CN216859324U - 一种抛光转台及其多工艺抛光加工平台 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种抛光转台及其多工艺抛光加工平台，属于抛光设备技术领域，包括顶面设有抛光座的转盘，转盘中部设有通孔，转盘底面设有与通孔连通的中空转轴，转盘顶面设置有罩设在抛光座上方的收集漏斗，抛光座上设有端头穿过收集漏斗表面的连接轴，连接轴的端头上设有工位平台，收集漏斗的漏液管通过通孔伸入中空转轴内部；还提供了一种多工艺抛光加工平台，包括固定基座，转盘转动连接在固定基座上，固定基座上周向布设有上料区和若干个抛光区，若干个抛光区连续设置且均对转至此处的工位平台上的工件进行抛光；收集漏斗将抛光座罩设在下面，能够及时有效的将喷射出的抛光液回收，另一方面能够对抛光座形成保护，避免抛光液溅入造成抛光座内部线路短路。

Description

一种抛光转台及其多工艺抛光加工平台

技术领域

本实用新型涉及抛光设备技术领域，特别是涉及一种抛光转台及其多工艺抛光加工平台。

背景技术

全髋关节置换术(THA)是技术最成熟的外科手术之一，主要针对病人出现了髋关节的不可逆的病损以及出现了明显的症状畸形和功能障碍时，通过置换人工制造的髋关节来达到治疗的目的。随着陶瓷工艺的成熟，氧化锆陶瓷开始应用于骨科领域，人工髋关节氧化锆球头也随之被重视，对于人工髋关节氧化锆球头除了要求其具有天然髋关节应有的功能外(如其材料性能、几何形状及尺寸、表面接触强度、疲劳承载能力)，对于人工髋关节氧化锆球头部的表面粗糙度和几何精度也作出了严格的规定，以促进细胞的生长改善体内植入的效果。因此人工髋关节氧化锆球头表面往往需要经过以下几步处理：毛胚车加工、抛磨以及抛光。

目前对人工髋关节氧化锆球头抛光多采用转盘式的连续旋转工位平台，如专利号为“201210230617.3”，专利名称为“多工位立式自动转盘式拋光装置”的发明专利公开的一种抛光装置，包括一个转盘和若干个抛光机，若干个抛光机分布在转盘的四周，转盘上设有若干的工件座，在转盘的带动下，通过若干个抛光机可同时对若干工件座上的工件进行抛光，也可以对一个工件座上的工件连续抛光，从而大幅提高人工髋关节氧化锆球头抛光效率。又如专利号为“201210230618.8”，专利名称为“一种多工位自动抛光装置”的发明专利中公开了另一种转盘式的抛光装置，包括转盘机构、锅身抛光机和包底片反边抛光机，锅身抛光机和包底片反边抛光机分布于转盘机构的四周，每台锅身抛光机与两台包底片反边抛光机间隔设置，两台包底片反边抛光机之间垂直设置。但上述两种抛光装置中，抛光机在进行抛光时，抛光液就任意喷洒在人工髋关节氧化锆球头，不做任何收回处理，从而造成大量的浪费，而且喷洒出的抛光液喷溅到抛光座中，很容易顺着旋转轴浸入电机，继而造成短路。

实用新型内容

本实用新型的目的是解决上述技术问题，提供一种抛光转台及其多工艺抛光加工平台，抛光转台的转盘上设有一个收集漏斗，并将抛光座罩设在下面，能够有效将喷射出的抛光液回收，并对抛光座起到保护作用避免抛光液飞溅入抛光座中，造成抛光座内部的小电机和线路短路。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下方案：本实用新型提供一种抛光转台，包括顶面设有抛光座的转盘，所述转盘的中部设有通孔，所述转盘的底面设有与所述通孔连通的中空转轴，所述转盘的顶面设置有罩设在所述抛光座上方的收集漏斗，所述抛光座上设有端头穿过所述收集漏斗表面的连接轴，所述连接轴的端头上设有用于安装工件的工位平台，所述收集漏斗的漏液管通过所述通孔伸入所述中空转轴内部。

优选地，所述中空转轴外侧设有驱动所述中空转轴旋转的转动机构。

优选地，所漏液管的管口底部设有抛光液收集装置。

优选地，所述工位平台为真空吸盘，所述连接轴为旋转轴。

还提供了一种多工艺抛光加工平台，采用了上述的一种抛光转台，包括固定基座，所述转盘转动连接在所述固定基座上，所述固定基座上沿所述转盘周向布设有上料区和若干个抛光区，若干个所述抛光区连续设置且均对转至此处的所述工位平台上的工件进行抛光。

优选地，所述固定基座上设有平台外壳，所述平台外壳上对应所述上料区位置开设有进料口，所述平台外壳上对应所述抛光区的内壁上设有抛光机。

优选地，所述抛光机上设有正对所述抛光机的抛光头的抛光液超声雾化喷嘴。

优选地，包括三个所述抛光区和一个所述上料区，所述转盘上周向布设有四个所述抛光座，四个所述抛光座能够与所述抛光区和所述上料区一一对应。

优选地，三个连续所述抛光区内的所述抛光机依次为粗抛光区、中抛光区和精抛光区，与之匹配的所述抛光液超声雾化喷嘴的从粗抛光区到精抛光区其直径逐渐减小。

优选地，每台所述抛光机上设有旋转圆盘，所述旋转圆盘上对称设置有两个抛光头，两个所述抛光头的精细程度呈梯度设置。

本实用新型相对于现有技术取得了以下技术效果：

1.本实用新型抛光转台中通过转盘上的收集漏斗能够有效的回收抛光液并避免抛光液溅射入抛光座当中，以避免造成抛光座内部线路的短路，同时本抛光转台中特意将抛光座底部的转轴设置成中空转轴，收集漏斗的漏液管伸入中空转轴之后能够及时的将收集漏斗收集的抛光液回收。

2.本实用新型抛光转台中的工位平台为真空吸盘，真空吸盘通过真空负压吸附工件，能够避免对工件造成损伤，尤其是人工髋关节氧化锆球头这类容易损伤的材料，更需要注意避免损伤；工位平台的连接轴为旋转轴，可带动真空吸盘360°旋转，以保证工件没有抛光死角，保证每个地方都抛光到位。

3.本实用新型多工艺抛光加工平台中的固定基座设有多个连续设置的抛光区，对应的转盘上如果有一个抛光座，则可实现工件从粗抛、中抛到精抛的连续抛光作业；对应的转盘上如果有多个抛光座，则可实现多个工件同时抛光，或者多个工件同步依次连续抛光；即本加工平台通过多个抛光区与抛光座数量相互配合，能够实现单工位连续抛光、多工位同步抛光、或多工位连续抛光的不同的抛光工艺。

4.本实用新型多工艺抛光加工平台中的所述抛光机上设有抛光液超声雾化喷嘴，利用超声雾化技术，使喷出的抛光液更加精细、均匀，且相较于传统喷嘴，更节省抛光液。

5.本实用新型多工艺抛光加工平台中的每台抛光机上均设有两个抛光头的旋转圆盘，两个抛光头的精细程度呈梯度设置，从而在粗抛、中抛和精抛中进一步细化，通过旋转圆盘可随时转换抛光头。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为多工艺抛光加工平台的结构示意图；

图2为有收集漏斗的抛光转台的结构示意图；

图3为无收集漏斗的抛光转台的结构示意图；

图4为抛光转台的结构内部平面示意图；

图5为抛光机的结构示意图；

图6为抛光机和抛光座的结构示意图。

附图标记说明：1、转盘；2、抛光座；3、通孔；4、中空转轴；5、收集漏斗；6、漏液管；7、连接轴；8、工位平台；9、平台外壳；10、进料口；11、抛光机；12、抛光液超声雾化喷嘴；13、旋转圆盘；14、抛光头；15、环形固定架；16、人工髋关节球头。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1

本实施例提供了一种抛光转台，如图1至图6所示，包括转盘1，转盘1的顶面设有一个或若干个抛光座2，抛光座2通过螺栓固定在转盘1的边缘位置，抛光座2上设有一个竖向设置的连接轴7，连接轴7的顶端设有工位平台8，工位平台8用于固定待抛光的工件，如人工髋关节球头16。当抛光座2有多个时，优选地抛光座2均匀周向的分布在转盘1的顶面。转盘1的中部设有一个通孔3，转盘1的底面固定连接有一个中空转轴4，中空转轴4与通孔3相通，在中空转轴4的驱动下可带动转盘1转动，可将抛光座2转至抛光处进行抛光。转盘1的顶面通过一个环形固定架15固定有一个收集漏斗5，收集漏斗5底部的漏液管6插入通孔3中并伸入中空转轴4内，收集漏斗5整体呈锥形整体罩设在抛光座2的顶面以上，收集漏斗5上对应着抛光座2上的连接轴7的位置开设有小孔，连接轴7能够通过小孔伸出收集漏斗5的表面，最终使工位平台8位于收集漏斗5表面的上方，抛光座2位于转盘1和收集漏斗5之间，从而在抛光时所喷射的抛光液不会喷到抛光座2上，而是喷到收集漏斗5上，顺着收集漏斗5的表面向漏液管6滑动，并最终通过漏液管6排出，从漏液管6的管口便可回收抛光液，从而避免抛光液溅射入抛光座2中，造成其内部线路短路。

本实施例中，如图1至图6所示，中空转轴4的外侧设有驱动中空转轴4旋转的转动机构。转动机构可为齿轮驱动机构，也可为皮带轮驱动机构，或其他能够驱动中空转轴4转动的机构均可。当转动机构为齿轮驱动机构时，具体包括同轴固定在中空转轴4外壁上的从动齿轮、与从动齿轮啮合的主动齿轮，主动齿轮通过驱动电机驱动。当转动机构为皮带轮驱动机构时，具体包括固定在中空转轴4外壁上的从动皮带轮、设置在驱动电机上的主动皮带轮，主动皮带轮和从动皮带轮之间通过皮带连接。

为了回收哦抛光液，本实施例中，漏液管6的管口底部设有抛光液收集装置，抛光液收集装置可为收集桶或者收集箱等，收集桶放置在漏液管6的底部用于承接抛光液即可。

本实施例中，如图1至图6所示，工位平台8为真空吸盘，连接轴7为旋转轴，以使真空吸盘在旋转轴的驱动下转动，实现人工髋关节球头16全方位的抛光，避免出现抛光死角。参考图6，人工髋关节球头16为半球形，其圆面通过真空吸盘固定在上面，真空吸盘不会对对人工髋关节球头16损伤。

实施例2

本实施例提供了一种多工艺抛光加工平台，如图1至图6所示，采用了实施例1中的抛光转台，包括固定基座，抛光转台中的转盘1转动连接在固定基座上，固定基座上沿转盘1周向布设有上料区和若干个抛光区，若干个抛光区连续设置能够对转至此处的工位平台8上的工件进行抛光。

当转盘1上只有一个抛光座2时，抛光区的抛光精细程度不同，抛光精细程度逐渐增加：转盘1未启动前，抛光座2位于上料区，在上料区内将工件(人工髋关节球头16)安装在工位平台8上之后；启动转盘1，转盘1在中空转轴4的带动下开始转动，当工位平台8转至第一个抛光区时，转盘1停止转动，在抛光区内对工件进行抛光，并在此处抛光完成后，依次进入到下一个抛光区进行进一步抛光，并在重新转回上料区时，取下工件，完成连续抛光。

当转盘1上有若干个抛光座2时，抛光区的抛光精细程度可相同可不同。

抛光区的抛光精细程度不同时，抛光精细度逐渐增加：转盘1未启动前，其中一个抛光座2位于上料区，其余抛光座2均对应抛光区，在上料区内将第一个工件安装在工位平台8上之后；启动转盘1，转盘1在中空转轴4的带动下开始转动，当工位平台8转至第一个抛光区时，转盘1停止转动，第一个工件在抛光区内对工件进行抛光，同时会有一个抛光座2转至上料区，此时将第二个工件安装在转过来的工位平台8上；然后转盘1继续转动，第一个工件转至下一个抛光区进行抛光，第二个工件转至第一个抛光区进行抛光，与此同时将第三个工件安装在再次转过来的工位平台8上；然后依次类推，当第一个工件再次转至上料区时，便完成所有抛光时，取下第一个工件，放上新的工件，继续循环，从而实现过工件同时连续抛光。

抛光区的抛光精细程度相同时：先将第一个工件安装在第一个工位平台8，然后启动转盘1，等第一个工件转至第一个抛光区时，先不进行抛光，而是将第二个工件安装在转过来的工位平台8上后，转盘1就立即转动，然后安装第三个工件，转盘1转动，安装第四个工件，直至所有进入抛光区的工位平台8上安装上工件后，同时启动抛光区内设备，对所有工件进行抛光，实现多工件同步抛光，在抛光完成后，转盘1转动，依次将工件取下。

本实施例中，如图1至图6所示，固定基座上设有平台外壳9，平台外壳9由多根立柱与多块钢板焊接组成，四根立柱和多块钢板均焊接在固定基座上，平台外壳9上对应上料区的钢板开设有进料口10，通过进料口10可将工件安放在工位平台8上，平台外壳9上对应抛光区的钢板上固定连接有抛光机11。优选地，参考图1，平台外壳9是由四根立柱与多块钢板焊接组成的八角立柱结构。

进一步，本实施例中，如图1至图6所示，抛光机11上设有正对抛光机11的抛光头14的抛光液超声雾化喷嘴12，以便边抛光边喷射雾化抛光液。

本实施例中，如图1至图6所示，固定基座上包括三个抛光区和一个上料区，三个抛光区连续设置，相应的转盘1上周向布设有四个抛光座2，四个抛光座2能够与三个抛光区和一个上料区一一对应。

进一步，本实施例中，如图1至图6所示，三个连续抛光区依次为粗抛光区、中抛光区和精抛光区，与之匹配的粗抛光区内的抛光机11的抛光头14为粗精细程度，中抛光区内的抛光机11的抛光头14为中精细程度，精抛光区内的抛光机11的抛光头14为高精细程度，同时从粗抛光区、中抛光区到精抛光区，抛光液超声雾化喷嘴12的直径逐渐减小。

进一步，本实施例中，抛光机11具有X、Y、Z、旋转四个自由度的，其中抛光头14通过一个旋转圆盘13安装在抛光机11的固定板上实现旋转的自由度。固定板通过通过气动伸缩台安装至基板上，实现Z方向运动。基板通过电机驱动齿轮齿条结构实现上、下、左、右移动，即Y和X方向运动。旋转圆盘13上对称设置有两个抛光头14，两个抛光头14呈上下180度，其精细程度呈梯度设置。通过旋转圆盘13可实现两个抛光头14的转换。

本实用新型中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处。综上所述，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.一种抛光转台，其特征在于，包括顶面设有抛光座的转盘，所述转盘的中部设有通孔，所述转盘的底面设有与所述通孔连通的中空转轴，所述转盘的顶面设置有罩设在所述抛光座上方的收集漏斗，所述抛光座上设有端头穿过所述收集漏斗表面的连接轴，所述连接轴的端头上设有用于安装工件的工位平台，所述收集漏斗的漏液管通过所述通孔伸入所述中空转轴内部。

2.根据权利要求1所述的一种抛光转台，其特征在于，所述中空转轴外侧设有驱动所述中空转轴旋转的转动机构。

3.根据权利要求2所述的一种抛光转台，其特征在于，所述漏液管的管口底部设有抛光液收集装置。

4.根据权利要求1所述的一种抛光转台，其特征在于，所述工位平台为真空吸盘，所述连接轴为旋转轴。

5.一种多工艺抛光加工平台，采用了如权利要求1-4任意一项所述的一种抛光转台，其特征在于，包括固定基座，所述转盘转动连接在所述固定基座上，所述固定基座上沿所述转盘周向布设有上料区和若干个抛光区，若干个所述抛光区连续设置且均对转至此处的所述工位平台上的工件进行抛光。

6.根据权利要求5所述的一种多工艺抛光加工平台，其特征在于，所述固定基座上设有平台外壳，所述平台外壳上对应所述上料区位置开设有进料口，所述平台外壳上对应所述抛光区的内壁上设有抛光机。

7.根据权利要求6所述的一种多工艺抛光加工平台，其特征在于，所述抛光机上设有正对所述抛光机的抛光头的抛光液超声雾化喷嘴。

8.根据权利要求7所述的一种多工艺抛光加工平台，其特征在于，包括三个所述抛光区和一个所述上料区，所述转盘上周向布设有四个所述抛光座，四个所述抛光座能够与所述抛光区和所述上料区一一对应。

9.根据权利要求8所述的一种多工艺抛光加工平台，其特征在于，三个连续所述抛光区内的所述抛光机依次为粗抛光区、中抛光区和精抛光区，与之匹配的所述抛光液超声雾化喷嘴的从粗抛光区到精抛光区其直径逐渐减小。

10.根据权利要求9所述的一种多工艺抛光加工平台，其特征在于，每台所述抛光机上设有旋转圆盘，所述旋转圆盘上对称设置有两个抛光头，两个所述抛光头的精细程度呈梯度设置。

Images