CN216835590U - 一种真空连续浸渍装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空连续浸渍装置，包括真空浸渍缸和循环安装于支撑架上的工字钢上的悬挂链，所述悬挂链的下方悬挂有若干个间隔的缸盖，每个缸盖的下端设置有用于钩挂待浸渍产品的产品挂钩，所述真空浸渍缸设置于悬挂链下方的浸渍工位，且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降，所述真空浸渍缸的上端设置有与缸盖下端面密封配合的密封装置，所述真空浸渍缸与抽真空装置连接，所述支撑架上在浸渍工位的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑结构。该真空连续浸渍装置利用悬挂链进行悬挂牵引工件运行，实现连续真空浸渍，使设备布置更加灵活。

Description

一种真空连续浸渍装置

技术领域

本实用新型涉及一种真空连续浸渍装置，用于对需要浸渍的产品进行连续真空浸渍。

背景技术

对于电机线圈、铁芯、变压器等工件需要浸渍和烘干处理，这主要利用到真空连续沉浸机，而专利号为ZL99228572.0和专利为 201210415126.6的专利分别公开了一种真空连续沉浸机的真空浸渍装置，主要结构包括机壳、设置于机壳内的两条平行的循环链，两条循环链之间一定间距的均匀间隔的悬挂有待浸渍的工件，其中悬挂工件的方式不同，一种是通过吊篮的方式悬挂，另一种是悬挂若干个缸盖，然后利用真空浸渍缸的上升将工件浸没在浸渍液中真空浸渍，然这种浸渍方式还是存在一定的局限；首先，目前的这种真空浸渍装置无法适应非常大的工件的浸渍要求，由于目前的工件的悬挂是通过两条平行的循环链带动，循环链条之间设置了悬挂轴，因此为了保证工件的竖直悬挂，悬挂轴必须水平，目前的连续浸渍装置在浸渍完之后需要向上循环运行进入到烘道内进行烘干，因此，整个设备的高度非常高，而工件的尺寸越大，其转弯半径也越大，该设备需要上下两层均有足够的悬挂空间，因此设备高度非常高，这样导致所要求的现场车间的高度较高，并且整个设备后期的维护维修难度加大。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种真空连续浸渍装置，该真空连续浸渍装置利用悬挂链进行悬挂牵引工件运行，实现连续真空浸渍，使设备布置更加灵活。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种真空连续浸渍装置，包括真空浸渍缸和循环安装于支撑架上的工字钢上的悬挂链，所述悬挂链的下方悬挂有若干个间隔的缸盖，每个缸盖的下端设置有用于钩挂待浸渍产品的产品挂钩，所述真空浸渍缸设置于悬挂链下方的浸渍工位，且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降，所述真空浸渍缸的上端设置有与缸盖下端面密封配合的密封装置，所述真空浸渍缸与抽真空装置连接，所述支撑架上在浸渍工位的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑结构。

作为一种优选的方案，所述支撑架上还安装有矫正缸盖左右位置使其准确处于浸渍工位的矫正结构。

作为一种优选的方案，所述矫正结构包括固定于支撑架上的左限位板和右限位板，所述左限位板和有限位板之间构成了约束通道，所述悬挂链上设置有用于悬挂缸盖的缸盖挂钩，所述约束通道约束缸盖挂钩的左右两侧。

作为一种优选的方案，所述约束通道的上游端为扩口状。

作为一种优选的方案，所述缸盖定位支撑结构包括固定于支撑架上且位于缸盖左右两侧的支撑块，所述支撑块支撑所述缸盖的上端。

作为一种优选的方案，所述支撑块为支撑角铁，所述支撑角铁支撑所述缸盖的法兰沿。

作为一种优选的方案，所述所述悬挂链上的缸盖挂钩分成若干组，每组缸盖挂钩的数量为多个，每组缸盖挂钩钩挂一个缸盖，所述缸盖等间距设置。

采用了上述技术方案后，本实用新型的效果是：由于一种真空连续浸渍装置，包括真空浸渍缸和循环安装于支撑架上的工字钢上的悬挂链，所述悬挂链的下方悬挂有若干个间隔的缸盖，每个缸盖的下端设置有用于钩挂待浸渍产品的产品挂钩，所述真空浸渍缸设置于悬挂链下方的浸渍工位，且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降，所述真空浸渍缸的上端设置有与缸盖下端面密封配合的密封装置，所述真空浸渍缸与抽真空装置连接，所述支撑架上在浸渍工位的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑结构，因此，该真空连续浸渍装置相比目前的现有连续浸渍装置具有以下优点：1、该连续浸渍装置采用了悬挂链悬挂缸盖进行前进，缸盖下端可以直接悬挂待浸渍产品，这样无需使用花篮，悬挂链悬挂的缸盖运行更灵活，从而烘道无需设置在上层，就极大的降低了设备的高度，适合一些高度不高的厂房的安装需求，也更适合体积更大的产品的浸渍；2、该连续浸渍装置可以在利用悬挂链吊挂带浸渍产品运行的过程中进行真空连续浸渍，同时，悬挂的缸盖可以有效的防护悬挂链磨损而掉落的杂质，从而保证了产品浸渍的效果更好。综上所述，该真空连续浸渍装置的适应性更强，灵活性更高，更适合体积大的产品的浸渍要求，对厂房的高度要求不高。

又由于所述支撑架上还安装有矫正缸盖左右位置使其准确处于浸渍工位的矫正结构，该矫正结构可以使缸盖的位置进行矫正而使其准确的与真空浸渍缸的上开口对准，保证浸渍动作的顺畅进行。

又由于所述矫正结构包括固定于支撑架上的左限位板和右限位板，所述左限位板和有限位板之间构成了约束通道，所述悬挂链上设置有用于悬挂缸盖的缸盖挂钩，所述约束通道约束缸盖挂钩的左右两侧，利用该约束通道可以限制缸盖挂钩，进而使矫正缸盖的位置，而所述约束通道的上游端为扩口状，可以方便缸盖挂钩的准确进入。

又由于所述缸盖定位支撑结构包括固定于支撑架上且位于缸盖左右两侧的支撑块，所述支撑块支撑所述缸盖的上端，所述支撑块为支撑角铁，所述支撑角铁支撑所述缸盖的法兰沿，利用该支撑角铁可以有效的支撑缸盖的法兰沿的上端，确保缸盖和真空浸渍缸准确有效的密封。

又由于所述所述悬挂链上的缸盖挂钩分成若干组，每组缸盖挂钩的数量为多个，每组缸盖挂钩钩挂一个缸盖，所述缸盖等间距设置。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型实施例的结构示意图；

图2是本实用新型实施例的侧面结构示意图；

图3是图2中悬挂链、矫正结构、缸盖定位支撑结构的示意图；

附图中：1、支撑架；2、工字钢；3、悬挂链；4、缸盖挂钩；5、缸盖；6、产品挂钩；7、待浸渍产品；8、真空浸渍缸；9、升降装置； 10、矫正结构；101、左限位板；102、右限位板；103、约束通道；11、支撑角铁。

具体实施方式

下面通过具体实施例对本实用新型作进一步的详细描述。

如图1至图3所示，一种真空连续浸渍装置，包括真空浸渍缸8和循环安装于支撑架1上的工字钢2上的悬挂链3，所述悬挂链3的下方悬挂有若干个间隔的缸盖5，本实施例中，缸盖5是通过缸盖5挂钩4 悬挂在悬挂链3上，缸盖5的宽度与悬挂链3的长度方向平行，这样可以缩小缸盖5之间的间距；每个缸盖5的下端设置有用于钩挂待浸渍产品7的产品挂钩6，产品可以直接钩挂在缸盖5下方，当然，若是体积小的产品，可以在产品挂钩6的下方钩挂吊篮，而将若干个体积小的产品放入吊篮中统一吊挂，悬挂链3有其对应的动力驱动循环运行。缸盖 5采用悬挂链3悬挂，运行的路线更灵活，这样烘道的布置也更灵活，根据厂区现场的情况进行布置，无需布置上下两层，降低了设备的高度。所述所述悬挂链3上的缸盖5挂钩4分成若干组，每组缸盖5挂钩4的数量为多个，每组缸盖5挂钩4钩挂一个缸盖5，所述缸盖5等间距设置。因此，不同的缸盖5可以选择不同数量的缸盖5挂钩4钩挂，从而方便调整缸盖5之间的间距，而目前现有技术中悬挂轴的位置一旦安装后就难调整，因此，目前现有技术中的悬挂间距一旦出厂后就难以改变，本实施例中缸盖5的间距方便调整。

所述真空浸渍缸8设置于悬挂链3下方的浸渍工位，且该真空浸渍缸8由升降装置9驱动升降，该升降装置9采用目前的现有升降机，所述真空浸渍缸8的上端设置有与缸盖5下端面密封配合的密封装置，该密封装置可以为密封条，方便缸盖5下端面和真空浸渍缸8的上端之间密封，所述真空浸渍缸8与抽真空装置连接，所述支撑架1上在浸渍工位的上方安装有限制缸盖5上移的缸盖5定位支撑结构。

如图2和图3所示，所述支撑架1上还安装有矫正缸盖5左右位置使其准确处于浸渍工位的矫正结构10。所述矫正结构10包括固定于支撑架1上的左限位板101和右限位板102，所述左限位板101和有限位板之间构成了约束通道103，所述悬挂链3上设置有用于悬挂缸盖5的缸盖5挂钩4，所述约束通道103约束缸盖5挂钩4的左右两侧。本实施例中的左右是以图2中的状态确定的，图纸左侧为左，图纸右侧为右。所述约束通道103的上游端为扩口状，这样缸盖5挂钩4无论在上游时处于什么状态，上游端的扩口状也可以改变缸盖5挂钩4的状态，使其顺利的进入约束通道103，进而约束左右位置。

而如图2和图3所示，本实施例中，所述缸盖5定位支撑结构包括固定于支撑架1上且位于缸盖5左右两侧的支撑块，所述支撑块支撑所述缸盖5的上端。所述支撑块为支撑角铁11，所述支撑角铁11支撑所述缸盖5的法兰沿。

本实施例中提到的气路系统、悬挂链3、升降装置9为目前的常规技术，在2008年4月北京第五版第二十八次印刷的《机械设计手册第五版》中详细的公开了气缸、电机以及其他传动机构的具体结构和原理和其他的设计，属于现有技术，其结构清楚明了，2008年08月01日由机械工业出版社出版的现代实用气动技术第3版SMC培训教材中就详细的公开了真空元件、气体回路和程序控制，表明了本实施例中的气路结构也是现有的技术，清楚明了，在2015年07月01日由化学工业出版社出版的《电机驱动与调速》书中也详细的介绍了电机的控制以及行程开关，因此，电路、气路连接都是清楚。以上所述实施例仅是对本发明的优选实施方式的描述，不作为对本发明范围的限定，在不脱离本发明设计精神的基础上，对本发明技术方案作出的各种变形和改造，均应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。

Claims (7)

1.一种真空连续浸渍装置，其特征在于：包括真空浸渍缸和循环安装于支撑架上的工字钢上的悬挂链，所述悬挂链的下方悬挂有若干个间隔的缸盖，每个缸盖的下端设置有用于钩挂待浸渍产品的产品挂钩，所述真空浸渍缸设置于悬挂链下方的浸渍工位，且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降，所述真空浸渍缸的上端设置有与缸盖下端面密封配合的密封装置，所述真空浸渍缸与抽真空装置连接，所述支撑架上在浸渍工位的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑结构。

2.如权利要求1所述的一种真空连续浸渍装置，其特征在于：所述支撑架上还安装有矫正缸盖左右位置使其准确处于浸渍工位的矫正结构。

3.如权利要求2所述的一种真空连续浸渍装置，其特征在于：所述矫正结构包括固定于支撑架上的左限位板和右限位板，所述左限位板和有限位板之间构成了约束通道，所述悬挂链上设置有用于悬挂缸盖的缸盖挂钩，所述约束通道约束缸盖挂钩的左右两侧。

4.如权利要求3所述的一种真空连续浸渍装置，其特征在于：所述约束通道的上游端为扩口状。

5.如权利要求4所述的一种真空连续浸渍装置，其特征在于：所述缸盖定位支撑结构包括固定于支撑架上且位于缸盖左右两侧的支撑块，所述支撑块支撑所述缸盖的上端。

6.如权利要求5所述的一种真空连续浸渍装置，其特征在于：所述支撑块为支撑角铁，所述支撑角铁支撑所述缸盖的法兰沿。

7.如权利要求6所述的一种真空连续浸渍装置，其特征在于：所述悬挂链上的缸盖挂钩分成若干组，每组缸盖挂钩的数量为多个，每组缸盖挂钩钩挂一个缸盖，所述缸盖等间距设置。

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