CN216972671U - 镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种镀膜设备，包括机架、金属辊及镀膜辊。镀膜辊包括辊体、金属包覆层及绝缘包覆层，金属包覆层包覆于辊体的外周面，绝缘包覆层包覆于金属包覆层的外周面。用于镀膜时，金属包覆层与电源的正极以及负极中任一个电连接，金属辊则与电源的正极以及负极中另一个电连接。而且，金属包覆层与金属辊的表面之间设有绝缘包覆层，两者并不直接接触，故可形成加压电路结构，从而使得在金属包覆层的外周面上产生静电吸附力。如此，当待镀膜的基材绕经镀膜辊时，将在静电吸附力的作用下与镀膜辊的外周面较好的贴合。因此，上述镀膜设备能够有效地提升镀膜的均匀性。

Description

镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，特别涉及一种镀膜设备。

背景技术

目前，通常采用真空镀膜的方式在基材的表面镀薄膜。用于真空镀膜的镀膜设备一般包括镀膜辊，镀膜辊为冷却辊，待镀膜的基材能够绕经镀膜辊。薄膜材料先在真空腔体内被加热成蒸汽，遇到镀膜辊后便可液化并附着在绕经镀膜辊的基材上，从而在基材的表面形成均匀的膜层。

由于基材具有张力，在绕经镀膜辊时可能局部并未与镀膜辊的表面贴合或贴合不紧密。如此，将导致薄膜材料无法均匀附着于基材的表面，从而导致镀膜的均匀性较差。

实用新型内容

基于此，有必要针对上述问题，提供一种镀膜均匀性较好的镀膜设备。

一种镀膜设备，包括：

机架；

金属辊，安装于所述机架；

镀膜辊，包括辊体、金属包覆层及绝缘包覆层，所述辊体的两端设置有转轴，所述镀膜辊通过所述转轴可转动地安装于所述机架，所述金属包覆层包覆于所述辊体的外周面，所述绝缘包覆层包覆于所述金属包覆层的外周面；

其中，所述金属包覆层能够与电源的正极以及负极中任一个电连接，所述金属辊能够与电源的正极以及负极中另一个电连接。

在其中一个实施例中，所述绝缘包覆层为陶瓷层。

在其中一个实施例中，还包括导电环，所述导电环的滑环套设于所述转轴并与所述金属包覆层电连接，所述导电环的定子能够与电源的正极或负极电连接。

在其中一个实施例中，所述镀膜辊的内部形成有供液体流动的螺旋流道、进液通道及出液通道，所述进液通道与所述螺旋流道的入口连通，所述出液通道与所述螺旋流道的出口连通。

在其中一个实施例中，所述螺旋流道包括并行的第一通道及第二通道，所述第一通道及所述第二通道均呈螺旋状，所述第一通道的入口与所述第二通道的出口位于同一端，所述第一通道的出口与所述第二通道的入口于同一端，且所述第一通道的入口与所述进液通道连通，所述第一通道的出口与所述第二通道的入口连通，所述第二通道的出口与所述出液通道连通。

在其中一个实施例中，所述第一通道及所述第二通道为多个，且多个所述第一通道及多个所述第二通道交替设置。

在其中一个实施例中，所述螺旋流道形成于所述金属包覆层与所述辊体之间。

在其中一个实施例中，所述进液通道及所述出液通道形成于同一个所述转轴上，所述进液通道沿所述转轴延伸并与所述转轴同轴设置，所述出液通道绕所述进液通道的周向设置并与所述进液通道同轴设置。

在其中一个实施例中，还包括旋转接头，所述旋转接头的旋转端固定于所述机架，所述旋转接头的固定端固定于所述转轴并与所述进液通道及所述出液通道连通。

在其中一个实施例中，还包括驱动组件，所述驱动组件包括电机、主动轮、从动轮及传动带，所述电机固定于所述机架，所述主动轮固定于所述电机的电机轴上，所述从动轮固定于所述转轴，且所述从动轮与所述主动轮通过所述传动带连接。

上述镀膜设备，用于镀膜时，金属包覆层与电源的正极以及负极中任一个电连接，金属辊则与电源的正极以及负极中另一个电连接。而且，金属包覆层与金属辊的表面之间设有绝缘包覆层，两者并不直接接触，故可形成加压电路结构，从而使得在金属包覆层的外周面上产生静电吸附力。如此，当待镀膜的基材绕经镀膜辊时，将在静电吸附力的作用下与镀膜辊的外周面较好的贴合。因此，上述镀膜设备能够有效地提升镀膜的均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型较佳实施例中镀膜设备的部分结构的示意图；

图2为图1所示镀膜设备中的镀膜辊沿轴向的剖视图；

图3为图2所示镀膜辊中的辊体的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

请参阅图1，本实用新型较佳实施例中的镀膜设备100包括机架110、金属辊120及镀膜辊130。

机架110起支撑作用，金属辊120及镀膜辊130均安装于机架110。镀膜设备100具有真空腔体，镀膜材料能够在该真空腔体内被加热变成蒸汽。金属辊120与镀膜辊130之间一般存在间隙，待镀膜的基材能够绕经镀膜辊130，而汽化的镀膜材料在遇到镀膜辊130后便可液化并附着于基材的表面。镀膜辊130可转动地安装于机架110，随着镀膜辊130旋转，基材将不断地经过镀膜辊130的表面，从而实现对基材的连续镀膜。

在本实施例中，镀膜设备100还包括驱动组件160，驱动组件160包括电机161、主动轮162、从动轮163及传动带(图未示)。电机161固定于机架110，主动轮162固定于电机161的电机轴上，从动轮163固定于镀膜辊130，且从动轮163与主动轮162通过传动带连接。电机161启动，便可通过主动轮162、从动轮163及传动带带动镀膜辊130旋转。

请一并参阅图2及图3，镀膜辊130包括辊体131、金属包覆层132及绝缘包覆层133。

辊体131一般呈圆柱形，辊体131的两端设置有转轴1311，镀膜辊130通过转轴1311可转动地安装于机架110。具体的，转轴1311可通过轴承座安装于机架110，且从动轮163套设于转轴1311上。金属包覆层132包覆于辊体131的外周面，绝缘包覆层133包覆于金属包覆层132的外周面。因此，绝缘包覆层133位于镀膜辊130的最外侧，金属包覆层132夹持于辊体131与绝缘包覆层133之间。金属包覆层132可以由铜、铝等卷绕成的筒状结构，绝缘包覆层133也呈筒状并套于金属包覆层132的外侧。

具体在本实施例中，绝缘包覆层133为陶瓷层。基材绕经镀膜辊130时，直接与绝缘包覆层133接触。由于陶瓷层具有表面光滑且硬度高等优点，故能够减小与基材之间的摩擦力，从而避免对基材的表面造成损伤。

其中，金属包覆层132能够与电源的正极以及负极中任一个电连接，金属辊120能够与电源的正极以及负极中另一个电连接。在进行镀膜操作时，先接通电源使金属包覆层132及金属辊120通电。由于金属包覆层132与金属辊120的表面之间设有绝缘包覆层133，两者并不直接接触，故电荷将在金属包覆层132及金属辊120的表面聚集，从而产生静电。

如此，可在金属包覆层132的外周面上产生静电吸附力。当基材绕经镀膜辊130时，将在静电吸附力的作用下与镀膜辊130的外周面较好的贴合，防止局部贴合不紧密的情况发生，从而改善镀膜的均匀性。

为了提升安全性能，镀膜辊130或金属辊120在电源接通时还能够接地。此外，镀膜辊130及金属辊120也可通过绝缘轴承座安装于机架110，以避免镀膜设备100的外部带电。

在本实施例中，镀膜设备100还包括导电环140，导电环140的滑环套设于转轴1311并与金属包覆层132电连接，导电环140的定子能够与电源的正极或负极电连接。

导电环140能够将金属包覆层132与电源实现电连接，由于导电环的滑环能够相对于定子旋转。因此，在镀膜辊130旋转的同时，导电环140的定子能够保持固定，从而方便其与电源进行电连接。显然，在其他实施例中，金属包覆层132也可通过电刷与电源实现电连接。

同样的，金属辊120也可采用导电环140或电刷与电源实现电连接。

在本实施例中，镀膜辊130的内部形成有供液体流动的螺旋流道101、进液通道102及出液通道103，进液通道102与螺旋流道101的入口连通，出液通道103与螺旋流道101的出口连通。

螺旋流道101可以形成于辊体131内部，也可形成于金属包覆层132与辊体131之间，或者形成于金属包覆层132与绝缘包覆层133之间。具体在本实施例中，螺旋流道101形成于金属包覆层132与辊体131之间。

如此，可方便螺旋流道101的成型。如图3所示，辊体131的表面与金属包覆层132之间形成有夹层，辊体131的表面设置有若干螺旋状的隔板1312，螺旋状的隔板1312能够在上述夹层内隔离出螺旋流道101。

在进行镀膜操作时，冷却装置(图未示)内的冷却液可经进液通道102进入螺旋流道101并沿螺旋流道101流动，最终由出液通道103流回冷却装置形成冷却液的循环流动。冷却液沿螺旋流道101流动的过程中，能够均匀带走镀膜辊130表面的热量，从而使得镀膜辊130表面的温度降低且更均匀。如此，则可进一步改善镀膜的均匀性。

当然，在进行其他操作，如对镀膜辊120表面进行除霜时，也可将冷却液替换为加热液，加热液沿螺旋流道101流动的过程中能够均匀加热镀膜辊130表面，以使镀膜辊130表面的温度升高。

为了方便进液通道102及出液通道103与冷却装置连通，具体在本实施例中，镀膜设备还包括旋转接头150，旋转接头150的旋转端固定于机架110，旋转接头150的固定端固定于转轴1311并与进液通道102及出液通道103连通。旋转接头150的旋转端可相较于机架110保持固定，并与冷却装置连通。

请再次参阅图2，在本实施例中，进液通道102及出液通道103形成于同一个转轴1311上，进液通道102沿转轴1311延伸并与转轴1311同轴设置，出液通道103绕进液通道102的周向设置并与进液通道102同轴设置。

出液通道103及进液通道102的延伸方向均与转轴1311的延伸方向一致，且出液通道103的横截面呈环形。由于出液通道103与进液通道102位于同一转轴1311上且相套设，故方便旋转接头150与出液通道103及进液通道102进行连通。

请再次参阅图3，在本实施例中，螺旋流道101包括并行的第一通道1011及第二通道1012，第一通道1011及第二通道1012均呈螺旋状，第一通道1011的入口与第二通道1012的出口位于同一端，第一通道1011的出口与第二通道1012的入口于同一端，且第一通道1011的入口与进液通道102连通，第一通道1011的出口与第二通道1012的入口连通，第二通道1012的出口与出液通道103连通。

第一通道1011及第二通道1012的形状一般完全相同，仅出口及入口的位置相反。譬如，第一通道1011的进口及出口分别位于图3所示的右端及左端，而第二通道1012的进口及出口分别位于图3所示的左端及右端。如此设置，冷却液经进液通道102进入第一通道1011后，将从右向左流动，并在最左端进入第二通道1022；接着，冷却液在第二通道1022内从左到右流动，并最终在最右端由出液通道103流出。可见，如此设置可使得冷却液在镀膜辊130内的流动路径增长，故冷却效率更高。

进一步的，在本实施例中，第一通道1011及第二通道1012为多个，且多个第一通道1011及多个第二通道1012交替设置。譬如，本实施例中的第一通道1011及第二通道1012均为两个，且两个第一通道1011之间间隔一个第二通道1012。

进液通道102内的冷却液可同时进入多个第一通道1011，并在流动至最左端进入多个第二通道1012内，故冷却效率将进一步提高。而且，由于第一通道1011及第二通道1012分布更密集，故还能够使镀膜辊130表面的温度更均匀。

上述镀膜设备100，用于镀膜时，金属包覆层132与电源的正极以及负极中任一个电连接，金属辊120则与电源的正极以及负极中另一个电连接。而且，金属包覆层132与金属辊120的表面之间设有绝缘包覆层133，两者并不直接接触，故可形成加压电路结构，从而使得在金属包覆层132的外周面上产生静电吸附力。如此，当待镀膜的基材绕经镀膜辊130时，将在静电吸附力的作用下与镀膜辊130的外周面较好的贴合。因此，上述镀膜设备100能够有效地提升镀膜的均匀性。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

机架；

金属辊，安装于所述机架；

镀膜辊，包括辊体、金属包覆层及绝缘包覆层，所述辊体的两端设置有转轴，所述镀膜辊通过所述转轴可转动地安装于所述机架，所述金属包覆层包覆于所述辊体的外周面，所述绝缘包覆层包覆于所述金属包覆层的外周面；

其中，所述金属包覆层能够与电源的正极以及负极中任一个电连接，所述金属辊能够与电源的正极以及负极中另一个电连接。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述绝缘包覆层为陶瓷层。

3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，还包括导电环，所述导电环的滑环套设于所述转轴并与所述金属包覆层电连接，所述导电环的定子能够与电源的正极或负极电连接。

4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜辊的内部形成有供液体流动的螺旋流道、进液通道及出液通道，所述进液通道与所述螺旋流道的入口连通，所述出液通道与所述螺旋流道的出口连通。

5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述螺旋流道包括并行的第一通道及第二通道，所述第一通道及所述第二通道均呈螺旋状，所述第一通道的入口与所述第二通道的出口位于同一端，所述第一通道的出口与所述第二通道的入口于同一端，且所述第一通道的入口与所述进液通道连通，所述第一通道的出口与所述第二通道的入口连通，所述第二通道的出口与所述出液通道连通。

6.根据权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一通道及所述第二通道为多个，且多个所述第一通道及多个所述第二通道交替设置。

7.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述螺旋流道形成于所述金属包覆层与所述辊体之间。

8.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述进液通道及所述出液通道形成于同一个所述转轴上，所述进液通道沿所述转轴延伸并与所述转轴同轴设置，所述出液通道绕所述进液通道的周向设置并与所述进液通道同轴设置。

9.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，还包括旋转接头，所述旋转接头的旋转端固定于所述机架，所述旋转接头的固定端固定于所述转轴并与所述进液通道及所述出液通道连通。

10.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，还包括驱动组件，所述驱动组件包括电机、主动轮、从动轮及传动带，所述电机固定于所述机架，所述主动轮固定于所述电机的电机轴上，所述从动轮固定于所述转轴，且所述从动轮与所述主动轮通过所述传动带连接。

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