CN217459634U

CN217459634U - 一种水电镀设备

Info

Publication number: CN217459634U
Application number: CN202220837294.3U
Authority: CN
Inventors: 臧世伟
Original assignee: Chongqing Jinmei New Material Technology Co Ltd
Current assignee: Chongqing Jinmei New Material Technology Co Ltd
Priority date: 2022-04-11
Filing date: 2022-04-11
Publication date: 2022-09-20
Anticipated expiration: 2032-04-11

Abstract

本实用新型公开了一种水电镀设备，包括放料机构、收料机构以及位于放料机构和收料机构之间的用于对薄膜基材进行电镀的镀膜机构；所述镀膜机构包括沿薄膜基材的走带方向依次设置的至少两个镀液池，所述镀液池内设有绝缘的主辊，所述主辊用于供薄膜基材绕过；所述主辊的外侧设有导电带，所述导电带用于紧贴于薄膜基材的部分的外侧面并可在对应的主辊的外侧循环走带；所述至少两个镀液池内的主辊外侧的导电带呈错位设置；所述主辊的外围设有阳极板，所述阳极板与对应的主辊之间具有空隙；所述阳极板与电镀电源的正极连接，所述导电带与电镀电源的负极连接。本实用新型可避免浪费薄膜基材，降低了生产成本。

Description

一种水电镀设备

技术领域

本实用新型涉及电镀技术领域，具体的是涉及一种水电镀设备。

背景技术

目前对薄膜基材进行电镀的水电镀设备，通常是通过导电辊实现对薄膜基材的导电。由于经过镀液例如镀铜导电液的薄膜基材会将镀液带到导电辊表面，导致导电辊表面易形成镀铜层，镀铜层刺破或划伤薄膜基材，从而大幅降低了薄膜产品的良品率，严重影响企业整体生产效率。

基于此，市场上出现了一种新型的水电镀设备，通过导电带实现对薄膜基材的导电，取消了导电辊的结构设计，可避免在对薄膜基材镀液时导电辊产生铜沉积而造成对薄膜基材的刺破或划伤。但由于导电带对薄膜基材进行导电时，导电带会覆盖薄膜基材的部分的外侧面，薄膜基材被覆盖的那一部分不会被电镀，因此，电镀完成后，薄膜基材未被电镀的那一部分会被切掉，从而造成薄膜基材的浪费，提高了生产成本。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种水电镀设备，可避免浪费薄膜基材，降低了生产成本。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种水电镀设备，包括用于对薄膜基材进行放卷的放料机构、用于对薄膜基材进行收卷的收料机构以及位于所述放料机构和收料机构之间的用于对薄膜基材进行电镀的镀膜机构；所述镀膜机构包括沿薄膜基材的走带方向依次设置的至少两个镀液池，所述镀液池内设有绝缘的主辊，所述主辊用于供薄膜基材绕过；所述主辊的外侧设有导电带，所述导电带用于紧贴于薄膜基材的部分的外侧面并可在对应的主辊的外侧循环走带；所述至少两个镀液池内的主辊外侧的导电带呈错位设置；所述主辊的外围设有阳极板，所述阳极板与对应的主辊之间具有空隙；所述阳极板与电镀电源的正极连接，所述导电带与电镀电源的负极连接。

作为优选的技术方案，所述导电带从对应的主辊的下方绕过并在对应的主辊的外侧循环走带，或者所述导电带从对应的主辊的上方绕过并在对应的主辊的外侧循环走带。

作为优选的技术方案，所述导电带从对应的主辊的下方绕过并在对应的主辊的外侧循环走带；所述镀液池的下侧设有溢流槽，所述导电带的上部分位于对应的所述镀液池内，导电带的下部分位于对应的所述溢流槽内。

作为优选的技术方案，所述溢流槽内设有刮洗机构，用于刮洗对应的所述导电带上的镀液。

作为优选的技术方案，所述导电带在对应的所述主辊外的走带距离大于对应的主辊的周长的一半。

作为优选的技术方案，所述导电带在对应的所述主辊外的走带距离小于所述薄膜基材在主辊外的走带距离。

作为优选的技术方案，所述镀液池的数量为两个，所述两个镀液池内的主辊的外侧均设有一个导电带。

作为优选的技术方案，所述镀液池的数量为两个，其中，与所述放料机构相靠近的镀液池内的主辊的外侧设有两个导电带，与所述收料机构相靠近的镀液池内的主辊的外侧设有三个导电带。

作为优选的技术方案，所述至少两个镀液池依次相接形成一个整体。

作为优选的技术方案，所述阳极板为弧形阳极板，所述阳极板所对应的圆心角小于所述薄膜基材在所述主辊外的走带距离所对应的圆心角。

本实用新型的有益效果是：本实用新型通过沿薄膜基材的走带方向依次设置的至少两个镀液池，镀液池内设有主辊，主辊的外侧设有导电带，至少两个镀液池内的主辊外侧的导电带呈错位设置，这样当通过前一个镀液池对薄膜基材进行电镀后，薄膜基材的外侧面被前一个导电带所覆盖的那一部分在进入到后一个镀液池后不会被后一个导电带所覆盖，因而通过后一个镀液池可实现对薄膜基材外侧面的被前一个导电带所覆盖的那一部分进行电镀，这样通过至少两个镀液池对薄膜基材进行电镀后，薄膜基材的外侧面会被完全电镀上，可避免浪费薄膜基材，降低了生产成本。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型第一实施例提供的一种水电镀设备的结构示意图；

图2是图1所示水电镀设备的镀膜机构的结构示意图；

图3是图1所示的水电镀设备的靠近放料机构的镀液池内的主辊、该主辊外侧的薄膜基材以及该主辊外侧的导电带的一个方案的侧视示意图；

图4是图1所示水电镀设备的靠近收料机构的镀液池内的主辊、该主辊外侧的薄膜基材以及该主辊外侧的导电带的一个方案的侧视示意图；

图5是图1所示的水电镀设备的靠近放料机构的镀液池内的主辊、该主辊外侧的薄膜基材以及该主辊外侧的导电带的另一个方案的侧视示意图；

图6是图1所示水电镀设备的靠近收料机构的镀液池内的主辊、该主辊外侧的薄膜基材以及该主辊外侧的导电带的另一个方案的侧视示意图；

图7是本实用新型第二实施例提供的一种水电镀设备的结构示意图；

图8是图7所示水电镀设备的镀膜机构的结构示意图。

附图标记为：

10、放料机构；

20、镀膜机构；22、镀液池；23、主辊；24、导电带；242、第一包胶过辊；

25、阳极板；26、溢流槽；27、镀液存储池；28、第二包胶过辊；29、第三包胶过辊；

30、水洗池；32、纯水存储池；

40、抗氧化池；42、抗氧化液存储池；

50、烘箱；

60、收料机构；

100、薄膜基材。

具体实施方式

以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本实用新型创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。

第一实施例

请参照图1，本实用新型第一实施例提供的一种水电镀设备，包括放料机构10、收料机构60以及设置在放料机构10和收料机构60之间的沿薄膜基材100的走带方向依次设置的镀膜机构20、水洗池30、抗氧化池40、烘箱50。放料机构10用于对薄膜基材100进行放卷，放料机构10为现有的机构，由放卷辊、驱动放卷辊转动的驱动装置例如电机等组成。镀膜机构20用于对薄膜基材100进行电镀，以使薄膜基材100的外侧面形成镀层。水洗池30内置纯水，用于对电镀后的薄膜基材100进行水洗。抗氧化池40内置抗氧化液，用于对水洗后的薄膜基材100进行抗氧化处理。烘箱50用于对抗氧化处理后的薄膜基材100进行烘烤、干燥处理。收料机构60用于对薄膜基材100进行收卷，收料机构60为现有的机构，由收卷辊、驱动收卷辊转动的驱动装置例如电机等组成。经放料机构10放卷后的薄膜基材100可依次经过镀膜机构20、水洗池30、抗氧化池40、烘箱50后收卷在收料机构60上。

放料机构10和镀膜机构20之间沿薄膜基材100的走带方向依次设置有多个过辊，例如三个过辊，通过设置的过辊可使薄膜基材100按照一定的路径走带。过辊可为包胶过辊。

镀膜机构20包括沿薄膜基材100的走带方向依次设置的至少两个镀液池22，镀液池22内置镀液例如镀铜导电液，从而通过镀液池22可实现对薄膜基材100进行电镀，以使薄膜基材100的外侧面形成镀铜层。镀膜机构20的下侧设有镀液存储池27，至少两个镀液池22分别设有进液管和溢流管道，进液管通过进液管道与镀液存储池27连通，溢流管道通过回液管与镀液存储池27连通。镀液存储池27中的镀液可经进液管道、进液管流入到对应的镀液池22中，反应后的镀液可经溢流管道、回液管流入到镀液存储池27中。

本实施例中，至少两个镀液池22依次相接形成一个整体，便于流入镀液。

本实施例中，镀液池22的数量为两个。可以理解地，镀液池22的数量也可以是三个、四个、四个以上等，可根据实际情况进行设置镀液池22的数量。

水洗池30的下侧设有纯水存储池32，水洗池30设有进水管和出水管，进水管与纯水存储池32的出水口连通，出水管与纯水存储池32的进水口连通。

抗氧化池40的下侧设有抗氧化液存储池42，抗氧化池40设有进液管和出液管，进液管与抗氧化液存储池42的出液口连通，出液管与抗氧化液存储池42的进液口连通。

烘箱50与收料机构60之间沿薄膜基材100的走带方向依次设置有多个过辊，例如六个过辊，通过设置的过辊可使薄膜基材100按照一定的路径走带。过辊可为包胶过辊。

请参照图2，镀液池22内设有绝缘的主辊23，主辊23用于供薄膜基材100绕过。本实施例中，由于两个镀液池22相接形成为一个整体，从放料机构10放卷出来的薄膜基材100从与放料机构10相靠近的镀液池22进入后，可依次从两个镀液池22的主辊23的的下表面绕过，并从与收料机构60相靠近的镀液池22穿出。

主辊23的外侧设有导电带24例如导电铜带，导电带24用于紧贴于薄膜基材100的部分的外侧面(镀膜过程中，镀膜机构20均是对薄膜基材100的同一侧面进行镀膜，被镀膜的这面称为薄膜基材100的外侧面)，即导电带24用于紧贴于薄膜基材100的位于主辊23表面的那一部分的外侧面，以实现对薄膜基材100的导电并可在对应的主辊23的外侧循环走带。两个镀液池22内的主辊23外侧的导电带24呈错位设置，这样当通过前一个镀液池22(即靠近放料机构10的镀液池22)对薄膜基材100进行电镀后，薄膜基材100的外侧面被前一个导电带24(即靠近放料机构10的导电带24)所覆盖的那一部分在进入到后一个镀液池22(即靠近收料机构60的镀液池22)后不会被后一个导电带24(即靠近收料机构60的导电带24)所覆盖，因而通过后一个镀液池22可实现对薄膜基材100外侧面的被前一个导电带24所覆盖的那一部分进行电镀，这样通过两个镀液池22对薄膜基材100进行电镀后，薄膜基材100的外侧面会被完全电镀上，可避免浪费薄膜基材100，降低了生产成本。主辊23的外围设有弧形的阳极板25，阳极板25与对应的主辊23之间具有空隙。阳极板25与电镀电源的正极连接，导电带24与电镀电源的负极连接，使得阳极板25作为电镀阳极，与导电带24紧贴的薄膜基材100作为电镀的阴极，镀液作为电镀介质，从而形成电镀回路，从而可实现对薄膜基材100的外侧面进行电镀，通过设置导电带24紧贴薄膜基材100以对薄膜基材100导电，可避免形成的镀层刺破或划伤薄膜基材100。

本实施例中，由于薄膜基材100从主辊23的下表面绕过，因此，对应的，导电带24从对应的主辊23的下方绕过并在主辊23的外侧循环走带。

镀液池22的下侧设有溢流槽26，导电带24的上部分位于对应的镀液池22内，导电带24的下部分位于对应的溢流槽26内。溢流槽26内设有刮洗机构，用于刮洗对应的导电带24上的镀液。

镀液池22内和对应的溢流槽26内分别设有若干第一包胶过辊242，若干第一包胶过辊242环绕于对应的主辊23的外围，导电带24依次绕过对应的若干第一包胶过辊242后形成环形。导电带24从对应的镀液池22的底部穿出后进入到对应的溢流槽26。优选地，第一包胶过辊242的数量为七个，镀膜机构20的第一包胶过辊242的数量总共为十四个。可以理解地，第一包胶过辊242的数量还可以是其他，可根据实际情况进行设置。

主辊23的上侧设有两个第二包胶过辊28，设置的两个第二包胶过辊28可使得薄膜基材100在主辊23上走带。两个主辊23之间沿薄膜基材100的走带方向依次设有若干第三包胶过辊29，若干第三包胶过辊29位于两个主辊23的上方，设置的若干第三包胶过辊29可保证薄膜基材100在两个主辊23之间的走带路径。优选地，第三包胶过辊29的数量为两个，第三包胶过辊29的数量还可以是其他，可根据实际情况进行设置。

导电带24在对应的主辊23外的走带距离大于对应的主辊23的周长的一半，保证有效的电镀距离。导电带24在对应的主辊23外的走带距离小于薄膜基材100在主辊23外的走带距离，使得走带于主辊23表面的薄膜基材100受力均匀后带电，保证电镀更加均匀。阳极板25所对应的圆心角小于薄膜基材100在主辊23外的走带距离所对应的圆心角，使得走带均匀的薄膜基材100才会进行电镀，保证电镀效果。优选地，导电带24在对应的主辊23外的走带距离所对应的圆心角与阳极板25所对应的圆心角相等，使得薄膜基材100带电的部分均能与对应的阳极板25进行电镀反应。

阳极板25的圆心与对应的主辊23的圆心重合，使得阳极板25与对应的主辊23之间的空隙是均匀的，保证了薄膜基材100在进行电镀时各个位置的电势相等，进而保证了薄膜基材100电镀的厚度是一致的。

本实施例中，结合图3和图4所示，两个镀液池22内的主辊23的外侧均设有一个导电带24，与放料机构10相靠近的导电带24和与收料机构60相靠近的导电带24之间呈错位设置。两个阳极板25可以分别设置为与薄膜基材100的未被导电带24紧贴的那一部分对应，可以理解地，阳极板25的宽度也可以设置为与薄膜基材100的宽度相等。

在一个替换方案中，结合图5和图6所示，两个镀液池22中，其中，与放料机构10相靠近的镀液池22内的主辊23的外侧设有两个导电带24，与收料机构60相靠近的镀液池22内的主辊23的外侧设有三个导电带24，与放料机构10相靠近的两个导电带24和与收料机构60相靠近的三个导电带24呈错位设置。

第二实施例

请参照图7和图8，本实施例与第一实施例不同的是，从放料机构10放卷出来的薄膜基材100从与放料机构10相靠近的镀液池22进入后，可依次从两个镀液池22的主辊23的的上表面绕过，并从与收料机构60相靠近的镀液池22穿出。镀液池22的下侧没有设置溢流槽。导电带24从对应的主辊23的上方绕过并在对应的主辊23的外侧循环走带，主辊23的上侧在对应导电带24的位置设有刮洗机构，用于刮洗对应的导电带24上的镀液。

镀液池22内设有若干第一包胶过辊242，若干第一包胶过辊242环绕于对应的主辊23的外围，导电带24依次绕过对应的若干第一包胶过辊242后形成环形。优选地，第一包胶过辊242的数量为六个，两个镀液池22的第一包胶过辊242的数量总共为十二个。可以理解地，第一包胶过辊242的数量还可以是其他，可根据实际情况进行设置。

主辊23的下侧设有两个第二包胶过辊28，设置的两个第二包胶过辊28可使得薄膜基材100在主辊23上走带。两个主辊23之间沿薄膜基材100的走带方向依次设有若干第三包胶过辊29，若干第三包胶过辊29位于两个主辊23的下方，设置的若干第三包胶过辊29可保证薄膜基材100在两个主辊23之间的走带路径。优选地，第三包胶过辊29的数量为两个，第三包胶过辊29的数量还可以是其他，可根据实际情况进行设置。

以上是对本实用新型的较佳实施进行了具体说明，但本实用新型创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。

Claims

1.一种水电镀设备，其特征在于，包括用于对薄膜基材进行放卷的放料机构、用于对薄膜基材进行收卷的收料机构以及位于所述放料机构和收料机构之间的用于对薄膜基材进行电镀的镀膜机构；

所述镀膜机构包括沿薄膜基材的走带方向依次设置的至少两个镀液池，所述镀液池内设有绝缘的主辊，所述主辊用于供薄膜基材绕过；

所述主辊的外侧设有导电带，所述导电带用于紧贴于薄膜基材的部分的外侧面并可在对应的主辊的外侧循环走带；所述至少两个镀液池内的主辊外侧的导电带呈错位设置；

所述主辊的外围设有阳极板，所述阳极板与对应的主辊之间具有空隙；所述阳极板与电镀电源的正极连接，所述导电带与电镀电源的负极连接。

2.根据权利要求1所述的水电镀设备，其特征在于，所述导电带从对应的主辊的下方绕过并在对应的主辊的外侧循环走带，或者所述导电带从对应的主辊的上方绕过并在对应的主辊的外侧循环走带。

3.根据权利要求2所述的水电镀设备，其特征在于，所述镀液池的下侧设有溢流槽，所述导电带的上部分位于对应的所述镀液池内，导电带的下部分位于对应的所述溢流槽内。

4.根据权利要求3所述的水电镀设备，其特征在于，所述溢流槽内设有刮洗机构，用于刮洗对应的所述导电带上的镀液。

5.根据权利要求1所述的水电镀设备，其特征在于，所述导电带在对应的所述主辊外的走带距离大于对应的主辊的周长的一半。

6.根据权利要求1所述的水电镀设备，其特征在于，所述导电带在对应的所述主辊外的走带距离小于所述薄膜基材在主辊外的走带距离。

7.根据权利要求1所述的水电镀设备，其特征在于，所述镀液池的数量为两个，所述两个镀液池内的主辊的外侧均设有一个导电带。

8.根据权利要求1所述的水电镀设备，其特征在于，所述镀液池的数量为两个，其中，与所述放料机构相靠近的镀液池内的主辊的外侧设有两个导电带，与所述收料机构相靠近的镀液池内的主辊的外侧设有三个导电带。

9.根据权利要求1所述的水电镀设备，其特征在于，所述至少两个镀液池依次相接形成一个整体。

10.根据权利要求1所述的水电镀设备，其特征在于，所述阳极板为弧形阳极板，所述阳极板所对应的圆心角小于所述薄膜基材在所述主辊外的走带距离所对应的圆心角。