心不同性质的墨水带来的温度的差异化的影响，大大降低温控的难度。

综上所述，本实用新型为一独立的喷绘釉料的设备，可以将其直接应用于现有的喷墨主机上，对现有的陶瓷生产工艺做进一步的改进，大大提高设备的自动化程度和生产效率，有利于降低人工成本，提高产品成品率。由于本实用新型只采用釉料墨水一种单一的喷绘墨水，所以在其结构及控制上，可以作进一步的简化，这有利于缩小该设备的体积，便于安装和定位，降低控制难度，减少成本。釉料墨水回收简单，节能环保。

附图说明

图1为本实用新型实施例的结构示意图。

图2为图1的内部结构示意图。

图3为本实用新型实施例喷釉系统的结构示意图。

图4为本实用新型实施例的使用状态图。

图5为本实用新型实施例的系统模块图。

图6为本实用新型实施例的原理示意图。

具体实施方式

以下结合上述附图举例对本专利做进一步的说明。实施例用于示例说明所采用的上述附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；为了更好说明本实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。

如图1所示的一种喷釉单元100，外形为一独立机体，所述独立机体包括主箱体110和从主箱体110侧面延伸出来的悬臂箱体120，所述主箱体110分成上部111、中部113和下部112，喷釉单元100的控制系统200安装在中部113内，喷绘系统重量较大的部件安装在下部111，起到稳定整个结构的作用，其他部分安装在上部112和悬臂箱体120内。本实施例在悬臂箱体120的下方设有一个支架130，在主箱体110和支架130的下方设有用于定位安装的定位固定机构114和131，定位固定机构114和131可用于将独立机体定位安装在地面上。控制系统200的控制面板210和控制按键220（包括启动和紧急停车按键）外露在主箱体110中部113外侧，便于操作。主箱体110的侧面还安装有工作台150和工作状态监视器140，方便监控喷釉单元100的工作状态。

结合图2、图3和图5可以进一步了解喷釉单元100的内部结构，喷釉单元100包括喷釉系统300、向喷釉系统300供应釉料的供釉系统400和控制喷釉系统300釉料喷绘温度的温控系统500，所述喷釉系统300安装在所述悬臂箱体120内。喷釉系统300包括釉料分配埠310、安装在釉料分配埠310上的多组喷头320，釉料分配埠310内设置有输送釉料的釉料管道311，釉料管道311包括一个釉料入口和多个釉料出口，供釉系统400连接釉料入口，釉料出口连接各组喷头320。喷釉系统300还包括移动式托盘330，移动式托盘330连接供釉系统400，移动式托盘330移动至多组喷头320下方时，形成清洗回收循环：供釉系统400-釉料分配埠310-多组喷头320-移动式托盘330-供釉系统400。釉料入口相对端的最后一个釉料出口通过一维护泵700直接连接移动式托盘330，维护泵700工作时，形成维护回收循环：供釉系统400-釉料分配埠310-维护泵700-移动式托盘330-供釉系统400。

再结合图1的结构示意图，所述悬臂箱体110内设有用于带动釉料分配埠310和多组喷头320垂直升降的升降机构340和带动移动式托盘330水平移动的平移机构350。所述悬臂箱体110横截面呈L形，包括竖直部分121和横向部分122，所述竖直部分121用于安装升降机构340、釉料分配埠310和多组喷头320，形成容纳釉料分配埠310和多组喷头320的升降空间，所述横向部分122安装平移机构350和移动式托盘330，形成移动式托盘330的平移空间。竖直部分121和横向部分122设有检修盖体，方便对其内部构件进行维护或维修。

所述供釉系统400包括安装在主箱体110下部112的主釉料容器410和安装在主箱体110上部111的副釉料容器420，所述主釉料容器410的体积大于副釉料容器420，副釉料容器420连接上述釉料分配埠310的釉料入口，主釉料容器410通过负压机构430从移动式托盘330回收釉料，副釉料容器420通过正压机构440向喷釉系统300传送釉料。所述主釉料容器410设有第一釉料搅拌系统411，所述副釉料容器420设有第二釉料搅拌系统421和釉料自循环系统422。

所述温控系统500为水热温控系统，所述水热温控系统包括热水容器510和提供水循环动力的循环泵520，所述釉料分配埠310内分布有输送热水的热水管道312，热水管道312包括一个热水入口和一个热水出口，所述热水入口和热水出口分别连接热水容器510，形成热水循环。

本实施例使用时如图4所示，喷釉单元100用于安装在喷墨主机600上进行釉料喷绘，在该实施例中，喷墨主机600固定安装在地面上，喷釉单元100的独立机体110通过定位固定机构114和131定位安装在地面上，使所述悬臂箱体120横跨于喷墨主机600的传送带620的上方，位于传送带620出砖侧621的上方。所述喷釉单元100用于在喷墨主机600对砖胚进行颜色图案喷绘后，对砖胚进行喷釉后处理，所采用的喷绘颜料为呈悬浮状的下陷釉料。

操作人员通过控制按键220启动喷釉单元100，由触控式控制面板210输入所要喷绘的釉料图案和参数，操作人员可以通过工作状态监视器140对设置的图案和参数进行监视。在进行釉料喷绘的过程中，上述砖胚放置在传送带620上传送，经过喷墨主机600进行颜色和图案的喷绘，喷绘了颜色和图案的砖胚620经过传送带传送至喷釉单元100的悬臂箱体120下方进行釉料喷绘。

结合图5和图6所示，主釉料容器410内装有釉料墨水，通过第一釉料搅拌系统411持续的搅动主釉料容器410内的釉料墨水，保持釉料处于悬浮状态，不会沉淀。通过第一墨泵810向副釉料容器420供应釉料，釉料经过一囊式过滤器830后再进入副釉料容器420，防止聚团后的釉料从主釉料容器410进入副釉料容器420。釉料墨水在副釉料容器420中通过第二釉料搅拌系统421持续的搅动，保持釉料处于悬浮状态，并通过釉料自循环系统422保持副釉料容器420中的釉料墨水处于持续运动的状态。所述釉料自循环系统422包括第二墨泵820和囊式过滤器830，第二墨泵820将釉料墨水从副釉料容器420中抽出，经过囊式过滤器830再泵回副釉料容器420。

副釉料容器420通过正压机构440在副釉料容器420内形成正压，将釉料墨水泵至釉料分配埠310，通过釉料管道311输出至各个喷头320进行喷绘打印，每个喷头320配有一个碟式过滤器用于过滤墨水，保证喷头320不会阻塞。所述正压机构440具体包括空压机、油水分离器、压力显示表、电磁阀和空气过滤器，通过上述机构所形成的单通道模组连接副釉料容器420，如图6所示。在喷绘釉料的过程中，所述温控系统500将稳定控制釉料墨水喷绘的温度。在本实施例中，热水容器510中通过电加热的方式保持其内部的水温恒定，然后通过循环泵520将热水从热水容器510内泵出，流向釉料分配埠310，在热水管道312内流动，通过热水管道312将热量传导至釉料分配埠310和喷头320上，从而保证了喷头320釉料喷绘温度的稳定。

在喷绘完毕后，需要对喷头320进行清洗的时候，如图3所示，先通过升降机构340提升釉料分配埠310和喷头320，然后通过平移机构350带动移动式托盘330平移至喷头320下方，再通过升降机构340将釉料分配埠310和喷头320降下，使喷头320与移动式托盘330配合。接下来，启动正压机构440使喷头320进行釉料喷绘，使大量的釉料墨水流经喷头320。喷出的釉料墨水通过移动式托盘330收集。负压机构430能够在主釉料容器410内形成负压，主釉料容器410通过回流管道连接移动式托盘330，能够在移动式托盘330上形成负压吸釉的效果。由于本实施例只用于喷绘釉料墨水，为单一墨水，所以通过移动式托盘330接收后不会同现有喷绘一样会造成墨水之间的混合污染，可以直接回收，回收效率高。所述负压机构430具体包括真空发生器、三通电磁阀、压力显示表、油水分离器，外接净化后的气源。

由于釉料墨水长时间不流动容易沉淀，因此在喷绘的过程中，如果中间停止的时间较长，需要对釉料分配埠310进行维护，防止釉料管道311因釉料墨水沉淀而阻塞。如图5和图6所示，本实施例通过维护泵700替代喷头320带动釉料墨水流动，启动维护泵700将釉料管道311内的釉料墨水泵出。由于维护泵700设置在釉料入口相对端的最后一个釉料出口，因此能够带动釉料管道311内的所有釉料墨水流动。泵出的釉料墨水通过移动式托盘330收集，并最终流回主釉料容器410，形成回收循环。

上述附图中描述位置关系的用于仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种喷釉单元，用于安装在喷墨主机上进行釉料喷绘，包括喷绘系统、控制喷绘系统进行釉料喷绘的控制系统和独立机体，所述控制系统和喷绘系统安装在独立机体内，其特征在于所述喷绘系统包括喷釉系统、向喷釉系统供应釉料的供釉系统和控制喷釉系统釉料喷绘温度的温控系统，所述独立机体包括主箱体和从主箱体侧面延伸出来的悬臂箱体，所述喷釉系统安装在所述悬臂箱体内，所述独立机体还包括用于与喷墨主机连接的定位连接机构或者用于固定独立机体的定位固定机构，独立机体通过定位连接机构或定位固定机构进行定位安装，使所述悬臂箱体横跨于喷墨主机的传送带上方。

2.根据权利要求1所述的喷釉单元，其特征在于所述喷釉系统包括釉料分配埠、安装在釉料分配埠上的多组喷头，釉料分配埠内设置有输送釉料的釉料管道，釉料管道包括一个釉料入口和多个釉料出口，供釉系统连接釉料入口，釉料出口连接各组喷头。

3.根据权利要求2所述的喷釉单元，其特征在于喷釉系统还包括移动式托盘，移动式托盘连接供釉系统，移动式托盘移动至多组喷头下方时，形成清洗回收循环：供釉系统-釉料分配埠-多组喷头-移动式托盘-供釉系统。

4.根据权利要求3所述的喷釉单元，其特征在于与釉料入口相对端的最后一个釉料出口通过一维护泵直接连接移动式托盘，维护泵工作时，形成维护回收循环：供釉系统-釉料分配埠-维护泵-移动式托盘-供釉系统。

5.根据权利要求3所述的喷釉单元，其特征在于所述悬臂箱体内设有用于带动釉料分配埠和多组喷头垂直升降的升降机构和带动移动式托盘水平移动的平移机构。

6.根据权利要求5所述的喷釉单元，其特征在于所述悬臂箱体横截面呈L形，包括竖直部分和横向部分，所述竖直部分用于安装升降机构、釉料分配埠和多组喷头，形成容纳釉料分配埠和多组喷头的升降空间，所述横向部分安装平移机构和移动式托盘，形成移动式托盘的平移空间。

7.根据权利要求3~6任一项所述的喷釉单元，其特征在于所述供釉系统包括安装在主箱体下部的主釉料容器和安装在主箱体上部的副釉料容器，所述主釉料容器的体积大于副釉料容器，副釉料容器连接喷釉系统，主釉料容器通过负压机构回收釉料，副釉料容器通过正压机构向喷釉系统传送釉料。

8.根据权利要求7所述的喷釉单元，其特征在于所述主釉料容器和副釉料容器设有釉料搅拌系统或釉料自循环系统；或者是所述主釉料容器设有第一釉料搅拌系统，所述副釉料容器设有第二釉料搅拌系统和釉料自循环系统。

9.根据权利要求2~6任一项所述的喷釉单元，其特征在于所述温控系统为分布在釉料分配埠上的多个贴片式加热元件。

10.根据权利要求2~6任一项所述的喷釉单元，其特征在于所述温控系统为水热温控系统，所述水热温控系统包括热水容器和提供水循环动力的循环泵，所述釉料分配埠内分布有输送热水的热水管道，热水管道包括一个热水入口和一个热水出口，所述热水入口和热水出口分别连接热水容器，形成热水循环。