CN217052393U - 石墨舟片及石墨舟 - Google Patents
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Abstract
一种石墨舟片，设有硅片覆盖区，所述硅片覆盖区的正反面设有凹槽及位于所述凹槽所在区域的通孔。由此，可使硅片与石墨舟片贴合紧密，同时产生更均匀的电场，可有效解决背面绕镀问题，解决了当前管式设备针对N型硅片镀膜，如氧化铝以以及隧穿氧化层钝化接触TOPCON电池背面镀氧化硅的质量问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种用于双面镀膜的石墨舟片及具有该石墨舟片的石墨舟，属于太阳能电池镀膜技术领域。
背景技术
随着太阳能发电的普及，相关的光伏产品需求量越来越大，因此对光伏设备的要求越来越高，不仅要增加产能，而且需要更好的控制质量，管式PECVD(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposition，等离子体增强化学气相沉积法)设备是太阳能电池片生产中重要的设备，主要是完成硅片表面的镀膜。
在新型N型硅片上镀膜需要硅片上产生均匀的电场，传统的镂空石墨舟片因镂空面积较大，电流存在差异导致镂空位置镀膜偏薄；使用传统的实心石墨舟，重量增加60％以上石墨舟载具存在载重上限，对载具的考验较大，且实心石墨舟片在加热状态下整体的变形比较严重，对电池片整体镀膜影响较大且存在背面绕镀问题。
因此，亟需一种新的石墨舟片结构以解决上述技术问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种能够有效解决管式PECVD在N型硅片上镀膜均匀性问题以及在TOPCON电池背面镀氧化硅的均匀性问题且兼顾解决硅片背面绕镀问题的石墨舟片及具有该石墨舟片的石墨舟。
为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种石墨舟片，设有硅片覆盖区，所述硅片覆盖区的正反面设有凹槽及位于所述凹槽所在区域的通孔。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述凹槽的深度为0.3-1.0mm。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述凹槽为方形、圆形或多边形。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述通孔为方孔、圆孔或多边形孔。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述多个所述通孔呈矩阵排列。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述通孔的形状尺寸≤16mm*16mm。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述通孔的最小距离≥10mm。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述通孔为方孔，尺寸≤50*50mm。
本实用新型还采用如下技术方案：一种石墨舟，其包括内片和外片，所述内片采用所述石墨舟片。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述石墨舟片的边长≤230mm。
相较于现有技术，本实用新型石墨舟片及具有该石墨舟片的石墨舟的硅片覆盖区的正反面设有凹槽及位于所述凹槽所在区域的通孔，由此设计，解决了石墨片针对N型硅片的导电均匀性问题，亦解决了硅片背面绕镀的问题，解决了当前管式设备针对N型硅片镀膜，如氧化铝以及TOPCON背面镀氧化硅的质量问题。
附图说明
图1是本实用新型实施例1的石墨舟片的平面示意图。
图2是本实用新型实施例2的石墨舟片的平面示意图。
图3是本实用新型石墨舟的平面示意图。
具体实施方式
请参阅图1所示，本实用新型实施例1公开一种石墨舟片10，设置有硅片覆盖区，待镀膜的硅片固定在石墨舟片10的硅片覆盖区，在对硅片进行镀膜时，可同时对硅片的双面进行镀膜，得到双模镀膜的硅片。
石墨舟片10硅片覆盖区的正反面设有方形凹槽11，凹槽11也可以设置为其他形状，比如圆形、多边形等，槽深0.3-1.0mm，在该凹槽11的区域开设有任意多个(包括1个)通孔12，通孔12呈矩阵排列，各通孔12为方孔、圆孔、多边形孔或其他不规则图形，通孔12的形状尺寸≤16mm*16mm，通孔12与通孔12之间最小距离≥10mm，如此也有效解决了电场均匀性问题以及硅片背面绕镀的问题，解决了当前管式设备针对N型硅片镀膜，如氧化铝及隧穿氧化层钝化接触TOPCON(Tunnel Oxide Passivated Contact)电池背面镀氧化硅的质量问题。
请参阅图2所示，本实用新型实施例2公开一种石墨舟片20，该石墨舟片20的正反面分别开设凹槽21，槽深0.3-1.0mm，在开槽区域开设有至少一个贯穿通孔22，通孔22为方孔，尺寸≤50*50mm，如此设计，也有效解决了电场均匀性问题以及背面绕镀的问题，解决了当前管式设备针对N型硅片镀膜，如氧化铝以及隧穿氧化层钝化接触TOPCON电池背面镀氧化硅的质量问题。
请参阅图3所示，本实用新型还公开一种石墨舟30，该石墨舟30包括内片33和外片34，内片33采用上述实施例1-2中的任意一种石墨舟片10、20，均可稳定的达到量产的需求，并且石墨舟片10、20的边长≤230mm。
以上实施例仅用于说明本实用新型而并非限制本实用新型所描述的技术方案，对本说明书的理解应该以所属技术领域的技术人员为基础，例如对“前”、“后”、“左”、“右”、“上”、“下”等方向性的描述，尽管本说明书参照上述的实施例对本实用新型已进行了详细的说明，但是，本领域的普通技术人员应当理解，所属技术领域的技术人员仍然可以对本实用新型进行修改或者等同替换，而一切不脱离本实用新型的精神和范围的技术方案及其改进，均应涵盖在本实用新型的权利要求范围内。
Claims (9)
1.一种石墨舟片，设有硅片覆盖区，其特征在于：所述硅片覆盖区的正反面设有凹槽及位于所述凹槽所在区域的方形通孔。
2.根据权利要求1所述的石墨舟片，其特征在于：所述凹槽的深度为0.3-1.0mm。
3.根据权利要求1所述的石墨舟片，其特征在于：所述凹槽为方形、圆形或多边形。
4.根据权利要求1所述的石墨舟片，其特征在于：多个所述通孔呈矩阵排列。
5.根据权利要求1所述的石墨舟片，其特征在于：所述通孔的形状尺寸≤16mm*16mm。
6.根据权利要求1所述的石墨舟片，其特征在于：所述通孔的最小距离≥10mm。
7.根据权利要求1所述的石墨舟片，其特征在于：所述通孔尺寸≤50*50mm。
8.一种石墨舟，其特征在于：包括内片和外片，所述内片采用权利要求1-7中任一项所述的石墨舟片。
9.根据权利要求8所述的石墨舟，其特征在于：所述石墨舟片的边长≤230mm。
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| CN202120650888.9U CN217052393U (zh) | 2021-03-30 | 2021-03-30 | 石墨舟片及石墨舟 |
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Country Status (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115125522A (zh) * | 2022-07-29 | 2022-09-30 | 龙鳞(深圳)新材料科技有限公司 | 一种镀膜系统 |
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2021
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