CN217550507U - 下料机构及检测设备 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种下料机构及检测设备,包括:传送结构,可移动至下料区域;治具,设置于所述传送结构上,并可相对于所述传送结构翻转;以及下料驱动结构,设置于所述下料区域,当所述治具在所述传送结构的作用下移动至下料区域时,所述下料驱动结构可与所述治具抵持,并驱动所述治具翻转。可看出,在本申请的下料机构下料方式结构简单,成本更低,占用空间小。
Description
技术领域
本申请属于工件下料技术领域,更具体地说,是涉及一种下料机构及检测设备。
背景技术
在工件加工或检测完成后需要对工件进行下料,而现有下料方式一般是采用机械手进行下料,但是采用机械手进行下料会造成加工或检测的成本增加,并且由于机械手的体积一般较大,进而会造成整个加工设备或检测设备的体积过大。
实用新型内容
本申请在于提供下料机构及检测设备,以解决上述背景技术所提到的检测效率低技术问题。
本申请采用的技术方案是一种下料机构,包括:
传送结构,可移动至下料区域;
治具,设置于所述传送结构上,并可相对于所述传送结构翻转;以及
下料驱动结构,设置于所述下料区域,当所述治具在所述传送结构的作用下移动至下料区域时,所述下料驱动结构可与所述治具抵持,并驱动所述治具翻转。
可看出,在本申请的下料机构中,通过在传送结构上设置可进行翻转的治具,以及在工件下料的区域设置用于驱动治具翻转的下料驱动装置,使治具在传送结构的作用下移动至下料区域时,下料驱动装置驱动治具翻转,进而实现工件的下料,该下料方式结构简单,成本更低,占用空间小。
进一步地,所述治具通过转动轴设置于所述传送结构上,并且所述治具能够在所述转动轴的作用下绕自身轴线翻转。
进一步地,所述治具的承载面上设置有吸附孔。
进一步地,所述下料机构还包括下料料框,所述下料料框设置于所述治具翻转时工件滑落的区域。
进一步地,所述下料机构还包括引导结构,所述引导结构设置于所述工件滑落的区域与所述下料料框之间,用于将滑落的工件转移至所述下料料框内。
进一步地,所述引导结构包括引导座,所述引导座自所述工件滑落的区域向所述下料料框的方向倾斜,以使掉落在所述引导座上的所述工件能够在重力的作用下滑动至下料料框内;以及
所述引导座的引导面上设置有引导槽,所述引导槽自所述工件滑落的区域向所述下料料框的方向延伸。
一种检测设备,包括工作台、上料机构、检测机构以及如权利要求1至6任意一项所述的下料机构;其中,
所述工作台具有上料区域和所述下料区域;
所述上料机构设置于所述上料区域;
所述下料机构中的传送结构在所述上料区域和下料区域之间运动;以及
所述检测机构设置于所述传送结构的运动路径上。
可看出,本申请的检测设备通过采用上述方式的下料机构,可以使整个检测设备的成本更低,并且能够使整个检测设备的结构更加简单,体积更小。
进一步地,包括:所述上料机构包括:
上料台,设置于所述上料区域,用于承载待上料的工件;以及
上料机械手,设置于所述工作台上,用于将所述上料台上的工件转移至所述治具上。
进一步地,所述上料机构还包括补料仓和振动盘;其中,所述振动盘设置于工作台上,且所述振动盘的一端位于所述补料仓的出料口处,所述振动盘的另一端延伸至所述上料台,用于将所述补料仓出料的工件输送至所述上料台上。
进一步地,所述上料机构还包括上料检测结构,所述上料检测结构设置于所述上料台所在的区域,用于确定所述上料台中所述工件的位置和姿态。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的下料机构的结构示意图之一;
图2为图1中A处的局部放大示意图;
图3为图1实施例提供的下料机构的结构示意图之二;
图4为本申请实施例提供的检测设备的结构示意图。
附图标记:
100、下料机构;110、传送结构;120、治具;130、下料驱动结构;140、转动轴;150、安装孔;160、安装座;170、吸附孔;180、下料料框;190、引导结构;191、引导座;192、引导槽;
200、工作台;
300、上料机构;310、上料台;320、上料机械手;330、补料仓;340、振动盘;350、上料检测结构;351、安装支架;352、固定座;353、检测相机;
400、检测机构;
500、NG料框。
具体实施方式
为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。
需要说明的是,当元结构被称为“固定于”或“设置于”另一个元结构,它可以直接在另一个元结构上或者间接在该另一个元结构上。当一个元结构被称为是“连接于”另一个元结构,它可以是直接连接到另一个元结构或间接连接至该另一个元结构上。
需要理解的是,术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元结构必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在一些申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
本申请提供一种下料机构100,其一般设置于检测设备或加工设备上,用于将检测完成或者加工完成的工件进行下料。
结合图1和图3,下料机构100包括传送结构110、治具120以及下料驱动结构130。
其中,传送结构110用于传送检测完成或加工完成的工件,并且将其传送至下料区域进行下料。
当然,在一些方式中,传送结构110也可用于传送待检测或待加工的工件。例如,可先将待检测或待加工的工件传送至检测区域进行检测或者传送至加工区域进行加工后,再将该工件传送至下料区域进行下料。
其中,传送结构110可以是转盘。
治具120设置于传送结构110上,并且治具120可相对于传送结构110进行翻转。
具体地,治具120可用于承载工件,当传送结构110沿水平方向移动时,治具120可相对于传送结构110沿竖直方向翻转,以使治具120上的工件滑落。
下料驱动结构130设置于下料区域,当治具120在传送结构110的作用下移动至下料区域时,下料驱动结构130可与治具120抵持,并驱动治具120翻转。
具体地,当传送结构110沿水平方向移动时,下料驱动结构130可以是沿竖直方向移动升降气缸或丝杆气缸等,当传送结构110带动治具120以及治具120上所承载的工件移动至下料区域时,下料驱动结构130沿沿竖直方向升起与治具120抵持,并同时驱动治具120相对于传送结构110在竖直方向上翻转,进而使治具120上的工件滑落,进而实现工件的下料。
可看出,在本申请的下料机构100中,通过在传送结构110上设置可进行翻转的治具120,以及在工件下料的区域设置用于驱动治具120翻转的下料驱动装置,使治具120在传送结构110的作用下移动至下料区域时,下料驱动装置驱动治具120翻转,进而实现工件的下料,该下料方式结构简单,成本更低,占用空间小。
参阅图2,治具120可通过转动轴140设置于传送结构110上,并且治具120能够在转动轴140的作用下绕自身轴线翻转。
具体地,当传送结构110沿水平方向移动时,治具120可沿水平方向设置于治具120上。进一步地,在传送结构110上可设置有用于安装治具120的安装孔150,转动轴140设置于治具120自身的轴线上,治具120通过转动轴140转动设置于安装孔150内,使治具120能够通过转动轴140相对于传送结构110绕自身轴线转动。也就是说,上述结构中,将转动轴140设置于治具120的轴线上,使治具120能够在重力的作用下保持水平状态,进而能够使治具120上所承载的工件保持水平状态,以便于治具120的检测或加工。
此外,为了便于治具120与传送结构110的安装,在安装孔150的四周可凸出设置有安装座160,治具120通过转动轴140设置于安装座160上,治具120可在转动轴140的作用下,在安装孔150内进行翻转,治具120上的工件能够通过安装孔150滑落。
进一步地,在治具120的承载面上还可设置有吸附孔170,该吸附孔170用于在传送结构110传送工件时进行工件进行吸附,以使工件能够保持在治具120上。
可理解,在上述方式中,由于治具120是通过转动轴140转动设置于传送结构110上,所以在传送结构110移动过程中,治具120可能会由于震动的原因发生转动,进而可能会使工件滑落,所以通过在治具120上设置吸附孔170使得工件在传送结构110移动过程中上始终能够保持在治具120上。
结合图1和图3,下料机构100还可包括下料料框180,下料料框180设置于下料区域,且下料料框180位于工件从治具120上滑落时所掉落的区域上,用于承接治具120上所滑落的工件,完成工件的下料。
进一步地,下料机构100还可包括引导结构190,引导结构190设置于工件滑落的区域与下料料框180之间,用于将从治具120上滑落的工件转移至下料料框180内。
可理解,由于治具120设置于传送结构110上,且治具120是绕自身轴线翻转的,所以当工件由于治具120的翻转从治具120上滑落时,工件一般会滑落到传送结构110的下方,例如当传送结构110为转盘时,工件会滑落到转盘的下方,此时若将下料料框180直接设置于工件滑落的区域,在更换下料料框180时易于与转盘发生干涉,影响下料料框180更换的方便性和效率,所以通过设置一个引导结构190,可以使下料料框180设置在远离传送结构110的区域上,使下料料框180的更加方便,效率更高。
参阅图1,引导结构190可包括引导座191,引导座191自工件滑落的区域向下料料框180的方向倾斜,以使掉落在引导座191上的所述工件能够在重力的作用下滑动至下料料框180内。
具体地,当工件从治具120上滑落时,工件掉落在引导座191上,由于引导座191为倾斜结构,所以工件能够在重力的作用下滑落至下料料框180内。
进一步地,在引导座191的引导面上还可设置有引导槽192,引导槽192自工件滑落的区域向下料料框180的方向延伸,该引导槽192能够使工件准确滑落至下料料框180内。
可理解,由于工件是掉落在引导面上的,所以工件掉落的姿态不固定,进而导致工件的滑落方向不固定,因此通过设置引导槽192能够保证工件沿着引导槽192的方向准确滑落至下料料框180内。
参阅图4,本申请还提供一种检测设备,其包括工作台200、上料机构300、检测机构400以及以上所述的下料机构100。其中,工作台200具有上料区域和下料区域,上料机构300设置于上料区域,下料机构100中的传送结构110能够在上料区域和下料区域之间运动,检测机构400设置于传送结构110的运动路径上。
具体地,上料机构300用于将工件上料至传送结构110上所设置的治具120上,传送结构110带动治具120及治具120上的工件移动至检测机构400处进行工件检测,检测完成后再带动治具120及治具120上的工件移动下料区域进行下料。其中,检测机构400可以是激光位移传感器用于检测工件的平面度,检测机构400还可以是CCD相机用于检测工件的尺寸等。
实际使用时,传送结构110可以是转盘,治具120可沿传送结构110的周向依次设置,且治具120可沿传送结构110的径向设置多个,上料机构300设置于传送结构110的周侧,上料机构300将工件上料至治具120上,传送结构110带动治具120及治具120上的工件转动至检测机构400处,检测机构400对工件检测完成后,传送结构110继续带动治具120及治具120上的工件转动至下料区域,此时位于下料区域的下料驱动结构130驱动治具120翻转,进而完成工件的整个检测流程。
可看出,本申请的检测设备通过采用上述方式的下料机构100,可以使整个检测设备的成本更低,并且能够使整个检测设备的结构更加简单,体积更小。
参阅图4,上料机构300可包括上料台310和上料机械手320。其中,上料台310设置于上料区域,用于承载待上料的工件;上料机械手320设置于工作台200上,用于将上料台310上的工件转移至治具120上,实现工件的上料。
具体地,可通过人工或其它机构将待检测的若干工件放置在上料台310上,当设备启动后,上料机械手320可依次将上料台310上的工件转移至治具120上。
在本申请中,上料机械手320的取料部位可采用吸头。当然,也可采用带缓冲的真空吸头,以防止在对工件进行取料时损伤工件。
进一步地,上料机构300还可包括补料仓330和振动盘340。其中,振动盘340设置于工作台200上,且振动盘340的一端位于补料仓330的出料口处,振动盘340的另一端延伸至上料台310,用于将补料仓330出料的工件输送至上料台310上。
具体地,振动盘340可设置于上料台310远离传送结构110的一侧,补料仓330可设置于振动盘340的上方。
实际使用时,通过向振动盘340内倒入工件,使工件在重力的作用下依次滑落至振动盘340内,振动盘340内的工件在振动盘340的振动作用下朝靠近上料台310的方向移动,最后掉落至上料台310上。上述方式中,通过补料仓330与振动盘340配合补料的方式,能够提高每一次补料的数量,避免频繁补料,减少停机频率,提高设备的效率,此外振动盘340的进行传送的方式既能够保证将补料仓330内的工件依次传送至上料台310上,同时振动盘340的结构简单、成本低,占用空间小。
进一步地,上料机构300还可包括上料检测结构350,上料检测结构350设置于上料台310所在的区域,用于确定上料台310中工件的位置和姿态。
具体地,上料检测结构350可设置于上料台310的上方,对掉落至上料台310上的工件进行位置和姿态的检测,以使上料机械手320能够准确地抓取工件。
进一步地,上料检测结构350可包括安装支架351、固定座352以及检测相机353,其中,安装支架351设置于工作台200上,检测相机353通过固定座352活动沿竖直方向活动设置于安装支架351上,且检测相机353位于传送结构110的移动路径上。
具体地,可通过调节固定座352在安装支架351上的位置,以调节检测相机353的高度,以便于检测相机353确定合理的物距,同时能够使该上料检测结构350检测不同的类型的工件。
此外,在本申请的检测设备中,工作台200还可具有NG工位,并且在NG工位上也可设置有下料驱动结构130。
具体地,当检测机构400检测到治具120上的工件为NG产品时,传送结构110通过治具120带动该产品移动至NG工位,此时设置于NG工位的下料驱动结构130升起与治具120接触,并驱动治具120相对于传送结构110进行翻转,进而将NG产品下料至NG工位上。
进一步地,在NG工位上也可设置有NG料框500以及引导结构190,其中,NG料框500和引导结构190的具体结构以及位置关系可与下料工位上所设置的下料料框180和引导结构190的具体结构以及位置关系相似,在此不再赘述。
以上仅为本申请的较佳实施例而已,并不用以限制本申请,凡在一些申请的精神和作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在一些申请的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种下料机构,其特征在于,包括:
传送结构,可移动至下料区域;
治具,设置于所述传送结构上,并可相对于所述传送结构翻转;以及
下料驱动结构,设置于所述下料区域,当所述治具在所述传送结构的作用下移动至下料区域时,所述下料驱动结构可与所述治具抵持,并驱动所述治具翻转。
2.如权利要求1所述的下料机构,其特征在于,所述治具通过转动轴设置于所述传送结构上,并且所述治具能够在所述转动轴的作用下绕自身轴线翻转。
3.如权利要求1或2所述的下料机构,其特征在于,所述治具的承载面上设置有吸附孔。
4.如权利要求1所述的下料机构,其特征在于,所述下料机构还包括下料料框,所述下料料框设置于所述治具翻转时工件滑落的区域。
5.如权利要求4所述的下料机构,其特征在于,所述下料机构还包括引导结构,所述引导结构设置于所述工件滑落的区域与所述下料料框之间,用于将滑落的工件转移至所述下料料框内。
6.如权利要求5所述的下料机构,其特征在于,所述引导结构包括引导座,所述引导座自所述工件滑落的区域向所述下料料框的方向倾斜,以使掉落在所述引导座上的所述工件能够在重力的作用下滑动至下料料框内;以及
所述引导座的引导面上设置有引导槽,所述引导槽自所述工件滑落的区域向所述下料料框的方向延伸。
7.一种检测设备,其特征在于,包括工作台、上料机构、检测机构以及如权利要求1至6任意一项所述的下料机构;其中,
所述工作台具有上料区域和所述下料区域;
所述上料机构设置于所述上料区域;
所述下料机构中的传送结构在所述上料区域和下料区域之间运动;以及
所述检测机构设置于所述传送结构的运动路径上。
8.如权利要求7所述的检测设备,其特征在于,包括:所述上料机构包括:
上料台,设置于所述上料区域,用于承载待上料的工件;以及
上料机械手,设置于所述工作台上,用于将所述上料台上的工件转移至所述治具上。
9.如权利要求8所述的检测设备,其特征在于,所述上料机构还包括补料仓和振动盘;其中,所述振动盘设置于工作台上,且所述振动盘的一端位于所述补料仓的出料口处,所述振动盘的另一端延伸至所述上料台,用于将所述补料仓出料的工件输送至所述上料台上。
10.如权利要求9所述的检测设备,其特征在于,所述上料机构还包括上料检测结构,所述上料检测结构设置于所述上料台所在的区域,用于确定所述上料台中所述工件的位置和姿态。
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