CN217077783U - 一种用于mocvd设备的石墨托盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于MOCVD设备的石墨托盘，包括托盘主体，所述托盘主体底端固定连接有支撑柱，所述支撑柱底端开设有配合槽，所述配合槽内部滑动连接有连接柱，所述连接柱底端固定连接有旋转轴；所述支撑柱热膨胀系数小于连接柱热膨胀系数。本实用新型通过设置配合槽以及连接柱能够实现在沉积的过程中，由于升温导致的连接柱与配合槽之间将会紧密的贴合，进而实现旋转轴与托盘主体之间能够稳定的传动；通过设置第一引导槽以及第二引导槽能够实现配合槽与连接柱之间的对位进行引导的作用，进而确保二者之间能够快速且准确的进行对位。
Description
技术领域
本实用新型属于石墨托盘技术领域，尤其涉及一种用于MOCVD设备的石墨托盘。
背景技术
在MOCVD设备的反应腔中，用来承载外延片的石墨托盘需要进行旋转来得到较好的反应均匀性，现有设备中托盘和旋转轴主要有两种连接方式：一种是使托盘和旋转轴固定连接，旋转轴直接驱动托盘旋转；然而，如果托盘和旋转轴固定在一起，则不能采用机械手进行托盘传输，所以该技术方案不适用于大规模生产。另外一种是使托盘和旋转轴浮动连接，在托盘上加工圆锥形凸台而在旋转轴上加工圆锥形凹坑，使两者配合并利用圆锥面的摩擦力来驱动托盘旋转。
但石墨盘和旋转轴没有固定在一起，因而在实际工作中，石墨盘会在旋转中出现和旋转轴不同步的现象，特别是随着石墨盘尺寸的增大，不同步现象更加明显，则在旋转过程中石墨托盘的平面度也会受到影响。
为此，我们提出来一种用于MOCVD设备的石墨托盘解决上述问题。
实用新型内容
针对上述问题，本实用新型提供一种用于MOCVD设备的石墨托盘，其通过设置配合槽以及连接柱能够实现在沉积的过程中，由于升温导致的连接柱与配合槽之间将会紧密的贴合，进而实现旋转轴与托盘主体之间能够稳定的传动，以解决上述背景技术中提出的问题。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种用于MOCVD设备的石墨托盘，包括托盘主体，所述托盘主体底端固定连接有支撑柱，所述支撑柱底端开设有配合槽，所述配合槽内部滑动连接有连接柱，所述连接柱底端固定连接有旋转轴；
所述支撑柱热膨胀系数小于连接柱热膨胀系数。
进一步的，所述配合槽为圆柱形槽状结构，所述连接柱为圆柱形柱体结构。
进一步的，所述支撑柱内设有第一引导槽，所述第一引导槽为上窄下宽的圆台形槽状结构，且第一引导槽顶端与配合槽同轴连通设置。
进一步的，所述第一引导槽侧壁开设有第二引导槽，所述旋转轴顶端设有与第二引导槽相配合的引导块。
进一步的，所述第二引导槽内部设有挡片，所述引导块上固定连接有与挡片相配合的阻尼槽。
进一步的，所述托盘主体顶端设有沉积孔，其托盘主体各处厚度相等设置。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：
1、通过设置配合槽以及连接柱能够实现在沉积的过程中，由于升温导致的连接柱与配合槽之间将会紧密的贴合，进而实现旋转轴与托盘主体之间能够稳定的传动；
2、通过设置第一引导槽以及第二引导槽能够实现配合槽与连接柱之间的对位进行引导的作用，进而确保二者之间能够快速且准确的进行对位。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种用于MOCVD设备的石墨托盘的整体结构示意图；
图2为本实用新型提出的一种用于MOCVD设备的石墨托盘中托盘主体结构示意图；
图3为本实用新型提出的一种用于MOCVD设备的石墨托盘中旋转轴的结构示意图。
图中：1、托盘主体；2、支撑柱；3、配合槽；4、连接柱；5、旋转轴；6、第一引导槽；7、第二引导槽；8、引导块；9、阻尼槽；10、挡片。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语"中心"、"纵向"、"横向"、"长度"、"宽度"、"厚度"、"上"、"下"、"前"、"后"、"左"、"右"、"坚直"、"水平"、"顶"、"底"、"内"、"外"、"顺时针"、"逆时针"等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
参照图1-3，一种用于MOCVD设备的石墨托盘，包括托盘主体1，托盘主体1底端固定连接有支撑柱2，支撑柱2底端开设有配合槽3，配合槽3内部滑动连接有连接柱4，连接柱4底端固定连接有旋转轴5，支撑柱2热膨胀系数小于连接柱4热膨胀系数。
温度较低时，连接柱4可轻易的在配合槽3内部滑动，而若是温度升高时，由于支撑柱2热膨胀系数小于连接柱4热膨胀系数，进而实现支撑柱2直径变化率大于配合槽3直径变化率，进而实现温度升高时，连接柱4与配合槽3之间的配合将会转变为过盈配合，进而实现旋转轴5转动时将会稳定的带动支撑柱2转动，进而实现稳定的带动石墨托盘转动。
其中一种具体结构为：配合槽3为圆柱形槽状结构，连接柱4为圆柱形柱体结构。
为了方便连接柱4与配合槽3之间的对位，可在支撑柱2内设有第一引导槽6，第一引导槽6为上窄下宽的圆台形槽状结构，且第一引导槽6顶端与配合槽3同轴连通设置。当连接柱4进入到第一引导槽6内部之后，将会在第一引导槽6的作用下准确的进入到配合槽3内部。
进一步可在第一引导槽6侧壁开设有第二引导槽7，旋转轴5顶端设有与第二引导槽7相配合的引导块8，通过引导块8与第二引导槽7能够实现连接柱4与配合槽3之间尚未形成过盈配合时，通过引导块8与第二引导槽7的作用克实现旋转轴5与支撑柱2之间的传动。
第二引导槽7内部设有挡片10，引导块8上固定连接有与挡片10相配合的阻尼槽9，通过挡片10与阻尼槽9之间的配合能够实现进一步的提高旋转轴5与支撑柱2之间的传动效果。
托盘主体1顶端设有沉积孔，其托盘主体1各处厚度相等设置，进而实现托盘主体1各处的电阻较为平均，实现托盘主体1切割磁感线之后，各处的热量分布较为均匀。
现对本实用新型的操作原理做如下描述：
使用时，通过机械手推动托盘主体1移动，并且实现第一引导槽6与连接柱4相对，然后缓慢的将托盘主体1放下，过程中连接柱4将会在第一引导槽6的作用下逐渐进入到配合槽3内部，而挡片10将会与阻尼槽9相配合，引导块8将会与第二引导槽7相配合，然后通过旋转轴5可实现带动支撑柱2转动，进而实现带动托盘主体1转动，且在沉积的过程中，温度较高，由于支撑柱2热膨胀系数小于连接柱4热膨胀系数，进而实现支撑柱2直径变化率大于配合槽3直径变化率，进而实现温度升高时，连接柱4与配合槽3之间的配合将会转变为过盈配合，进而实现旋转轴5转动时将会稳定的带动支撑柱2转动，进而实现稳定的带动石墨托盘转动。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种用于MOCVD设备的石墨托盘，包括托盘主体(1)，其特征在于，所述托盘主体(1)底端固定连接有支撑柱(2)，所述支撑柱(2)底端开设有配合槽(3)，所述配合槽(3)内部滑动连接有连接柱(4)，所述连接柱(4)底端固定连接有旋转轴(5)；
所述支撑柱(2)热膨胀系数小于连接柱(4)热膨胀系数。
2.根据权利要求1所述的用于MOCVD设备的石墨托盘，其特征在于，所述配合槽(3)为圆柱形槽状结构，所述连接柱(4)为圆柱形柱体结构。
3.根据权利要求1所述的用于MOCVD设备的石墨托盘，其特征在于，所述支撑柱(2)内设有第一引导槽(6)，所述第一引导槽(6)为上窄下宽的圆台形槽状结构，且第一引导槽(6)顶端与配合槽(3)同轴连通设置。
4.根据权利要求3所述的用于MOCVD设备的石墨托盘，其特征在于，所述第一引导槽(6)侧壁开设有第二引导槽(7)，所述旋转轴(5)顶端设有与第二引导槽(7)相配合的引导块(8)。
5.根据权利要求4所述的用于MOCVD设备的石墨托盘，其特征在于，所述第二引导槽(7)内部设有挡片(10)，所述引导块(8)上固定连接有与挡片(10)相配合的阻尼槽(9)。
Priority Applications (1)
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| CN202123223923.8U CN217077783U (zh) | 2021-12-21 | 2021-12-21 | 一种用于mocvd设备的石墨托盘 |
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2021
- 2021-12-21 CN CN202123223923.8U patent/CN217077783U/zh active Active
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