CN216972662U - 一种用于磁控溅射区域的降温装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于磁控溅射区域的降温装置，包括外壳与内壳，内壳的内部设有磁控溅射镀膜腔，外壳与内壳之间设有降温腔，降温腔的内部且位于内壳的外侧呈螺旋状缠绕有冷却管，冷却管的内部设有冷却水，冷却管的两端延伸至外部并进行相连，冷却管上固定安装有水泵，外壳的一侧固定连接有支架，所述支架上固定安装有正对U型端扇风的第一风扇，本实用新型通过降温腔及冷却管的设置，可通过水冷来降低内壳(真空腔体)周边温度，且通过第一风扇将冷却水中的热量排出，保证了工件基板表面的正常工艺温度。
Description
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，具体为一种用于磁控溅射区域的降温装置。
背景技术
磁控溅射镀膜是一种常用的镀膜技术，在靶材的内部设置有磁铁阵列，形成磁场，高电压施加到靶材上，从而产生等离子体，并沿着磁场集中，等离子体由原子、带正电荷的离子和自由电子组成，电子撞击原子，从而不断产生带正电荷的离子、溅射靶材是带负电荷的，因此离子被吸引飞向靶材表面，离子撞击靶材，从把靶材表面弹射出原子(靶材上的原子)，这些弹射出的原子一层层的溅射到对面的工件基板上，实现溅射的目的，由于工件基板到靶材的距离较小，所以工件基板表面温度会比较高，导致成膜受到影响，因此我们提出了一种用于磁控溅射区域的降温装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于磁控溅射区域的降温装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于磁控溅射区域的降温装置，包括外壳与内壳，所述内壳的内部设有磁控溅射镀膜腔，所述外壳与内壳之间设有降温腔，所述降温腔的内部且位于内壳的外侧呈螺旋状缠绕有冷却管，所述冷却管的内部设有冷却水，所述冷却管的两端延伸至外部并进行相连实现冷却管内部的冷却水进行循环流动，所述冷却管上固定安装有驱动冷却水流动的水泵，所述冷却管位于外壳外部的一段呈U型状弯曲，所述外壳的一侧固定连接有支架，所述支架上固定安装有正对U型端扇风的第一风扇实现对冷却水进行降温。
优选的，所述磁控溅射镀膜腔为真空腔体，所述真空腔体的内部上侧壁上设置有放置槽，所述放置槽的内部活动安装有用于提供溅射原子材料的靶材，所述真空腔体的内部滑动连接有安装板，所述安装板的上侧面上放置有需要溅射薄膜的工件基板，所述工件基板的溅射薄膜面与靶材对立且中间留有溅射原子移动的间隙。
优选的，所述内壳的侧壁上固定连接有抽气管，所述抽气管上设有真空泵，抽气管的一端与真空腔体连通，抽气管的另一端与外部大气连通。
优选的，所述内壳的侧壁上固定连接有用于向真空腔体内注入惰性气体的注气管，所述注气管上固定安装有注气泵，且所述注气管呈多段U型状分布在降温腔的内部用于给惰性气体降温，注气管的一端与真空腔体连通，注气管的另一端与外部装有惰性气体的瓶罐连接。
优选的，所述内壳的两侧转动连接有螺杆，所述螺杆通过电机驱动旋转，电机固定安装在内壳的侧壁上，所述安装板两侧侧壁啮合套接在螺杆的侧壁上。
优选的，所述真空腔体的开口端与安装板的连接处设有用于密封的密封垫。
优选的，所述冷却管位于外壳外部的一段上套接有多个散热片，相邻散热片之间留有一定的散热间隔，当冷却管内部的冷却水流经散热片处时，冷却水内的热量被传递至散热片上实现降温的作用。
优选的，所述降温腔内部两侧固定连接有通风筒，所述通风筒内部固定安装有第二风扇，使降温腔内部的气体进行循环流动，这样可使降温腔内部的温度均匀，从而能够提高真空腔体的降温效果。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过降温腔及冷却管的设置，可通过水冷来降低内壳(真空腔体)周边温度，且通过第一风扇将冷却水中的热量排出，保证了工件基板表面的正常工艺温度；并且惰性气体进入真空腔体的内部时，惰性气体先在注气管的内部冷却，这样惰性气体进入真空腔体的内部后，也会对真空腔体的温度进行降低，进一步提高磁控溅射镀膜的效率。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图I；
图2为本实用新型的整体结构示意图II；
图3为本实用新型的整体结构示意图III；
图4为本实用新型的外壳、真空腔体、放置槽与安装板处的结构示意图；
图5为本实用新型的外壳、内壳、降温腔与冷却管处的剖视图；
图6为本实用新型的外壳、内壳、降温腔、抽气管与注气管处的剖视图；
图7为本实用新型的外壳、内壳、降温腔、真空腔体与安装板处的剖视图；
图8为本实用新型的冷却管、水泵与散热片处的结构示意图。
图中：1、外壳，2、内壳，201、真空腔体，202、放置槽，203、靶材，204、安装板，205、工件基板，3、降温腔，4、冷却管，401、水泵，5、支架，6、第一风扇，7、抽气管，8、真空泵，9、注气管，10、注气泵，11、弹簧，12、顶板，13、螺杆，14、电机，15、密封垫，16、散热片，17、通风筒，18、第二风扇。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-8，本实用新型提供一种技术方案：一种用于磁控溅射区域的降温装置，包括外壳1与内壳2，所述内壳2的内部设有磁控溅射镀膜腔，所述外壳1与内壳2之间设有降温腔3，所述降温腔3的内部且位于内壳2的外侧呈螺旋状缠绕有冷却管4，所述冷却管4的内部设有冷却水，所述冷却管4 的两端延伸至外部并进行相连实现冷却管4内部的冷却水进行循环流动，磁控溅射镀膜工艺中，会产生热量，冷却水循环流动能够带走降温腔3内部的热量，使内壳2处于始终处于低温环境，致使对内壳2内部的磁控溅射镀膜腔进行降温，冷却管4优选采用导热效率高的铝管，这样可使降温腔3内部的热量快速传递至冷却管4的冷却水中，所述冷却管4上固定安装有驱动冷却水流动的水泵401，所述冷却管4位于外壳1外部的一段呈U型状弯曲，所述外壳1的一侧固定连接有支架5，所述支架5上固定安装有正对U型端扇风的第一风扇6 实现对冷却水进行降温。
如图3-4所示，为了能够对靶材203与工件基板205进行更换后，以便连续进行磁控溅射镀膜作业，具体而言，所述磁控溅射镀膜腔为真空腔体201，所述真空腔体201的内部上侧壁上设置有放置槽202，所述放置槽202的内部活动安装有用于提供溅射原子材料的靶材203，在靶材203的内部设置有磁铁阵列，形成磁场，所述真空腔体201的内部滑动连接有安装板204，所述安装板204的上侧面上放置有需要溅射薄膜的工件基板205，安装板204的上侧壁面设有放置工件基板205的凹槽，且凹槽的一侧通过弹簧11滑动连接有顶板 12，通过弹簧11的弹力，致使顶板12顶着工件基板205的一侧，使工件基板 205固定在安装板204上，所述工件基板205的溅射薄膜面与靶材203对立且中间留有溅射原子移动的间隙。
磁控镀膜的工艺流程为：以钼材质的靶材203、惰性气体采用氩气为例(被用来在显示器或者薄膜太阳的电池上，形成导电薄膜)，在磁控溅射镀膜开始时，将钼材质的靶材203固定在放置槽202内，且将需要镀膜的工件基板205固定在安装板204上，将安装板204推入真空腔体201的内部，致使真空腔体201 形成密闭的空间，然后启动真空泵8，通过抽气管7将真空腔体201内的空气不断被真空泵8抽走，使真空腔体201中的压力大约是十的负六次方兆帕(相当于大气压的十亿分之一)，然后关闭真空泵8，启动注气泵10，致使注气管9 将氩气不断引入到真空腔体201中，产生一种低压氩气氛围，高电压施加到靶材203上，从而产生等离子体，并沿着磁场集中，等离子体有氩原子、带正电荷的氩离子和自由电子组成，电子撞击氩原子，从而不断产生带正电荷的氩离子、溅射靶材203是带负电荷的，因此氩离子被吸引飞向靶材203表面，氩离子撞击靶材203，从把靶材203表面弹射出钼原子，这些弹射出的钼原子一层层的溅射到对面的工件基板205上，实现磁控溅射镀膜，当工件基板205镀膜完成后，将安装板204从真空腔体201的内部抽出后，将镀膜完成的工件基板 205取下，然后在放入未镀膜的工件基板205，然后再重复上述操作，以便进行循环镀膜。
为了便于将真空腔体201内部的气体抽出，具体而言，所述内壳2的侧壁上固定连接有抽气管7，所述抽气管7上设有真空泵8，抽气管7的一端与真空腔体201连通，抽气管7的另一端与外部大气连通，真空泵8启动后，可实现将真空腔体201内部的气体抽走。
为了便于将惰性气体注入真空腔体201的内部，具体而言，所述内壳2的侧壁上固定连接有用于向真空腔体201内注入惰性气体的注气管9，所述注气管9上固定安装有注气泵10，且所述注气管9呈多段U型状分布在降温腔3的内部用于给惰性气体降温，注气管9的一端与真空腔体201连通，注气管9的另一端与外部装有惰性气体的瓶罐连接，当注气泵10启动后，外部瓶罐内的惰性气体会注入真空腔体201的内部，使真空腔体201产生一种低压的惰性气体氛围。
如图7所示，为了使安装板204自动滑入真空腔体201或将安装板204从真空腔体201内滑出，具体而言，所述内壳2的两侧转动连接有螺杆13，所述螺杆13通过电机14驱动旋转，电机14固定安装在内壳2的侧壁上，且电机 14的输出轴固定连接在螺杆13的一端，当电机14启动时，电机14的输出轴会驱动螺杆13进行旋转，所述安装板204两侧侧壁啮合套接在螺杆13的侧壁上，螺杆13转动后，促使安装板204在真空腔体201的内部进行滑动，这样可使安装板204上的工件基板205能够自动进入真空腔体201或将工件基板205 从真空腔体201内取出。
如图4所示，为了能够将真空腔体201与安装板204的连接处密封住，具体而言，所述真空腔体201的开口端与安装板204的连接处设有用于密封的密封垫15，密封垫15优选采用橡胶材质。
如图5、8所示，为了提高散热效果，具体而言，所述冷却管4位于外壳1 外部的一段上套接有多个散热片16，相邻散热片16之间留有一定的散热间隔，当冷却管4内部的冷却水流经散热片16处时，冷却水内的热量被传递至散热片 16上，并且再通过第一风扇6将散热片16上的在热量吹走，实现降温的作用，散热片16优选采用铝片。
如图6所示，为了能够提高真空腔体201的降温效果，具体而言，所述降温腔3内部两侧固定连接有通风筒17，所述通风筒17内部固定安装有第二风扇18，如图6所示，第二风扇18启动后，致使第二风扇18将降温腔3底部的气体经通风筒17注入至降温腔3的上侧，致使降温腔3内部的气体进行循环流动，这样可使降温腔3内部的温度均匀，从而能够提高真空腔体201的降温效果。
工作原理：使用时，将工件基板205装入安装板204后，然后通过启动电机14使安装板204滑入真空腔体201的内部，先后开启真空泵8以及注气泵 10，致使真空腔体201先抽成真空后注入惰性气体，通过惰性气体在真空腔体 201内的运动，实现磁控溅射镀膜，同时，启动水泵401、第一风扇6以及第二风扇18，这样，冷却管4内部的冷却水便会进行循环流动，可通过水冷来降低内壳2(真空腔体201)周边温度，且通过第一风扇6将冷却水中的热量排出，实现对降温腔3进行降温。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (8)
1.一种用于磁控溅射区域的降温装置，包括外壳(1)与内壳(2)，所述内壳(2)的内部设有磁控溅射镀膜腔，其特征在于：所述外壳(1)与内壳(2)之间设有降温腔(3)，所述降温腔(3)的内部且位于内壳(2)的外侧呈螺旋状缠绕有冷却管(4)，所述冷却管(4)的内部设有冷却水，所述冷却管(4)的两端延伸至外部并进行相连，所述冷却管(4)上固定安装有水泵(401)，所述冷却管(4)位于外壳(1)外部的一段呈U型状弯曲，所述外壳(1)的一侧固定连接有支架(5)，所述支架(5)上固定安装有正对U型端扇风的第一风扇(6)。
2.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射区域的降温装置，其特征在于：所述磁控溅射镀膜腔为真空腔体(201)，所述真空腔体(201)的内部上侧壁上设置有放置槽(202)，所述放置槽(202)的内部活动安装有靶材(203)，所述真空腔体(201)的内部滑动连接有安装板(204)，所述安装板(204)的上侧面上放置有工件基板(205)，所述工件基板(205)的溅射薄膜面与靶材(203)对立且中间留有溅射原子移动的间隙。
3.根据权利要求2所述的一种用于磁控溅射区域的降温装置，其特征在于：所述内壳(2)的侧壁上固定连接有抽气管(7)，所述抽气管(7)上设有真空泵(8)。
4.根据权利要求2所述的一种用于磁控溅射区域的降温装置，其特征在于：所述内壳(2)的侧壁上固定连接有用于向真空腔体(201)内注入惰性气体的注气管(9)，所述注气管(9)上固定安装有注气泵(10)，且所述注气管(9)呈多段U型状分布在降温腔(3)的内部。
5.根据权利要求2所述的一种用于磁控溅射区域的降温装置，其特征在于：所述内壳(2)的两侧转动连接有螺杆(13)，所述螺杆(13)通过电机(14) 驱动旋转，所述安装板(204)两侧侧壁啮合套接在螺杆(13)的侧壁上。
6.根据权利要求5所述的一种用于磁控溅射区域的降温装置，其特征在于：所述真空腔体(201)的开口端与安装板(204)的连接处设有用于密封的密封垫(15)。
7.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射区域的降温装置，其特征在于：所述冷却管(4)位于外壳(1)外部的一段上套接有多个散热片(16)，相邻散热片(16)之间留有散热间隔。
8.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射区域的降温装置，其特征在于：所述降温腔(3)内部两侧固定连接有通风筒(17)，所述通风筒(17)内部固定安装有第二风扇(18)。
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|---|---|---|---|---|
| CN116875954A (zh) * | 2023-09-07 | 2023-10-13 | 纳狮新材料有限公司杭州分公司 | 一种制备锂电池复合集流体的装备与方法 |
| CN116904957A (zh) * | 2023-09-13 | 2023-10-20 | 纳狮新材料有限公司杭州分公司 | 一种磁控溅射与电子束复合型镀膜装置 |
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| CN117305791A (zh) * | 2023-10-09 | 2023-12-29 | 艾姆西艾(宿迁)电池技术有限公司 | 一种用于磁控溅射镀膜机的恒温加热装置 |
| CN117305791B (zh) * | 2023-10-09 | 2024-04-09 | 艾姆西艾(宿迁)电池技术有限公司 | 一种用于磁控溅射镀膜机的恒温加热装置 |
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| GR01 | Patent grant | ||
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| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
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