CN208084106U - 一种用于研磨抛光设备的修整环 - Google Patents

Abstract

一种用于研磨抛光设备的修整环，该修整环包括环体和研磨体，研磨体由多个圆柱体组成，圆柱体的端面与环体的端面紧固连接，圆柱体均匀对称分布在所述环体的端面上，圆柱体采用陶瓷材料制成，环体是金属材料制成。通过为研磨抛光机提供的圆柱形陶瓷修整环，利用圆柱体与圆柱体之间的较大的圆滑空间，更加利于研磨液的研磨盘上的流动，使得研磨液在研磨盘上分布更加均匀，提高了工件平整度的研磨效果。

Description

一种用于研磨抛光设备的修整环

技术领域

本实用新型属于研磨抛光技术领域，特别涉及一种用于研磨抛光设备的修整环。

背景技术

中国专利文献CN101148026A，公开了“一种修整环型智能超精密抛光机，包括机座、抛光盘、驱动电机、测速机构以及智能控制平台、所述抛光盘通过主轴安装在机座上，所述驱动电机的输出轴与主轴传动连接，所述主轴与测速机构传动连接，所述的智能控制平台连接驱动电机和测速机构，所述的超精密抛光机还包括修整环、修整环保持架，所述的修整环内安装用于夹装工件的基盘，所述的修整环位于所述抛光盘的上方，所述的修整环保持架安装在机座上，所述修正环保持架设有弧形段，所述弧形段的弧度不小于π/2，所述的弧形段的两端设有摩擦轮，所述的修整环嵌入所述弧形段并靠接在两个摩擦轮上，且所述修整环与所述弧形段之间有间隙”。在这个文献中提及的修整环是研磨抛光设备中会用到的一种部件。

就发明人所知，修整环有一种是圆环形的，这种修整环包括金属环体，以及与金属环体固定连接的多个陶瓷体，这些陶瓷体均匀分布在金属环体上，且呈现为块状，如图2所示。不过，这种形式的修整环的块状陶瓷体，在修整环工作时，有时候会遇到研磨液流动不畅的问题，这是因为块状结构的棱角形状不利于研磨液流程造成的。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供了一种用于研磨抛光设备的修整环，目的在于解决现有修整环在工作时，不利于研磨液流动，导致研磨不均匀的问题。

本实用新型的实施例之一是，一种用于研磨抛光设备的修整环，该修整环包括环体和研磨体。研磨体由多个圆柱体组成，所述的圆柱体的端面与环体的端面紧固连接。所述的圆柱体均匀对称分布在所述环体的端面上。

进一步的，所述圆柱体采用陶瓷材料制成。所述的环体是金属材料制成。所述的圆柱体的端面与环体的端面用黏结的方式紧固连接。

本实用新型取得的有益效果之一是，通过为研磨抛光机提供的圆柱形陶瓷修整环，利用圆柱体与圆柱体之间的较大的圆滑空间，更加利于研磨液的研磨盘上的流动，使得研磨液在研磨盘上分布更加均匀，提高了工件平整度的研磨效果。

附图说明

通过参考附图阅读下文的详细描述，本实用新型示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本实用新型的若干实施方式，其中：

图1本实用新型实施例中涉及的研磨抛光设备示意图。

图2本实用新型涉及的现有的一种修整环结构示意图。

图3本实用新型实施例中的修整环示意图。

图4本实用新型实施例中两种形式修整环的研磨液的流动比较图。1——气缸支架，2——气缸，3——压力盘，4——控制显示器，5——研磨盘，6——第一修整环，7——导轮，8——导轮臂，9——桌面，10——机架，100——第二修整环，101——圆柱陶瓷体，102——金属环体。

具体实施方式

如图1所示，在一些实施例中，研磨抛光设备包括，机架、置于机架上的桌面、以及安装在桌面上的气缸支架。在气缸支架上垂直安装有3个气缸，每个气缸运动部都安装有压力盘。

压力盘下方的桌面上，安装有可被电机驱动旋转的研磨盘。在研磨盘的边缘处安装有3个导轮臂，导轮臂的两端各有一个导轮。修整环被置于研磨盘上，被导轮臂的导轮夹持。

在研磨工件时，压力盘在气缸驱动下向下移动，正好压住在位于修整环内的工件。修整环被导轮臂的导轮夹持，也处于旋转的状态。研磨盘在电机驱动下旋转对工件进行研磨。研磨控制操作则是通过安装在机架一侧的控制显示器完成的。

如图3所示的第二修整环，在一些实施例中，该修整环包括环体和研磨体，研磨体由多个圆柱体组成，所述的圆柱体的端面与环体的端面紧固连接。在一个实施例中，修整环的圆柱体均匀对称分布在所述环体的端面上。

在至少一个实施例中，修整环的圆柱体采用陶瓷材料制成，修整环的环体是金属材料制成，所述的圆柱体的端面与环体的端面用黏结的方式紧固连接。陶瓷修整环(陶瓷环)可以用于对软质研磨盘或树脂金属盘进行修整以维持研磨盘的平整度。如果使用高纯度的氧化铝陶瓷,有很高的致密性和耐磨性,因而修整环具有很长的使用寿命。

最常见的陶瓷环有圆环形，如图2所示的第一修整环。在蓝宝石晶片的铜盘抛光制程中,使用如实施例中的圆柱形陶瓷环,相对于圆环形陶瓷环而言，圆柱形陶瓷环对金刚石研磨液的利用率可提升60％以上。如图4所示，圆柱体与圆柱体之间的较大的圆滑空间，更加利于金刚石研磨液的研磨盘上的流动，使得金刚石研磨液在研磨盘上分布更加均匀。

陶瓷环工作面的平面度控制是陶瓷环制作过程中的一道关键工序,未经研磨修平的陶瓷环中陶瓷块不在同一个平面上，容易对研磨盘和工件造成破坏同时恶化研磨盘的平面度。在一些实施例中，陶瓷环的圆柱体全部都经过研磨修平,可直接用于对研磨盘的修整和金刚石颗粒的镶埋。

值得说明的是，虽然前述内容已经参考若干具体实施方式描述了本实用新型创造的精神和原理，但是应该理解，本实用新型并不限于所公开的具体实施方式，对各方面的划分也不意味着这些方面中的特征不能组合，这种划分仅是为了表述的方便。本实用新型旨在涵盖所附权利要求的精神和范围内所包括的各种修改和等同布置。

Claims (6)

1.一种用于研磨抛光设备的修整环，其特征在于，该修整环包括环体和研磨体，

研磨体由多个圆柱体组成，所述的圆柱体的端面与环体的端面紧固连接。

2.如权利要求1所述的用于研磨抛光设备的修整环，其特征在于，所述的圆柱体均匀对称分布在所述环体的端面上。

3.如权利要求2所述的用于研磨抛光设备的修整环，其特征在于，所述圆柱体采用陶瓷材料制成。

4.如权利要求3所述的用于研磨抛光设备的修整环，其特征在于，所述的环体是金属材料制成。

5.如权利要求4所述的用于研磨抛光设备的修整环，其特征在于，所述的圆柱体的端面与环体的端面用黏结的方式紧固连接。

6.如权利要求1所述的用于研磨抛光设备的修整环，其特征在于，所述研磨抛光设备包括，

机架；

置于机架上的桌面；

安装在桌面上的气缸支架；

垂直安装在气缸支架上的至少3个气缸；

每个气缸运动部安装的压力盘；

压力盘下方的桌面上，安装有可被电机驱动旋转的研磨盘；

在研磨盘的边缘处至少安装有3个导轮臂；

导轮臂的两端各有一个导轮；

所述修整环被置于研磨盘上，被导轮臂的导轮夹持；

安装在机架一侧的控制显示器。