CN210879179U - 一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及研磨抛光机，具体涉及一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，包括底座，底座为方体结构，底座上设有抛光槽，抛光槽包括抛光槽环和抛光槽底盘，抛光槽底盘上端表面设有第一研磨纹路，抛光槽环侧壁内侧环绕连续性设有竖直方向的第一齿槽；抛光槽中部设有动力圆盘，动力圆盘为圆柱形结构，动力圆盘外侧面环绕连续性设有竖直方向的第二齿槽；抛光槽内设有复数个研磨盘，研磨盘为圆盘形结构，研磨盘边缘环绕连续性设有竖直方向的第三齿槽，研磨盘直径方向一端与第一齿槽啮合，研磨盘直径方向另一端与第二齿槽啮合；本实用新型其研磨抛光度高，能同时在多个方向同时对陶瓷基片进行精度研磨抛光，同时，具有高速的抛光速度。

Description

一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机

技术领域

本实用新型涉及研磨抛光机，具体涉及一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机。

背景技术

随着技术的发展，氮化硅陶瓷基片的应用范围越来越广，对陶瓷基片的表面的粗糙度要求越来越高，习用抛光机研磨度不足，无法实现高精度的抛光度，同时，习用抛光机抛光时间长。

因此，目前急需一种新型的抛光机，其研磨抛光度高，在多个方向同时对陶瓷基片进行精度研磨抛光，同时，具有高速的抛光速度。

实用新型内容

为了解决以上存在的技术问题，本实用新型提供一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其研磨抛光度高，能同时在多个方向同时对陶瓷基片进行精度研磨抛光，同时，具有高速的抛光速度。

本实用新型采用如下技术方案：

一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，包括底座，底座为方体结构，底座上设有抛光槽，抛光槽包括抛光槽环和抛光槽底盘，抛光槽底盘上端表面设有第一研磨纹路，抛光槽环侧壁内侧环绕连续性设有竖直方向的第一齿槽；抛光槽中部设有动力圆盘，动力圆盘为圆柱形结构，动力圆盘外侧面环绕连续性设有竖直方向的第二齿槽；抛光槽内设有复数个研磨盘，研磨盘为圆盘形结构，研磨盘边缘环绕连续性设有竖直方向的第三齿槽，研磨盘直径方向一端与第一齿槽啮合，研磨盘直径方向另一端与第二齿槽啮合；研磨盘内贯穿设有复数个圆形结构的物料固定槽，物料固定槽内设有环形结构的固定垫，陶瓷基片放于固定垫内；抛光槽上方设有下压抛光盘，下压抛光盘下端面均匀设有第二研磨纹路，下压抛光盘上端面设有研磨冷却液注入孔，下压抛光盘上方固定设有用于存放研磨冷却液的箱体，箱体通过设置管道将研磨冷却液导入研磨冷却液注入孔，研磨冷却液通过第二研磨纹路进入到抛光槽内部；底座上端面边缘设有油缸机构，油缸机构通过设置水平方向的连接件连接下压抛光盘，下压抛光盘沿油缸机构竖直方向下压。

进一步，第一研磨纹路和第二研磨纹路均为菱形纹路槽，固定垫内侧侧面环绕连续性设有第四齿槽。

更进一步，下压抛光盘上端面设有用于固定管道的固定基座。

优选地，固定垫为橡胶材质，下压抛光盘上设有用于驱动动力圆盘的电机机构。

由上述对本实用新型结构的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：本实用新型通过动力圆盘的啮合带动研磨盘，研磨盘在抛光槽和动力圆盘之间的作用下，不仅自身带有转动，而且围绕着动力圆盘转动，通过第一研磨纹路和第二研磨纹路实现高精度多方向同时研磨，不仅提高了研磨抛光的精度，而且提高了研磨抛光效率，缩短研磨抛光时间。

附图说明

图1为本实用新型主机立体图1；

图2为本实用新型主机立体图2；

图3为本实用新型主机立体图3；

图4为本实用新型研磨盘立体图1；

图5为本实用新型研磨盘立体图2。

具体实施方式

下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。

参见图1至图5，一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，包括底座1，底座1为方体结构，底座1上设有抛光槽2，抛光槽2包括抛光槽环21和抛光槽底盘22，抛光槽底盘22上端表面设有第一研磨纹路221，抛光槽环21侧壁内侧环绕连续性设有竖直方向的第一齿槽211；抛光槽2中部设有动力圆盘3，动力圆盘3为圆柱形结构，动力圆盘3外侧面环绕连续性设有竖直方向的第二齿槽31；抛光槽2内设有复数个研磨盘4，研磨盘4为圆盘形结构，研磨盘4边缘环绕连续性设有竖直方向的第三齿槽41，研磨盘4直径方向一端与第一齿槽211啮合，研磨盘4直径方向另一端与第二齿槽31啮合；研磨盘4内贯穿设有复数个圆形结构的物料固定槽42，物料固定槽42内设有环形结构的固定垫43，陶瓷基片放于固定垫43内；抛光槽2上方设有下压抛光盘5，下压抛光盘5下端面均匀设有第二研磨纹路，下压抛光盘5上端面设有研磨冷却液注入孔51，下压抛光盘5上方固定设有用于存放研磨冷却液的箱体52，箱体52通过设置管道53将研磨冷却液导入研磨冷却液注入孔51，研磨冷却液通过第二研磨纹路进入到抛光槽2内部；底座1上端面边缘设有油缸机构6，油缸机构6通过设置水平方向的连接件61连接下压抛光盘5，下压抛光盘5沿油缸机构6竖直方向下压。

参见图1至图5，第一研磨纹路221和第二研磨纹路51均为菱形纹路槽，固定垫43内侧侧面环绕连续性设有第四齿槽431，下压抛光盘5上端面设有用于固定管道53的固定基座54，固定垫43为橡胶材质，下压抛光盘5上设有用于驱动动力圆盘3的电机机构7。

上述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。

Claims (7)

1.一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，包括底座，所述底座为方体结构，其特征是：所述底座上设有抛光槽，所述抛光槽包括抛光槽环和抛光槽底盘，所述抛光槽底盘上端表面设有第一研磨纹路，所述抛光槽环侧壁内侧环绕连续性设有竖直方向的第一齿槽；所述抛光槽中部设有动力圆盘，所述动力圆盘为圆柱形结构，所述动力圆盘外侧面环绕连续性设有竖直方向的第二齿槽；所述抛光槽内设有复数个研磨盘，所述研磨盘为圆盘形结构，所述研磨盘边缘环绕连续性设有竖直方向的第三齿槽，所述研磨盘直径方向一端与所述第一齿槽啮合，所述研磨盘直径方向另一端与所述第二齿槽啮合；所述研磨盘内贯穿设有复数个圆形结构的物料固定槽，所述物料固定槽内设有环形结构的固定垫；所述抛光槽上方设有下压抛光盘，所述下压抛光盘下端面均匀设有第二研磨纹路，所述下压抛光盘上端面设有研磨冷却液注入孔，所述下压抛光盘上方固定设有用于存放研磨冷却液的箱体，所述箱体通过设置管道将研磨冷却液导入研磨冷却液注入孔，所述研磨冷却液通过第二研磨纹路进入到抛光槽内部；所述底座上端面边缘设有油缸机构，所述油缸机构通过设置水平方向的连接件连接所述下压抛光盘，所述下压抛光盘沿所述油缸机构竖直方向下压。

2.根据权利要求1所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述第一研磨纹路和所述第二研磨纹路均为菱形纹路槽。

3.根据权利要求1或2所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述固定垫内侧侧面环绕连续性设有第四齿槽。

4.根据权利要求1或2所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述下压抛光盘上端面设有用于固定所述管道的固定基座。

5.根据权利要求3所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述下压抛光盘上端面设有用于固定所述管道的固定基座。

6.根据权利要求1或2或5所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述固定垫为橡胶材质。

7.根据权利要求1或2或5所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述下压抛光盘上设有用于驱动所述动力圆盘的电机机构。

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