CN203031424U - 一种立式硅块抛光装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种立式硅块抛光装置,涉及用于磨削或抛光的机床、装置或工艺技术领域。硅块抛光单元包括毛刷、砂轮盘、轴承箱、联轴器和电机,所述电机的输出轴通过联轴器与轴承箱的输入轴连接,轴承箱的输出轴与砂轮盘连接,毛刷固定在所述砂轮盘上,所述硅块夹紧单元包括夹紧件和夹紧件升降装置,所述夹紧件固定在所述夹紧件升降装置的端部。所述抛光装置包括四个硅块抛光单元,同时对硅块需要抛光的四面进行抛光并采用立式夹紧的方式对硅块进行夹紧,硅块夹紧单元与非抛光面进行接触,大大提高了抛光的速度和工作效率高。

Description

—种立式娃块抛光装置
技术领域
[0001] 本实用新型涉及用于磨削或抛光的机床、装置或工艺技术领域,尤其涉及一种硅块抛光装置。
背景技术
[0002] 太阳能硅片在加工过程中,首先将硅锭切割成硅块,硅块经过抛光、倒角后切割成硅片。硅块在抛光过程中依次经过粗砂轮、细砂轮进行抛光。粗砂轮的作用是将硅块表面的损伤层进行磨削;细砂轮的作用是将未完全处理的硅块表面损伤层和粗砂留下的痕迹进行抛光处理。抛光机在工序中的作用是把前一道工序切割好的硅块进行硅块表面的抛光处理,为后面硅块切割成硅片做准备,抛光的好坏直接影响硅块的质量。
[0003]目前车间硅块抛光机采用两面形式对硅块进行抛光。将硅块横向放在支架上,使用两个砂轮对娃块进行抛光。抛光方式有两种:第一种方式:娃块放在“V”型支架上,使相邻两个硅块表面首先进行抛光,然后再对剩余两个面进行抛光;第二种方式:硅块放在平行支架上,对相对的两面进行抛光,然后再对剩余两个面进行抛光。由于现有的硅块抛光都是采用两个砂轮,每次只能进行硅块两个面的抛光,需要进行两次,这样大大地降低了硅块抛光的速度。
实用新型内容
[0004] 本实用新型所要解决的技术问题是提供一种立式硅块抛光装置,使用所述装置对硅块进行抛光具有效率高,不会对已抛光的硅块表面造成损伤的特点。
[0005] 为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案是:一种立式硅块抛光装置,其特征在于包括四个硅块抛光单元和两个硅块夹紧单元,所述硅块抛光单元位于所述硅块的前、后、左、右侧,所述硅块夹紧单元位于硅块的上、下侧,所述硅块抛光单元包括毛刷、砂轮盘、轴承箱、联轴器和电机,所述电机的输出轴通过联轴器与轴承箱的输入轴连接,轴承箱的输出轴与砂轮盘连接,毛刷固定在所述砂轮盘上,所述硅块夹紧单元包括夹紧件和夹紧件升降装置,所述夹紧件固定在所述夹紧件升降装置的端部。
[0006] 优选的:所述夹紧件升降装置为气缸。
[0007] 优选的:所述夹紧件的横截面为梯形。
[0008] 采用上述技术方案所产生的有益效果在于:所述抛光装置包括四个硅块抛光单元,同时对硅块需要抛光的四面进行抛光并采用立式夹紧的方式对硅块进行夹紧,硅块夹紧单元与非抛光面进行接触,大大提高了抛光的速度和工作效率。此外,同时进行抛光,可以避免对硅块的四个面分别抛光过程中对已抛光过的硅块表面磨损,提高了硅块的抛光质量,而且所述抛光装置的结构简单,制造成本低,具有较好的推广和使用前景。
附图说明
[0009] 下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。[0010] 图1是本实用新型的主视结构示意图;
[0011] 图2是本实用新型的俯视结构示意图;
[0012] 其中:1、毛刷2、砂轮盘3、轴承箱4、联轴器5、电机6、夹紧件7、夹紧件升降装置。
具体实施方式
[0013] 本文中的前、后、左、右、上和下是指俯视图的前、后、左、右、上、和下。如图1-2所示,一种立式硅块抛光装置,包括四个硅块抛光单元和两个硅块夹紧单元。所述硅块抛光单元位于所述硅块的前、后、左、右侧,对硅块的前、后、左、右侧面进行抛光,所述硅块夹紧单元位于硅块的上、下侧,对硅块的上、下侧面进行夹紧,将硅块固定。
[0014] 所述硅块抛光单元包括毛刷1、砂轮盘2、轴承箱3、联轴器4和电机5,所述电机5的输出轴通过联轴器4与轴承箱3的输入轴连接,轴承箱3的输出轴与砂轮盘2连接,毛刷I固定在所述砂轮盘2上。电机带动轴承箱的输入轴转动,轴承箱的输出轴联动砂轮盘转动,毛刷对硅块进行抛光。所述硅块夹紧单元包括夹紧件6和夹紧件升降装置7,所述夹紧件6固定在所述夹紧件升降装置7的端部。优选的所述夹紧件升降装置7可以使用气缸,当然其他的驱动机构同样可以使用,比如油缸等。优选的所述夹紧件6的横截面为梯形,用以增加夹紧件与硅块的接触面积,使硅块夹紧更牢固,夹紧件优先使用弹性件。硅块在夹紧件升降装置的作用下可以上下运动,方便对较长的硅块进行抛光操作。
[0015] 所述抛光装置包括四个硅块抛光单元,同时对硅块需要抛光的四面进行抛光并采用立式夹紧的方式对硅块进行夹紧,硅块夹紧单元与非抛光面进行接触,大大提高了抛光的速度和工作效率。此外,同时进行抛光,可以避免对硅块的四个面分别抛光过程中对已抛光过的硅块表面磨损,提高了硅块的抛光质量,而且所述抛光装置的结构简单,制造成本低,具有较好的推广和使用前景。
[0016] 本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及其实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用来帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下还可以对本实用新型进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。

Claims (3)

1.一种立式硅块抛光装置,其特征在于包括四个硅块抛光单元和两个硅块夹紧单元,所述硅块抛光单元位于所述硅块的前、后、左、右侧,所述硅块夹紧单元位于硅块的上、下侦牝所述硅块抛光单元包括毛刷(I)、砂轮盘(2)、轴承箱(3)、联轴器(4)和电机(5),所述电机(5)的输出轴通过联轴器(4)与轴承箱(3)的输入轴连接,轴承箱(3)的输出轴与砂轮盘(2)连接,毛刷(I)固定在所述砂轮盘(2)上,所述硅块夹紧单元包括夹紧件(6)和夹紧件升降装置(7),所述夹紧件(6)固定在所述夹紧件升降装置(7)的端部。
2.根据权利要求1所述的一种立式硅块抛光装置,其特征在于所述夹紧件升降装置(7)为气缸。
3.根据权利要求1所述的一种立式硅块抛光装置,其特征在于所述夹紧件(6)的横截面为梯形。
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