CN216902827U - 一种刻蚀机的真空传送腔体 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种刻蚀机的真空传送腔体，应用在刻蚀机领域，其技术方案要点是：包括腔体和分别设置在腔体两侧的进料口、传递窗口；腔体连接有抽真空组件和输气组件，腔体内外分别设置有内侧气压表和外侧气压表；进料口处设置有电控滑移门，内侧气压表和外侧气压表与电控滑移门连接以控制电控滑移门的开合；传递窗口处设置有封闭传递窗口的密闭门；具有的技术效果是：通过设置抽真空组件、输气组件、内侧气压表和外侧气压表，内侧气压表和外侧气压表对腔体内外两侧的气压进行对比，在腔体内侧气压与外侧气压一致或接近一致时，电控滑移门打开，供晶圆送出，避免腔体内外气压不一致，电控滑移门打开时扬起微颗粒。

Description

一种刻蚀机的真空传送腔体

技术领域

本实用新型涉及刻蚀机领域，特别涉及一种刻蚀机的真空传送腔体。

背景技术

刻蚀机台是应用于半导体芯片制造工艺流程中的去除多晶硅，金属，氧化物，氮化物等的干法刻蚀机台。

目前，公布号为CN107026112A的中国发明专利申请，公开了一种蚀刻设备，包括真空传送腔体和制程腔体，真空传送腔体与制程腔体相邻设置，通过真空中转腔相连，真空中转腔与真空传送腔相连，真空传送腔的腔体壁上设置有传递窗口，传递窗口用于待蚀刻基板在真空传送腔体与制程腔体之间的传递；在真空传送腔体底部，靠近传递窗口的位置设置有破片侦测器，在真空传送腔体与制程腔体进行换片操作时，真空传送腔体内的压力大于制程腔体内的压力。

现有的真空传送腔虽然可以实现对晶圆的传送，但是在实际的使用过中，机械手将晶圆移动至真空传送腔，随后由真空传送腔移入真空转转仓进而移入制程腔，并在制程腔加工后依次送回真空传送腔，最后再由机械手将真空传送腔内的晶圆取出，此时真空传送腔为真空，气压小于外界，在真空传送腔打开时，会引起外界的空气流动，外界气体携带微颗粒涌入真空传送腔，掉落在真空传送腔的晶圆上，导致晶圆报废。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种刻蚀机的真空传送腔体，其优点是腔体开合时对外界气流影响较小。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种刻蚀机的真空传送腔体，包括腔体和分别设置在腔体两侧的进料口、传递窗口；所述腔体连接有抽真空组件和输气组件，所述腔体内外分别设置有内侧气压表和外侧气压表，所述腔体上设有供内侧气压表示数露出的对比窗口；所述进料口处设置有电控滑移门，所述内侧气压表和外侧气压表与所述电控滑移门连接以控制电控滑移门的开合；所述传递窗口处设置有封闭传递窗口的密闭门。

通过上述技术方案，内侧气压表和外侧气压表设置在腔体的内外两侧且腔体连接有抽真空组件和输气组件，抽真空组件抽取前提内的空气，输气组件对腔体进行充气；内侧气压表和外侧气压表对腔体内外两侧的气压进行对比，在腔体内侧气压与外侧气压一致或接近一致时，电控滑移门打开，供晶圆送入，避免腔体内外气压不一致，电控滑移门打开时扬起微颗粒；电控滑移门与内侧气压表和外侧气压表连接，便于控制电控滑移门的开合；密封门设置在传递窗口处，对真空传送腔和真空中转腔进行间隔。

本实用新型进一步设置为：所述腔体内设置有承接盘，所述抽真空组件包括设置在承接盘周边的真空槽和与真空槽连接的真空管。

通过上述技术方案，承接盘固定在腔体上，用于放置晶圆供晶圆中转，真空槽设置在承接盘周边，对腔体内进行抽真空。

本实用新型进一步设置为：所述输气组件包括与腔体连接的输气管和开设在腔体上的通风孔，所述通风孔分布在腔体的内壁直角处。

通过上述技术方案，通风孔排布在腔体的内壁直角处，远离承接盘，避免通风时影响晶圆。

本实用新型进一步设置为：所述输气管连接有超纯氮气供给系统。

通过上述技术方案，采用超纯氮气代替空气，防止空气中的微颗粒落至晶圆上。

本实用新型进一步设置为：所述电控滑移门包括与腔体固定连接的门框、固定在门框上的电缸导轨和与电缸导轨连接的金属门。

通过上述技术方案，使用电缸导轨控制金属门的开合，电缸导轨与内侧气压表、外侧气压表连接，金属门的开合有内侧气压表和外侧气压表控制，保证内外侧气压一致，金属门才会开合。

本实用新型进一步设置为：所述门框外侧套设有包胶层，所述金属门与包胶层相抵以密封腔体。

通过上述技术方案，通过设置包胶层，降低金属门可能出现的磨损，同时金属门与包胶层相抵，对腔体进行密封，防止抽真空时外界空气进入腔体。

本实用新型进一步设置为：所述腔体侧壁设置有检视窗。

通过上述技术方案，可通过检视窗查看腔体内的晶圆输送情况。

本实用新型进一步设置为：所述腔体可拆卸连接有端盖，所述端盖与腔体之间设置有密封垫。

通过上述技术方案，端盖与腔体可拆卸，便于对腔体内部进行检修，密封垫的设置则增强腔体的密封性。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

通过设置抽真空组件、输气组件、内侧气压表和外侧气压表，内侧气压表和外侧气压表对腔体内外两侧的气压进行对比，在腔体内侧气压与外侧气压一致或接近一致时，电控滑移门打开，供晶圆送出，避免腔体内外气压不一致，电控滑移门打开时引起外界的微颗粒进入腔体。

附图说明

图1是本实施例的整体的结构示意图；

图2是本实施例的电控滑移门的结构示意图；

图3是本实施例的真空槽的排布示意图.

附图标记：1、腔体；2、电控滑移门；3、密闭门；5、端盖；6、检视窗；7、承接盘；9、通风孔；10、真空槽；14、门框；15、电缸导轨；16、金属门；17、滑块；18、保护壳；19、内侧气压表；20、外侧气压表；21、对比窗口；22、凸台。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

实施例：

参考图1和图2，一种刻蚀机的真空传送腔体，包括腔体1和设置在腔体1两侧的电控滑移门2、密闭门3，腔体1上设置有气压对比监测组件；腔体1密封设置，用于转送晶圆；电控滑移门2安装在腔体1一侧，通过开合供晶圆送入；密闭门3设置在腔体1另一侧，通过开合连通或隔断腔体1与真空中转腔；气压对比监测组件对腔体1内外气压进行对比，防止腔体1内外气压不一致时腔体1打开扬起微颗粒，进而使微颗粒落在晶圆上。

参考图1和图2，腔体1呈长方体状，腔体1上侧可拆卸设置有端盖5，腔体1内侧设置有阶梯槽，端盖5放置在阶梯槽处，端盖5的四角处设置有螺栓，端盖5与腔体1通过螺栓固定连接，腔体1于阶梯槽处设置有密封垫，密封垫抵接在端盖5和腔体1之间；腔体1相对的两侧设置有进料口和传递窗口；电控滑移门2安装在进料口处，密闭门3设置在出料口处；腔体1的另外两侧壁上设置有检视窗6，检视窗6为防爆玻璃制成，检视窗6与腔体1密封连接；腔体1内的中间处设置有承接盘7，承接盘7固定在腔体1的底壁上，承接盘7的上壁与检视窗6的下端在同一水平面。

参考图2和图3，腔体1连接有抽真空组件和输气组件，抽真空组件包括真空泵、开设在腔体1下壁的真空槽10与连接真空泵与真空槽10的真空管；输气组件包括超纯氮气供给系统、开设在腔体1下壁的通风孔9和连通超纯氮气供给系统与通风孔9的输气管；真空槽10沿承接盘7的周向排布，真空槽10的上侧面为腰型槽，真空槽10的下侧面与真空管连通，真空管与腔体1密封连接；真空槽10的一端靠近承接盘7，另一端朝向腔体1的四角；通风孔9设置在腔体1的四角处，腔体1上设置有凸台22，通风孔9开设在凸台22上，凸台22设置有四个，每个凸台22对应设置四个通风孔9。

参考图1和图2，电控滑移门2包括与腔体1滑移连接的门框14、固定在门框14上的电缸导轨15和与电缸导轨15固定连接的金属门16；门框14上设置有包胶层，门框16与腔体1密封连接，电缸导轨15设置在门框14的一侧，门框14的另一侧设置有导向轨，电缸导轨15与金属门16之间设置有滑块17，滑块17一侧与电缸导轨15滑移连接，另一侧与金属门16固定连接；门框14上设置有滑道，金属门16沿滑道滑动；门框14的下半部设置有保护壳18，金属门16开启时，金属门16与保护壳18重叠，门框14连接有气缸，气缸设置在门框14两侧，推动门框14移向或远离腔体1，进而使得金属门16与腔体1相抵密封或脱离；密闭门3与电控滑移门2的结构相似。

参考图2和图3，气压对比监测组件包括安装在腔体1内侧的内侧气压表19和安装在腔体1外侧的外侧气压表20，腔体1上开有对比窗口21，内侧气压表19设置在对比窗口21处；外侧气压表20与对比窗口21并排设置，便于对内侧气压表19和外侧气压表20进行对比，内侧气压表19和外侧气压表20与电控滑移门2连接，内侧气压表19与密闭门3连接。

使用过程简述：电控滑移门2开启，密闭门3闭合，机械手将晶圆放置在承接盘7上，随后机械手伸出，电控滑移门2闭合，真空泵动作，抽取腔体1内的空气，直至将腔体1抽成真空；随后密闭门3开启，另一机械手拿取承接盘7上的晶圆并输送至真空中转腔、制程腔；晶圆加工后再由制程腔、真空中转腔移动至腔体1，随后密闭门3闭合，超纯氮气供给系统向腔体1内充气，直至内侧气压表19的示数与外侧气压表20的示数相同，电控滑移门2打开，供晶圆送入。

本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。

Claims (8)

1.一种刻蚀机的真空传送腔体，包括腔体(1)和分别设置在腔体(1)两侧的进料口、传递窗口；

其特征在于，所述腔体(1)连接有抽真空组件和输气组件，所述腔体(1)内外分别设置有内侧气压表(19)和外侧气压表(20)，所述腔体(1)上设有供内侧气压表(19)示数露出的对比窗口(21)；所述进料口处设置有电控滑移门(2)，所述内侧气压表(19)和外侧气压表(20)与所述电控滑移门(2)连接以控制电控滑移门(2)的开合；所述传递窗口处设置有封闭传递窗口的密闭门(3)。

2.根据权利要求1所述的一种刻蚀机的真空传送腔体，其特征在于，所述腔体(1)内设置有承接盘(7)，所述抽真空组件包括设置在承接盘(7)周边的真空槽(10)和与真空槽(10)连接的真空管。

3.根据权利要求2所述的一种刻蚀机的真空传送腔体，其特征在于，所述输气组件包括与腔体(1)连接的输气管和开设在腔体(1)上的通风孔(9)，所述通风孔(9)分布在腔体(1)的内壁直角处。

4.根据权利要求3所述的一种刻蚀机的真空传送腔体，其特征在于，所述输气管连接有超纯氮气供给系统。

5.根据权利要求1-4任一所述的一种刻蚀机的真空传送腔体，其特征在于，所述电控滑移门(2)包括与腔体(1)固定连接的门框(14)、固定在门框(14)上的电缸导轨(15)和与电缸导轨(15)连接的金属门(16)。

6.根据权利要求5所述的一种刻蚀机的真空传送腔体，其特征在于，所述门框(14)外侧套设有包胶层，所述金属门(16)与包胶层相抵以密封腔体(1)。

7.根据权利要求6所述的一种刻蚀机的真空传送腔体，其特征在于，所述腔体(1)侧壁设置有检视窗(6)。

8.根据权利要求7所述的一种刻蚀机的真空传送腔体，其特征在于，所述腔体(1)可拆卸设置有端盖(5)，所述端盖(5)与腔体(1)之间设置有密封垫。

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