CN217665054U - 一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，包括真空发生器，具内部腔室的液体缓存装置，连接真空发生器与液体缓存装置的第一真空管路，与液体缓存装置相连的液体排出管路，以及接入所述液体排出管路的第一阀门，液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过隔板将内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，隔板开设用以连通过滤室与缓存室的第三流通口，过滤室内填充气液分离过滤器，液体缓存装置的底壁开设连通液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入液体排出管路，从而避免缓存室内存储液体过多导致液体外溢流入真空发生器，从而保证了真空发生器不会进液损坏，满足了提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。

Description

一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统

技术领域

本实用新型涉及晶圆设备技术领域，更具体涉及一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统。

背景技术

晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，单片式晶圆清洗设备是整个晶圆制造工艺中不可或缺的必要步骤。在单片式晶圆清洗设备中，通常以真空发生器的真空产生端与吸附晶圆进行清洗的吸附装置相连，清洗溶液及清洗晶圆后产生的气液混合物难免会流入真空发生器影响真空发生器的效果，甚至损坏真空发生器。

现有的单片清洗机的厂务系统中，虽然增加了用以保护真空发生器的过滤装置，却依然存在气液混合物难以有效过滤清除，从而导致气液混合物流入真空发生器，以至于损坏真空发生器，使得单片式晶圆清洗设备稳定性变差的缺陷。

有鉴于此，有必要对现有技术中的单片式晶圆清洗设备的厂务系统的予以改进，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于公开一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，用以解决现有技术单片式晶圆清洗设备的厂务系统中，气液混合物流入真空发生器进而损坏真空发生器的缺陷，以满足提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，包括：

真空发生器，具内部腔室的液体缓存装置，连接所述真空发生器与所述液体缓存装置的第一真空管路，与所述液体缓存装置相连的液体排出管路，所述液体排出管路接入控制液体排出所述缓存室的第一阀门；

所述液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过所述隔板将所述内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，所述隔板形成用以连通所述过滤室与缓存室的第三流通口；

所述过滤室内填充用以分离流入所述过滤室内气液混合物的气液分离过滤器；

液体缓存装置的底壁开设连通所述液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入所述液体排出管路。

作为本实用新型的进一步改进，所述单片式晶圆清洗设备的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连接的第二真空管路；

液体缓存装置的侧壁开设连通所述过滤室与第二真空管路的第四流通口，以供气液混合物流入所述过滤室，所述侧壁开设连通所述过滤室与第一真空管路的第五流通口，以供气体流出所述过滤室。

作为本实用新型的进一步改进，所述液体缓存装置包括：所述侧壁形成用以监测所述缓存室内液体的视窗。

作为本实用新型的进一步改进，所述单片晶圆清洗的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连通的液体流入管路；

所述侧壁开设连通所述缓存室与液体流入管路的第二流通口，以供清洗液体流入所述缓存室。

作为本实用新型的进一步改进，所述液体流入管路接入控制清洗液体流入所述缓存室的第二阀门。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

在本实用新型中，用以清洗晶圆的清洗装置与真空发生器之间安装液体缓存装置，在清洗晶圆过程中流入第二真空管路的气液混合物将进入液体缓存装置中的过滤室，过滤室内的气液分离过滤器对气液混合物进行气液分离，使容易损坏真空发生器的液体流入缓存室，单片式晶圆清洗设备结束工作后，第一阀门打开，缓存室内的液体将沿液体排出管路流出缓存室，从而避免缓存室内存储液体过多导致液体外溢流入真空发生器，从而保证了真空发生器不会进液损坏，满足了提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。

附图说明

图1为本实用新型一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统的整体示意图；

图2为液体缓存装置的剖视图。

具体实施方式

下面结合附图所示的各实施方式对本实用新型进行详细说明，但应当说明的是，这些实施方式并非对本实用新型的限制，本领域普通技术人员根据这些实施方式所作的功能、方法、或者结构上的等效变换或替代，均属于本实用新型的保护范围之内。

需要理解的是，在本申请中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术方案和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术方案的限制。

请参图1至图2所示，本实用新型揭示了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统(以下简称“厂务系统”)的具体实施方式。

在本实施方式中揭示的厂务系统避免气液混合物流入真空发生器20从而保证真空发生器20的正常运行，相对于其他厂务系统而言，在清洗装置1与真空发生器20之间安装液体缓存装置30，单片式晶圆清洗设备工作时流入第二真空管路25的气液混合物会进入液体缓存装置30的过滤室31，过滤室31内的气液分离过滤器311将对气液混合物执行气液分离工作，分离后的液体流入缓存室32，在单片式晶圆清洗设备结束工作后，打开第一阀门332，缓存室32内的液体沿液体排出管路33离开缓存室32，从而保证过滤后的液体不会在缓存室32内堆积，避免缓存室32内暂存的液体过多导致液体外溢流入真空发生器20，从而保证了真空发生器20的正常运行，提高了单片式晶圆清洗设备的稳定性。本申请所揭示的厂务系统及基于该厂务系统所揭示避免气液混合物流入真空发生器20从而保证真空发生器20的正常运行，进而提高单片式晶圆清洗设备稳定性的实现方式在下文予以详细阐述。

结合图1与图2所示，在本实施例中，该厂务系统包括：真空发生器20，具内部腔室300的液体缓存装置30，以及连接真空发生器20与液体缓存装置30的第一真空管路24。液体缓存装置30是由侧壁35、顶壁36和底壁37围合构成且在内部形成中空内部腔室300的立体装置，液体缓存装置30内设水平设置的隔板301，以通过隔板301将内部腔室300分隔形成上下布置的过滤室31与缓存室32，隔板301形成用以连通过滤室31与缓存室32的第三流通口302，过滤室31内填充用以分离流入过滤室31内气液混合物的气液分离过滤器311。

结合图1所示，在本实施例中，单片式晶圆清洗设备中具清洗腔10的清洗装置1通过第二真空管路25与液体缓存装置30连通，液体排出管路33与液体缓存装置30相连，液体排出管路33接入控制液体流出缓存室32的第一阀门332。在单片式晶圆清洗设备正常运行时，需要真空发生器20向设置于清洗腔10内的旋转盘11提供真空吸附力以吸附晶圆。因此需要打开接入气体进入管路21的第三阀门211，以控制干燥气体从干燥气体入口212流入气体进入管路21，干燥气体沿箭头a所示的方向从气体进入管路21流入真空发生器20，真空发生器20利用气体的高速流通形成一定的真空度，前述气体沿箭头c所示的方向从真空发生器20流入气体排出管路22，然后气体从气体排出口221流出气体排出管路22。真空发生器20利用前述气体的高速流动形成一定的真空度，卷吸第一真空管路24与第二真空管路25内的气体沿箭头b所示的方向流入真空发生器20，并与前述干燥气体一起从气体排出管路22沿箭头c所示的方向流出真空发生器20，进而形成单片式晶圆清洗设备正常工作需要的真空度，同时，为了避免外部气体沿液体排出管路33进入液体缓存装置30，导致真空发生器20形成的真空状态被破坏，还应关闭第一阀门332，此时真空发生器20正常工作，向旋转盘11提供真空吸附力，使得旋转盘11能够吸附晶圆，并由喷嘴(未标示)向晶圆表面喷洒清洗溶液以执行晶圆清洗制程。由于第二真空管路25与清洗腔10连通，在单片式晶圆清洗设备正常工作时，清洗腔10内清洗晶圆后的液体会流入第二真空管路25内形成气液混合物，由于真空发生器20卷吸第二真空管路25与第一真空管路24内的气体等原因，气液混合物沿箭头h1所示的方向向真空发生器20流动，由于在清洗装置1与真空发生器20之间设置了液体缓存装置30，气液混合物会在从清洗装置1向真空发生器20流动的过程中被液体缓存装置30阻挡，从而流入液体缓存装置30，避免了气液混合物直接流入真空发生器20进而保证了真空发生器20的正常运行。

结合图2所示，在本实施例中，液体缓存装置30的侧壁35开设连通过滤室31与第二真空管路25的第四流通口251，以供气液混合物流入过滤室31，侧壁35开设连通过滤室31与第一真空管路24的第五流通口241，以供分离后的对真空发生器20无害的气体流出过滤室31。气液混合物沿箭头h1所示的方向从第四流通口251流入过滤室31，过滤室31内填充PTFE(聚四氟乙烯)过滤器等气液分离过滤器311，PTFE(聚四氟乙烯)过滤器等气液分离过滤器311对流入的气液混合物执行气液分离工作，分离出的液体由于重力原因从第三流通口302沿箭头h2所示的方向流入缓存室32暂存，分离后对真空发生器20无害的气体沿箭头h3所示的方向从第五流通口241离开过滤室31中，通过对气液混合物执行气液分离工作，并将分离出的会损坏真空发生器20的液体暂存入缓存室32，避免液体流入真空发生器20，从而保证了真空发生器20的正常运行。

示例性地，在本实施例中，液体缓存装置30的底壁37开设连通液体排出管路33与缓存室32的第一流通口331，以供缓存室32内液体流入液体排出管路33，在单片式晶圆清洗设备结束工作后，打开接入液体排出管路33的第一阀门332，经分离后存入缓存室32的液体由于重力的原因，沿图1中所示的箭头e所示的方向从第一流通口331流入图1中所示的液体排出管路33，并沿图1中所示的箭头e所示的方向从图1中所示的液体排出管路33流经图1中所示的液体排出口333离开单片式晶圆清洗设备，避免缓存室32内液体外溢流入真空发生器20，从而保证真空发生器20正常运行，实现了提高单片式晶圆清洗设备稳定性的效果。

结合图1和图2所示，在本实施例中，液体缓存装置30连通液体流入管路34，液体流入管路34接入控制清洗液体流入缓存室32的第二阀门342，侧壁35开设连通缓存室32与液体流入管路34的第二流通口34，以供清洗液体流入缓存室32，当单片式晶圆清洗设备停止工作时，可打开第二阀门342控制清洗液体经液体流入口343进入液体流入管路34，并沿液体流入管路24从第二流通口341进入缓存室32，并对缓存室32内残留的混合物进行冲洗，冲洗缓存室32后的液体混合物从前述的液体排出管路33流出缓存室32，从而避免难以清除的混合物在缓存室32内堆积导致后续液体外溢流入真空发生器20，保证真空发生器20的正常运行。同时，也可在侧壁35开设用以监测缓存室32内液体的视窗303，从而控制是否打开第二阀门342驱使清洗溶液流入缓存室32并清洗缓存室32内残留的混合物，避免缓存室32内混合物堆积导致液体外溢流入真空发生器20，从而保证真空发生器20的正常运行。当然，也可省略前述视窗303，仅通过增加清洗溶液流入缓存室32清洗缓存室32内残留混合物的次数，以避免缓存室32内残留的混合物堆积导致液体外溢流入真空发生器20，从而保证真空发生器20正常运行，并实现提高单片式晶圆清洗设备稳定性的效果。

上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本实用新型的可行性实施方式的具体说明，它们并非用以限制本实用新型的保护范围，凡未脱离本实用新型技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本实用新型的保护范围之内。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (5)

1.一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，包括：

真空发生器，具有内部腔室的液体缓存装置，连接所述真空发生器与所述液体缓存装置的第一真空管路，与所述液体缓存装置相连的液体排出管路，以及接入所述液体排出管路用以控制液体流出内部腔室的第一阀门；

所述液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过所述隔板将所述内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，所述隔板形成用以连通所述过滤室与缓存室的第三流通口；

所述过滤室内填充用以分离流入所述过滤室内气液混合物的气液分离过滤器；

液体缓存装置的底壁开设连通所述液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入所述液体排出管路。

2.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，所述单片式晶圆清洗设备的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连接的第二真空管路；

液体缓存装置的侧壁开设连通所述过滤室与第二真空管路的第四流通口，以供气液混合物流入所述过滤室，所述侧壁开设连通所述过滤室与第一真空管路的第五流通口，以供气体流出所述过滤室。

3.根据权利要求2所述的单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，所述液体缓存装置包括：所述侧壁形成用以监测所述缓存室内液体的视窗。

4.根据权利要求3所述的单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，所述单片晶圆清洗的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连通的液体流入管路；

所述侧壁开设连通所述缓存室与液体流入管路的第二流通口，以供清洗液体流入所述缓存室。

5.根据权利要求4所述的单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，所述液体流入管路接入控制清洗液体流入所述缓存室的第二阀门。

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