CN202180426U - 单晶硅棒端面研磨盘 - Google Patents
单晶硅棒端面研磨盘 Download PDFInfo
- Publication number
- CN202180426U CN202180426U CN201120294753XU CN201120294753U CN202180426U CN 202180426 U CN202180426 U CN 202180426U CN 201120294753X U CN201120294753X U CN 201120294753XU CN 201120294753 U CN201120294753 U CN 201120294753U CN 202180426 U CN202180426 U CN 202180426U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- grinding
- end surface
- single crystal
- silicon single
- crystal rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Abstract
本实用新型公开了单晶硅棒端面研磨盘，它包括可随旋转主轴（15）转动的中间盘（12）、与中间盘固定相连的上模板（6）和下模板（7）、以及固定设置在下模板上的研磨层（9），所述中间盘内设置有可通入研磨液的贮液腔（13），贮液腔与进液管（11）上端相通，进液管下端穿过上模板和下模板与研磨层上的分液腔（8）相通，所述研磨层用抛光布制成。研磨的单晶硅棒端面受速高转动研磨，其端面上温度分布均、散热快，热应力小，不会产生微小裂纹和其他损伤，因而提高了单晶硅棒端面研磨质量，提高了研磨效率，又降低了研磨成本。本实用新型结构紧凑、操作方便，主要用于单晶硅棒端面研磨外，还可用于多晶硅棒端面、陶瓷、冶金粉末的研磨。
Description
技术领域
本实用新型涉及研磨设备，尤其是涉及单晶硅棒端面研磨盘。
背景技术
目前用于单硅晶棒端面研磨的研磨盘主要有两种，一种为磨轮研磨盘，另一种为软毛刷研磨盘。但在实际使用中，仍存在以下不足：
（1） 磨轮研磨盘由于使用硬质磨头，在磨削过程中产生的正面压力较大，从而又会产生新的微小裂纹和其他损伤，严重影响硅块的成品率，质量难以保证，由于磨轮磨削量加大，需要保留很多的加工余量；
（2）软毛刷研磨盘虽然可以消除损伤层，但由于耗材采购成本高，效率差。
实用新型内容
针对上述现有技术中单晶硅棒研磨盘存在的问题，本实用新型提供了一种既能完全消除硅晶棒端面损伤层，又可降低研磨盘制造成本的单晶棒端面研磨盘。
本实用新型要解决的技术问题所采取的技术方案是：所述单晶硅棒端面研磨盘包括可随旋转主轴转动的中间盘、与中间盘固定相连的上模板和下模板、以及固定设置在下模板上的研磨层，所述中间盘内设置有可通入研磨液的贮液腔，贮液腔与进液管上端相通，进液管下端穿过上模板和下模板与研磨层上的分液腔相通，所述研磨层用抛光布制成。
所述研磨盘在随旋转主轴高速转动的同时，研磨液从输液管上端进入到中间盘内的贮液腔中，再从贮液腔通过四根进液管流入到分液腔内，分液腔内的研磨液通过研磨槽始终在硅晶棒与研磨层的接触面进行冷却和润滑。
本实用新型由于采用由抛光布材料制成的研磨层具有合适的硬度和韧性，再加上在研磨层面上始终通入含有金刚砂的研磨液冷却和润滑，单晶硅棒端面受速高转动研磨，其端面上温度分布均、散热快，热应力小，不会产生微小裂纹和其他损伤，因而提高了单晶硅棒端面研磨质量，提高了研磨效率，又降低了研磨成本。本实用新型结构紧凑、操作方便，除主要用于单晶硅棒端面研磨外，还可用于多晶硅棒端面、陶瓷、冶金粉末表面的研磨。
附图说明
图1是本实用新型的主剖视结构示意图，
图2是图1的仰视结构示意图。
在图中，1、变速箱 2、输液管 3、防溅罩 4、引液槽 5、连接螺杆 6、上模板 7、下模板 8、分液腔 9、研磨层 10、粘接层 11、进液管 12、中间盘 13、贮液腔 14、连接座 15、旋转主轴 16、研磨槽。
具体实施方式
在图1和图2中，所述研磨盘配装在单晶硅棒研磨机上，它包括中间盘12、上模板6、下模板7、研磨层9、粘接层10、连接座14、进液管11和连接螺杆5，中间盘与旋转主轴15固定相连，所述中间盘12内设置有圆柱形的贮液腔13，贮液腔上端设置有断面为圆形并呈圆环状布置的引液槽4，引液槽位置与进液管下端相对，贮液腔下端与四根（也可是其它多根）均布的进液管11上端相通，中间盘用连接螺杆5和连接座14与上模板和下模板固定相连，进液管下端穿过上模板6和下模板7后与研磨层9上的四只分液腔8分别相通（分液腔数量和位置与进液管相对应），输液管2固定在变速箱1上，输液管上端与研磨液源相连，输液管下端伸入中间盘内并与引流槽位置间隔2-3毫米相对，在中间盘上设置有防溅罩3，以防止研磨液随中间盘高速转动时溅出，所述分液腔呈长方形，也可呈圆形或其它形，研磨层用粘接层10固定在下模板上，研磨层上间隔设置有研磨槽16，研磨槽为断面深度不大于0.5毫米的凹槽，研磨槽相互相通并与分液腔相通，研磨槽不仅可用来快速传递研磨液，还可用来排屑，所述研磨层用抛光布制成。
Claims (2)
1. 单晶硅棒端面研磨盘，其特征是：它包括可随旋转主轴（15）转动的中间盘（12）、与中间盘固定相连的上模板（6）和下模板（7）、以及固定设置在下模板上的研磨层（9），所述中间盘内设置有可通入研磨液的贮液腔（13），贮液腔与进液管（11）上端相通，进液管下端穿过上模板和下模板与研磨层上的分液腔（8）相通，所述研磨层用抛光布制成。
2.根据权利要求1所述的单晶硅棒端面研磨盘，其特征是：所述研磨层上设置有研磨槽（16）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201120294753XU CN202180426U (zh) | 2011-08-15 | 2011-08-15 | 单晶硅棒端面研磨盘 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201120294753XU CN202180426U (zh) | 2011-08-15 | 2011-08-15 | 单晶硅棒端面研磨盘 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN202180426U true CN202180426U (zh) | 2012-04-04 |
Family
ID=46173475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201120294753XU Expired - Fee Related CN202180426U (zh) | 2011-08-15 | 2011-08-15 | 单晶硅棒端面研磨盘 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN202180426U (zh) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107127674A (zh) * | 2017-07-08 | 2017-09-05 | 上海致领半导体科技发展有限公司 | 一种用于半导体晶片抛光的陶瓷载盘 |
| CN107283285A (zh) * | 2017-07-14 | 2017-10-24 | 合肥文胜新能源科技有限公司 | 一种光伏组件用抛光刷 |
| CN109397099A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-03-01 | 江苏核电有限公司 | 一种基站式研磨机研磨液二次分流装置及其分流方法 |
| CN109648462A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-04-19 | 周天杰 | 一种磨球机及其磨球工艺 |
-
2011
- 2011-08-15 CN CN201120294753XU patent/CN202180426U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107127674A (zh) * | 2017-07-08 | 2017-09-05 | 上海致领半导体科技发展有限公司 | 一种用于半导体晶片抛光的陶瓷载盘 |
| CN107283285A (zh) * | 2017-07-14 | 2017-10-24 | 合肥文胜新能源科技有限公司 | 一种光伏组件用抛光刷 |
| CN109397099A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-03-01 | 江苏核电有限公司 | 一种基站式研磨机研磨液二次分流装置及其分流方法 |
| CN109397099B (zh) * | 2018-12-25 | 2023-09-08 | 江苏核电有限公司 | 一种基站式研磨机研磨液二次分流装置及其分流方法 |
| CN109648462A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-04-19 | 周天杰 | 一种磨球机及其磨球工艺 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN202180426U (zh) | 单晶硅棒端面研磨盘 | |
| CN203031424U (zh) | 一种立式硅块抛光装置 | |
| CN205996787U (zh) | 一种led蓝宝石衬底的研磨装置 | |
| CN202185822U (zh) | 单晶硅棒端面研磨设备 | |
| CN108527664A (zh) | 环形金刚石线锯切割装置 | |
| CN105234823B (zh) | 研磨液供给及研磨垫整理装置、研磨机台 | |
| CN103042440B (zh) | 一种人造金刚石复合片车刀磨削装置 | |
| CN202240893U (zh) | 聚晶金刚石水冷抛光夹具 | |
| CN201483357U (zh) | 镜面研磨盘 | |
| CN204262924U (zh) | 一种半自动硅片抛光机 | |
| CN202192557U (zh) | 研磨抛光轮结构 | |
| CN102554759A (zh) | 油路密封圈研磨的加工方法 | |
| CN103042444B (zh) | 一种人造金刚石复合片刀具磨削方法 | |
| CN102343546A (zh) | 烧结聚晶金刚石冷板冷却高速研磨方法 | |
| CN202964305U (zh) | 一种人造金刚石复合片车刀磨削装置 | |
| CN208929974U (zh) | 一种用于半导体衬底研磨的半固结研磨盘 | |
| CN201565836U (zh) | 钻石年轮磨块 | |
| CN202428311U (zh) | 研磨头和研磨装置 | |
| CN205950528U (zh) | 一种锯齿形磨盘 | |
| CN218137272U (zh) | 金钢砂磨具 | |
| CN103029032B (zh) | 烧结聚晶金刚石冷板冷却高速研磨装置 | |
| CN202264138U (zh) | 烧结聚晶金刚石冷板冷却高速研磨装置 | |
| CN213164882U (zh) | 一种金刚石砂轮修整装置 | |
| CN201552682U (zh) | 金刚线截断机的切割机构 | |
| CN204935348U (zh) | 用于蓝宝石双抛片的加工结构 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120404 Termination date: 20180815 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |