CN217728109U - 一种用于单晶金刚石磨盘的抛光装置 - Google Patents

一种用于单晶金刚石磨盘的抛光装置 Download PDF

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朱珠
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Abstract

本实用新型涉及金刚石磨盘加工设备技术领域,名称是一种用于单晶金刚石磨盘的抛光装置,包括装置架,所述的装置架上安装有电机,所述的电机上面安装有转轴;在装置架上安装有向下的上伸缩部件,所述的上伸缩部件下面安装有一个抛光辊;在装置架上安装有向上的伸缩部件,这个伸缩部件是下伸缩部件,所述的下伸缩部件上面安装有下抛光辊,所述的下抛光辊的上面可以对单晶金刚石磨盘的下面进行抛光。这样的单晶金刚石磨盘的抛光装置具有一次可以对单晶金刚石磨盘的两个面进行抛光、生产效率高的优点。

Description

一种用于单晶金刚石磨盘的抛光装置
技术领域
本实用新型涉及金刚石磨盘加工设备技术领域,具体地说是涉及用于单晶金刚石磨盘的抛光装置。
背景技术
单晶金刚石磨盘包括圆形的基体和基体上面的多个金刚石制成的磨片,所述的基体中间具有安装孔,将磨片安装在基体上后就要对磨片的表面进行抛光,使金刚石磨盘的表面更平整、无毛刺,所述的设备就是单晶金刚石磨盘的抛光装置。
所述的单晶金刚石磨盘的抛光装置包括装置架,所述的装置架下面安装有底座,所述的底座上面具有升降部件,所述的升降部件上面具有加工面板,还有卡件安装在加工面板上,所述的装置架上面安装有研磨辊,所述的研磨辊可以前后移动地安装在装置架上,这样的研磨辊能够前后行走地对金刚石磨盘进行研磨。这样的单晶金刚石磨盘的抛光装置一次只能对单晶金刚石磨盘的一个面进行抛光,具有生产效率低的缺点,不能满足一些生产的要求。
发明内容
本实用新型的目的就是针对上述缺点,提供一种一次可以对单晶金刚石磨盘的两个面进行抛光、生产效率高的单晶金刚石磨盘的抛光装置——一种用于单晶金刚石磨盘的抛光装置。
本实用新型的技术方案是这样实现的:一种用于单晶金刚石磨盘的抛光装置,包括装置架,其特征是:所述的装置架上安装电机,所述的电机上面安装有有转轴,所述的转轴是穿插单晶金刚石磨盘中间的安装孔并锁紧单晶金刚石磨盘中间的安装孔的部件;在装置架上安装有向下的伸缩部件,这个伸缩部件是上伸缩部件,所述的上伸缩部件下面安装有一个抛光辊,这个抛光辊是上抛光辊,所述的上抛光辊的下面可以对单晶金刚石磨盘的上面进行抛光;在装置架上安装有向上的伸缩部件,这个伸缩部件是下伸缩部件,所述的下伸缩部件上面安装有一个抛光辊,这个抛光辊是下抛光辊,所述的下抛光辊的上面可以对单晶金刚石磨盘的下面进行抛光。
进一步地讲,所述的装置架还包括一个立杆,在立杆侧面安装有横向的伸缩部件,这个伸缩部件是横伸缩部件,所述的横伸缩部件前面安装有一个抛光辊,这个抛光辊是横抛光辊,所述的横抛光辊的前面可以对单晶金刚石磨盘的周围面进行抛光。
进一步地讲,所述的抛光辊侧面具有吸尘罩,本装置还包括一个吸尘器,所述的吸尘器具有吸尘口,所述的吸尘口连接有吸尘管道,所述的吸尘管道的另一端开设在吸尘罩里面。
进一步地讲,所述的装置架上还有抛光液的盛装槽,所述盛装槽具有下面的抛光液滴管,所述的抛光液滴管朝向加工面板的上面。
进一步地讲,所述的上抛光辊、下抛光辊和横抛光辊分别是多个的,多个上抛光辊、下抛光辊和横抛光辊分别在转轴周围分布。
进一步地讲,所述的装置架周围还有一个小室,所述的装置架就在小室内,还有排尘管道连接在小室内,所述的小室具有小室门。
本实用新型的有益效果是:这样的单晶金刚石磨盘的抛光装置具有一次可以对单晶金刚石磨盘的两个面进行抛光、生产效率高的优点。
附图说明
图1是本实用新型的纵剖面结构示意图。
图2是图1中的A—A方向剖面示意图。
其中: 1、装置架 2、电机 3、转轴 4、单晶金刚石磨盘 51、上伸缩部件 52、下伸缩部件 53、横伸缩部件 61、上抛光辊 62、下抛光辊 63、横抛光辊 7、立杆 8、吸尘罩 9、吸尘管道 10、抛光液的盛装槽 11、抛光液滴管 12、小室 13、小室门。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
如图1、2所示,一种用于单晶金刚石磨盘的抛光装置,包括装置架1,其特征是:所述的装置架上安装电机2,所述的电机上面安装有有转轴3,所述的转轴是穿插单晶金刚石磨盘4中间的安装孔并锁紧单晶金刚石磨盘中间的安装孔的部件;在装置架上安装有向下的伸缩部件,这个伸缩部件是上伸缩部件51,所述的上伸缩部件下面安装有一个抛光辊,这个抛光辊是上抛光辊61,所述的上抛光辊的下面可以对单晶金刚石磨盘的上面进行抛光;在装置架上安装有向上的伸缩部件,这个伸缩部件是下伸缩部件52,所述的下伸缩部件上面安装有一个抛光辊,这个抛光辊是下抛光辊62,所述的下抛光辊的上面可以对单晶金刚石磨盘的下面进行抛光。
本实用新型这设置,可以对单晶金刚石磨盘的上面和下面两个面同时抛光,可以实现本实用新型的目的。
进一步地讲,所述的装置架还包括一个立杆7,在立杆侧面安装有横向的伸缩部件,这个伸缩部件是横伸缩部件53,所述的横伸缩部件前面安装有一个抛光辊,这个抛光辊是横抛光辊63,所述的横抛光辊的前面可以对单晶金刚石磨盘的周围面进行抛光。
本实用新型这设置,还可以对单晶金刚石磨盘的侧面进行抛光。
进一步地讲,所述的抛光辊侧面具有吸尘罩8,本装置还包括一个吸尘器,所述的吸尘器具有吸尘口,所述的吸尘口连接有吸尘管道9,所述的吸尘管道的另一端开设吸尘罩里面。
本实用新型这设置,还可以实现在抛光的过程中除尘,保持周围的环境更清洁。
进一步地讲,所述的装置架上还有抛光液的盛装槽10,所述盛装槽具有下面的抛光液滴管11,所述的抛光液滴管朝向加工面板的上面。
本实用新型这设置,还具有可以对抛光的部位洒抛光液的优点。
进一步地讲,所述的上抛光辊、下抛光辊和横抛光辊分别是多个的,多个上抛光辊、下抛光辊和横抛光辊分别在转轴周围分布。
本实用新型这设置,还具有抛光效率更高的优点。
进一步地讲,所述的装置架周围还有一个小室12,所述的装置架就在小室内,还有排尘管道连接在小室内,所述的小室具有小室门13。
本实用新型这设置,还具有将本装置封闭在一个封闭环境中,更卫生的优点。
以上所述仅为本实用新型的具体实施例,但本实用新型的结构特征并不限于此,任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内,所作的变化或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围内。

Claims (6)

1.一种用于单晶金刚石磨盘的抛光装置,包括装置架,其特征是:所述的装置架上安装电机,所述的电机上面安装有有转轴,所述的转轴是穿插单晶金刚石磨盘中间的安装孔并锁紧单晶金刚石磨盘中间的安装孔的部件;在装置架上安装有向下的伸缩部件,这个伸缩部件是上伸缩部件,所述的上伸缩部件下面安装有一个抛光辊,这个抛光辊是上抛光辊,所述的上抛光辊的下面可以对单晶金刚石磨盘的上面进行抛光;在装置架上安装有向上的伸缩部件,这个伸缩部件是下伸缩部件,所述的下伸缩部件上面安装有一个抛光辊,这个抛光辊是下抛光辊,所述的下抛光辊的上面可以对单晶金刚石磨盘的下面进行抛光。
2.根据权利要求1所述的用于单晶金刚石磨盘的抛光装置,其特征是:所述的装置架还包括一个立杆,在立杆侧面安装有横向的伸缩部件,这个伸缩部件是横伸缩部件,所述的横伸缩部件前面安装有一个抛光辊,这个抛光辊是横抛光辊,所述的横抛光辊的前面可以对单晶金刚石磨盘的周围面进行抛光。
3.根据权利要求1或2所述的用于单晶金刚石磨盘的抛光装置,其特征是:所述的抛光辊侧面具有吸尘罩,本装置还包括一个吸尘器,所述的吸尘器具有吸尘口,所述的吸尘口连接有吸尘管道,所述的吸尘管道的另一端开设在吸尘罩里面。
4.根据权利要求1或2所述的用于单晶金刚石磨盘的抛光装置,其特征是:所述的装置架上还有抛光液的盛装槽,所述盛装槽具有下面的抛光液滴管,所述的抛光液滴管朝向加工面板的上面。
5.根据权利要求2所述的用于单晶金刚石磨盘的抛光装置,其特征是:所述的上抛光辊、下抛光辊和横抛光辊分别是多个的,多个上抛光辊、下抛光辊和横抛光辊分别在转轴周围分布。
6.根据权利要求1或2所述的用于单晶金刚石磨盘的抛光装置,其特征是:所述的装置架周围还有一个小室,所述的装置架就在小室内,还有排尘管道连接在小室内,所述的小室具有小室门。
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