CN217728159U - 一种金刚石平面研抛一体装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及金刚石生产设备技术领域，名称是一种金刚石平面研抛一体装置，包括装置架，在装置架上具有金刚石材料的放置平台，所述的放置平台上具有夹具，所述的夹具是夹持金刚石材料的部件，在装置架上面具有滑道，还有多个气缸上面安装在滑道内，还有研磨盘和抛光盘分别安装在不同的气缸下面，气缸在滑道内滑动，可以更换研磨盘和抛光盘对金刚石材料进行加工；所述的放置平台周围具有围挡，所述的围挡将放置平台周围形成水槽。这样的金刚石平面研抛一体装置具有生产效率高、不用多次定位的优点。

Description

一种金刚石平面研抛一体装置

技术领域

本实用新型涉及金刚石生产设备技术领域，具体地说是涉及金刚石平面研抛一体装置。

背景技术

在对聚晶金刚石、CVD金刚石、或其他金刚石材料加工的过程中，有时需要对其进行研磨和抛光。

所述的抛光实际上就是对金刚石表面更精细的研磨。

现有技术中，具有对金刚石材料研磨的研磨机和抛光的抛光机；所述研磨机包括装置架，在装置架上具有安装金刚石材料的夹具，还有伸缩气缸连接的研磨头；所述抛光机包括装置架，在装置架上具有安装金刚石材料的夹具，还有伸缩气缸连接的抛光头；这样，其加工的两个步骤是分开进行的，这样就需要夹装两次金刚石或金刚石材料，具有操作麻烦，生产效率低、不能一次加装就能完成所有加工的缺点。

发明内容

本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种生产效率高、不用多次定位的金刚石平面研抛一体装置。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种金刚石平面研抛一体装置，包括装置架，在装置架上具有金刚石材料的放置平台，所述的放置平台上具有夹具，所述的夹具是夹持金刚石材料的部件，在装置架上面具有滑道，还有多个气缸上面安装在滑道内，还有研磨盘和抛光盘分别安装在不同的气缸下面，气缸在滑道内滑动，可以更换研磨盘和抛光盘对金刚石材料进行加工。

进一步地讲，所述的放置平台周围具有围挡，所述的围挡将放置平台周围形成水槽。

进一步地讲，所述的装置架上还有研磨液或抛光液的盛装槽，所述盛装槽具有流出管，所述的流出管下面的出口开设在放置平台的侧面。

进一步地讲，所述的装置架上还有研磨液盛装槽和抛光液盛装槽，研磨液盛装槽用管道通向研磨盘的侧面，抛光液盛装槽用管道通向抛光盘的侧面。

本实用新型的有益效果是：这样的金刚石平面研抛一体装置具有生产效率高、不用多次定位的优点。

附图说明

图1是本实用新型的侧面结构示意图。

图2是图1中的A—A方向剖面示意图。

图3是图1中一种实施例的B—B方向示意图。

其中： 1、装置架 2、放置平台 3、夹具 4、金刚石材料 5、滑道 6、气缸 7、研磨盘8、抛光盘 9、围挡 10、盛装槽 101、研磨液盛装槽 102、抛光液盛装槽 11、流出管 12、变温水箱。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

如图1、2、3所示，一种金刚石平面研抛一体装置，包括装置架1，在装置架上具有金刚石材料的放置平台2，所述的放置平台上具有夹具3，所述的夹具是夹持金刚石材料4（产品）的部件，在装置架上面具有滑道5，还有多个气缸6上面安装在滑道内，还有研磨盘7和抛光盘8分别安装在不同的气缸下面，气缸在滑道内滑动，可以更换研磨盘和抛光盘对金刚石材料进行加工。

本实用新型这样设置，当需要对金刚石材料进行研磨时，就将有研磨盘的气缸滑动到金刚石材料上面，进行研磨；当需要对金刚石材料进行抛光时，将有研磨盘的气缸滑动移走，将有抛光盘的气缸滑动到金刚石材料上面，进行抛光；一次加装就可以完成研磨和抛光，可以实现本实用新型生产效率高、不用多次夹持定位的目的。

所述的研磨盘和抛光盘自带有转动动力。

进一步地讲，所述的放置平台周围具有围挡9，所述的围挡将放置平台周围形成水槽。

本实用新型这样设置，还可以实现在有水的环境中对金刚石材料进行研磨，将磨盘的工作热量带走，同时控制研抛工作中的金刚石材料的温度，减少砂轮因发热导致的磨损，延长砂轮的使用寿命并提高工作效率。

进一步地讲，所述的装置架上还有研磨液或抛光液的盛装槽10，所述盛装槽具有流出管11，所述的流出管下面的出口开设在放置平台的侧面。

本实用新型这样设置，还可以实现在研抛的过程中加装研磨液和抛光液，有利于提高研抛效率和效果。

进一步地讲，所述的装置架上还有研磨液盛装槽101和抛光液盛装槽102，研磨液盛装槽用管道通向研磨盘的侧面，抛光液盛装槽用管道通向抛光盘的侧面。

本实用新型这样设置，还具有针对性选择的使用研磨液和抛光液。

进一步地讲，还有变温水箱12，所述的变温水箱内部或中间具有变温部件，所述的变温部件例如是加热管和制冷管，还有循环管道连通变温水箱内。

本实用新型这样设置，还可以实现研抛在一定的水温环境中进行。

进一步地讲，所述的研磨盘和抛光盘分别是多个的，多个研磨盘和抛光盘具有不同的精细型号，多个研磨盘和抛光盘分别安装在不同的气缸上。

本实用新型这样设置，具有可以对产品从粗到细逐渐进行研磨，多步进行，研磨效果更好。

进一步地讲，所述的滑道是圆环形的，多个研磨盘和抛光盘按照精细型号顺次设置在滑道上。

本实用新型这样设置，具有循环使用更方便。

进一步地讲，所述的放置平台是多个的，多个放置平台分别在滑道下面设置。

本实用新型这样设置，具有生产效果更高的优点，例如同时可以对多个产品进行研抛。

以上所述仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型的结构特征并不限于此，任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围内。

Claims (5)

1.一种金刚石平面研抛一体装置，包括装置架，在装置架上具有金刚石材料的放置平台，所述的放置平台上具有夹具，所述的夹具是夹持金刚石材料的部件，在装置架上面具有滑道，还有多个气缸上面安装在滑道内，还有研磨盘和抛光盘分别安装在不同的气缸下面，气缸在滑道内滑动，可以更换研磨盘和抛光盘对金刚石材料进行加工。

2.根据权利要求1所述的金刚石平面研抛一体装置，其特征是：所述的放置平台周围具有围挡，所述的围挡将放置平台周围形成水槽。

3.根据权利要求1所述的金刚石平面研抛一体装置，其特征是：所述的装置架上还有研磨液或抛光液的盛装槽，所述盛装槽具有流出管，所述的流出管下面的出口开设在放置平台的侧面。

4.根据权利要求3所述的金刚石平面研抛一体装置，其特征是：所述的装置架上还有研磨液盛装槽和抛光液盛装槽，研磨液盛装槽用管道通向研磨盘的侧面，抛光液盛装槽用管道通向抛光盘的侧面。

5.根据权利要求1、2或3所述的金刚石平面研抛一体装置，其特征是：所述的研磨盘和抛光盘分别是多个的，多个研磨盘和抛光盘具有不同的精细型号，多个研磨盘和抛光盘分别安装在不同的气缸上。

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