CN216776016U - 熟化箱 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种熟化箱。包括：第一箱体，所述第一箱体围合形成安装腔；第二箱体，所述第二箱体围合形成加热腔，所述第二箱体的数量为多个，多个所述第二箱体沿所述安装腔的竖直方向相对设置；加热盘组件，所述加热盘组件设置于多个所述第二箱体的所述加热腔内；微波发生组件，所述微波发生组件的数量为多个，多个所述微波发生组件分别设置在多个所述第二箱体上。本实用新型提供的熟化箱，加热均匀性、烹饪效果好、控制方便、提高食材加热量、占地面积小。

Description

熟化箱

技术领域

本实用新型涉及熟化设备技术领域，特别是涉及一种熟化箱。

背景技术

现有的工业熟化设备由多个熟化腔、传送轨道以及控制系统组成，微波发生器设置于多个熟化腔内，这种设计的熟化箱占用空间较大，只能用于较大空间的操作车间，使用场景比较受限制。另外，现有的工业熟化设备，由于设备空间大且微波发生器设置分散，而经常出现加热不均匀、散热速度慢的问题，一定程度上影响了食材熟化口感。

实用新型内容

基于此，有必要针对上述的问题，提供一种加热均匀性、烹饪效果好、控制方便、提高食材加热量、占地面积小的熟化箱。

一种熟化箱，所述的熟化箱包括：第一箱体，所述第一箱体围合形成安装腔；第二箱体，所述第二箱体围合形成加热腔，所述第二箱体的数量为多个，多个所述第二箱体沿所述安装腔的竖直方向相对设置；加热盘组件，所述加热盘组件设置于多个所述第二箱体的所述加热腔内；微波发生组件，所述微波发生组件的数量为多个，多个所述微波发生组件分别设置在多个所述第二箱体上。

本申请公开了一种熟化箱，包括：第一箱体，第二箱体，加热盘组件，微波发生组件。第一箱体围合形成安装腔。第二箱体围合形成加热腔，第二箱体的数量为多个，多个第二箱体沿安装腔的竖直方向相对设置。第二箱体沿竖直方向的设计，有利于减少占地面积，有利于节省空间，减少熟化箱使用场景的限制。加热盘组件设置于多个第二箱体的加热腔内，加热盘组件用于烹调食材的盛装，为食材加热提供便利。熟化箱还包括多个微波发生组件，多个微波发生组件分别设置在多个第二箱体上。通过在加热腔内设置多个微波发生组件，有利于提高食材的加热效率，且使第二箱体受热更均匀，有助于提高食材烹饪质量。

在其中一个实施例中，所述加热盘组件包括多个加热盘，多个所述加热盘可移动地插设于所述加热腔的腔壁，相邻两个所述加热盘之间的距离范围为30mm～100mm。

上述的熟化箱，加热盘组件包括多个加热盘，多个加热盘可移动地插设于加热腔的腔壁，可移动的插设设计方便用户放取食材。通过设置多个加热盘，可以方便用户根据烹饪量的需要调整加热盘的数量，提高熟化箱的使用灵活性。

相邻两个加热盘之间的距离范围为30mm～100mm。

可选的，相邻两个加热盘之间的距离为30mm、40mm、50mm、60mm、70mm、80mm、90mm、100mm。

当相邻两个加热盘之间的距离为30mm时，使盘与盘之间更加紧凑，从而能放置更多的加热盘，能同时烹调处理更多的食材，提高一次烹饪效率，有利于节省能耗，节约成本。

当相邻两个加热盘之间的距离为70mm时，盘与盘之间的距离适中，加热更均匀，烹饪效果更好。

当相邻两个加热盘之间的距离为100mm时，第二箱体能放置的加热盘少，从而使加热腔的热量能快速达到均匀，食材加热效果更高，烹调质量更高。

在其中一个实施例中，所述加热盘上设有容腔，所述加热盘的底壁沿所述容腔方向上还设有凸台。

上述的熟化箱，加热盘上设有容腔，容腔用于食材的放置。加热盘的底壁沿容腔方向上还设有凸台，通过设置凸台，有利于防止食材粘底，提高食材受热均匀性，改善烹饪质量。

在其中一个实施例中，所述第二箱体的侧壁与所述加热盘组件的侧壁的距离范围为10mm～50mm。

上述的熟化箱，第二箱体的侧壁与加热盘组件的侧壁的距离范围为10mm～50mm。加热盘组件与第二箱体的侧壁之间的上述距离设置，有利于热风的循环，提高加热腔的热量均匀性。

可选地，第二箱体的侧壁与加热盘组件的侧壁的距离为10mm、20mm、30mm、40mm、50mm。

在其中一个实施例中，所述第二箱体的底壁与所述加热盘组件的距离范围为50mm～160mm。

上述的熟化箱，第二箱体的底壁与加热盘组件的距离范围为50mm～160mm，加热盘组件与第二箱体的底壁的上述距离设置，有利于热风的循环，提高加热腔的热量均匀性。

可选地，第二箱体的底壁与加热盘组件的距离为50mm、60mm、80mm、100mm、120mm、140mm、160mm。

在其中一个实施例中，所述第二箱体的顶壁与所述加热盘组件的距离范围为50mm～160mm。

上述的熟化箱，第二箱体的顶壁与加热盘组件的距离范围为50mm～160mm，加热盘组件与第二箱体的顶壁的上述距离设置，有利于热风的循环，提高加热腔的热量均匀性。

可选地，第二箱体的顶壁与加热盘组件的距离为50mm、60mm、80mm、100mm、120mm、140mm、160mm。

在其中一个实施例中，所述第一箱体与所述第二箱体的体积比例为2:1～10:1。

上述的熟化箱，第一箱体与第二箱体的体积比例为2:1～10:1。

当第一箱体与第二箱体的体积比例为2:1时，在相同的第一箱体体积的前提下，有利于增加第二箱体的容量，满足烹饪食材数量较大时使用。

当第一箱体与第二箱体的体积比例为10:1时，在相同的第一箱体体积的前提下，有利于增加第二箱体的数量，从而满足用户烹调不同食材的需求。

可选地，第一箱体与第二箱体的体积比例为4:1。

可选地，第一箱体与第二箱体的体积比例为6:1。

可选地，第一箱体与第二箱体的体积比例为8:1。

在其中一个实施例中，所述加热腔的长度范围为300mm～1000mm。

上述的熟化箱，加热腔的长度范围为300mm～1000mm。

可选地，加热腔的长度为300mm、400mm、500mm、600mm、700mm、800mm、900mm、1000mm。

在其中一个实施例中，所述加热腔的宽度范围为300mm～1000mm。

上述的熟化箱，加热腔的宽度范围为300mm～1000mm。

可选地，加热腔的宽度为300mm、400mm、500mm、600mm、700mm、800mm、900mm、1000mm。

在其中一个实施例中，所述加热腔的高度范围为200mm～1000mm。

上述的熟化箱，加热腔的长度范围为300mm～1000mm。

可选地，加热腔的高度为200mm、300mm、400mm、500mm、600mm、700mm、800mm、900mm、1000mm。

在其中一个实施例中，所述微波发生组件包括多个磁控装置，多个所述磁控装置交错设置于所述加热腔的顶壁上。

上述的熟化箱，微波发生组件包括多个磁控装置，多个磁控装置交错设置于加热腔的顶壁上，有利于热量均匀分布于加热腔内，方便控制和提高烹饪质量。

在其中一个实施例中，所述微波发生组件与所述加热盘组件的距离为70mm～900mm。

上述的熟化箱，微波发生组件与加热盘组件的距离为70mm～900mm。

可选地，微波发生组件与加热盘组件的距离为70mm、140mm、210mm、280mm、350mm、420mm、600mm、800mm、900mm。

在其中一个实施例中，相邻两个所述第二箱体的距离值范围为50mm～200mm。

上述的熟化箱，相邻两个第二箱体的距离值范围为50mm～200mm。

可选地，相邻两个第二箱体的距离值为50mm、100mm、150mm、200mm。

当相邻两个第二箱体的距离值为50mm时，结构更紧凑，有利于节省空间，降低生产成本。

当相邻两个第二箱体的距离值为200mm时，有利于防止不同第二箱体之间的加热干扰，有利于提高不同第二箱体之间加热的稳定性，提高设备运行可靠性。

在其中一个实施例中，所述第一箱体与所述第二箱体之间的距离值范围为50mm～200mm。

上述的熟化箱，第一箱体与第二箱体之间的距离值范围为50mm～200mm。

可选地，第一箱体与第二箱体之间的距离值为50mm、100mm、150mm、200mm。

当第一箱体与第二箱体之间的距离值为50mm时，结构更紧凑，利于节省空间，降低生产成本。

当第一箱体与第二箱体之间的距离值为200mm时，有利于散热装置如风机等的安装，提高第二箱体的散热效率。

附图说明

图1为本实用新型所述熟化箱的内部视图；

图2为本实用新型所述第二箱体的主视图；

图3为本实用新型所述加热盘的结构示意图；

图4为本实用微波发生组件的结构示意图。

其中，附图标记与部件名称之间的对应关系为：

100第一箱体，101安装腔；

200第二箱体，201加热腔；

300加热盘组件，310加热盘，3101容腔，3102凸台；

400微波发生组件，410磁控装置。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是，本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

下面参照附图描述本发明一些实施例所述熟化箱。

如图1和图2所示，本实施例公开了一种熟化箱，熟化箱包括：第一箱体100，第一箱体100围合形成安装腔101；第二箱体200，第二箱体200围合形成加热腔201，第二箱体200的数量为多个，多个第二箱体200沿安装腔101的竖直方向相对设置；加热盘组件300，加热盘组件300设置于多个第二箱体200的加热腔201内；微波发生组件400，微波发生组件400的数量为多个，多个微波发生组件400分别设置在多个第二箱体200上。

本申请公开了一种熟化箱，包括：第一箱体100，第二箱体200，加热盘组件300，微波发生组件400。第一箱体100围合形成安装腔101。第二箱体200围合形成加热腔201，第二箱体200的数量为多个，多个第二箱体200沿安装腔101的竖直方向相对设置。第二箱体200沿竖直方向的设计，有利于减少占地面积，有利于节省空间，减少熟化箱使用场景的限制。加热盘组件300设置于多个第二箱体200的加热腔201内，加热盘组件300用于烹调食材的盛装，为食材加热提供便利。熟化箱还包括多个微波发生组件400，多个微波发生组件400分别设置在多个第二箱体200上。通过在加热腔201内设置多个微波发生组件400，有利于提高食材的加热效率，且使第二箱体200受热更均匀，有助于提高食材烹饪质量。

如图2和图3所示，除上述实施例的特征以外，本实施例进一步限定了：加热盘组件300包括多个加热盘310，多个加热盘310可移动地插设于加热腔201的腔壁，相邻两个加热盘310之间的距离范围为30mm～100mm。

上述的熟化箱，加热盘组件300包括多个加热盘310，多个加热盘310可移动地插设于加热腔201的腔壁，可移动的插设设计方便用户放取食材。通过设置多个加热盘310，可以方便用户根据烹饪量的需要调整加热盘310的数量，提高熟化箱的使用灵活性。

相邻两个加热盘310之间的距离范围为30mm～100mm。

可选的，相邻两个加热盘310之间的距离为30mm、40mm、50mm、60mm、70mm、80mm、90mm、100mm。

当相邻两个加热盘310之间的距离为30mm时，使盘与盘之间更加紧凑，从而能放置更多的加热盘，能同时烹调处理更多的食材，提高一次烹饪效率，有利于节省能耗，节约成本。

当相邻两个加热盘310之间的距离为70mm时，盘与盘之间的距离适中，加热更均匀，烹饪效果更好。

当相邻两个加热盘310之间的距离为100mm时，第二箱体200能放置的加热盘少，从而使加热腔201的热量能快速达到均匀，食材加热效果更高，烹调质量更高。

如图3所示，进一步地，加热盘310上设有容腔3101，加热盘310的底壁沿容腔3101方向上还设有凸台3102。

上述的熟化箱，加热盘310上设有容腔3101，容腔3101用于食材的放置。加热盘310的底壁沿容腔3101方向上还设有凸台3102，通过设置凸台3102，有利于防止食材粘底，提高食材受热均匀性，改善烹饪质量。

如图2所示，在本实施例中，第二箱体200的侧壁与加热盘组件300的侧壁的距离范围为10mm～50mm。

上述的熟化箱，第二箱体200的侧壁与加热盘组件300的侧壁的距离范围为10mm～50mm。加热盘组件300与第二箱体200的侧壁之间的上述距离设置，有利于热风的循环，提高加热腔201的热量均匀性。

可选地，第二箱体200的侧壁与加热盘组件300的侧壁的距离为10mm、20mm、30mm、40mm、50mm。

如图2所示，在本实施例中，第二箱体200的底壁与加热盘组件300的距离范围为50mm～160mm。

上述的熟化箱，第二箱体200的底壁与加热盘组件300的距离范围为50mm～160mm，加热盘组件300与第二箱体200的底壁的上述距离设置，有利于热风的循环，提高加热腔201的热量均匀性。

可选地，第二箱体200的底壁与加热盘组件300的距离为50mm、60mm、80mm、100mm、120mm、140mm、160mm。

如图2所示，在本实施例中，第二箱体200的顶壁与加热盘组件300的距离范围为50mm～160mm。

上述的熟化箱，第二箱体200的顶壁与加热盘组件300的距离范围为50mm～160mm，加热盘组件300与第二箱体200的顶壁的上述距离设置，有利于热风的循环，提高加热腔201的热量均匀性。

可选地，第二箱体200的顶壁与加热盘组件300的距离为50mm、60mm、80mm、100mm、120mm、140mm、160mm。

如图1所示，在本实施例中，第一箱体100与第二箱体200的体积比例为2:1～10:1。

上述的熟化箱，第一箱体100与第二箱体200的体积比例为2:1～10:1。

当第一箱体100与第二箱体200的体积比例为2:1时，在相同的第一箱体100体积的前提下，有利于增加第二箱体200的容量，满足烹饪食材数量较大时使用。

当第一箱体100与第二箱体200的体积比例为10:1时，在相同的第一箱体100体积的前提下，有利于增加第二箱体的数量，从而满足用户烹调不同食材的需求。

可选地，第一箱体100与第二箱体200的体积比例为4:1。

可选地，第一箱体100与第二箱体200的体积比例为6:1。

可选地，第一箱体100与第二箱体200的体积比例为8:1。

如图2所示，在本实施例中，加热腔201的长度范围为300mm～1000mm。

上述的熟化箱，加热腔201的长度范围为300mm～1000mm。

可选地，加热腔201的长度为300mm、400mm、500mm、600mm、700mm、800mm、900mm、1000mm。

如图2所示，在本实施例中，加热腔201的宽度范围为300mm～1000mm。

上述的熟化箱，加热腔201的宽度范围为300mm～1000mm。

可选地，加热腔201的宽度为300mm、400mm、500mm、600mm、700mm、800mm、900mm、1000mm。

如图2所示，在本实施例中，加热腔201的高度范围为200mm～1000mm。

上述的熟化箱，加热腔201的高度范围为200mm～1000mm。

可选地，加热腔201的高度为200mm、300mm、400mm、500mm、600mm、700mm、800mm、900mm、1000mm。

如图2和图4所示，在本实施例中，微波发生组件400包括多个磁控装置410，多个磁控装置410交错设置于加热腔201的顶壁上。

上述的熟化箱，微波发生组件400包括多个磁控装置410，多个磁控装置410交错设置于加热腔201的顶壁上，有利于热量均匀分布于加热腔内，方便控制和提高烹饪质量。

如图2所示，在本实施例中，微波发生组件400与加热盘组件300的距离为70mm～900mm。

上述的熟化箱，微波发生组件400与加热盘组件300的距离为70mm～900mm。

可选地，微波发生组件400与加热盘组件300的距离为70mm、140mm、210mm、280mm、350mm、420mm、600mm、800mm、900mm。

如图1所示，在本实施例中，相邻两个第二箱体200的距离值范围为50mm～200mm。

上述的熟化箱，相邻两个第二箱体200的距离值范围为50mm～200mm。

可选地，相邻两个第二箱体200的距离值为50mm、100mm、150mm、200mm。

当相邻两个第二箱体200的距离值为50mm时，结构更紧凑，有利于节省空间，降低生产成本。

当相邻两个第二箱体200的距离值为200mm时，有利于防止不同第二箱体200之间的加热干扰，有利于提高不同第二箱体200之间加热的稳定性，提高设备运行可靠性。

如图1所示，在本实施例中，第一箱体100与第二箱体200之间的距离值范围为50mm～200mm。

上述的熟化箱，第一箱体100与第二箱体200之间的距离值范围为50mm～200mm。

可选地，第一箱体100与第二箱体200之间的距离值为50mm、100mm、150mm、200mm。

当第一箱体100与第二箱体200之间的距离值为50mm时，结构更紧凑，利于节省空间，降低生产成本。

当第一箱体100与第二箱体200之间的距离值为200mm时，有利于散热装置如风机等的安装，提高第二箱体200的散热效率。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种熟化箱，其特征在于，所述的熟化箱包括：

第一箱体(100)，所述第一箱体(100)围合形成安装腔(101)；

第二箱体(200)，所述第二箱体(200)围合形成加热腔(201)，所述第二箱体(200)的数量为多个，多个所述第二箱体(200)沿所述安装腔(101)的竖直方向相对设置；

加热盘组件(300)，所述加热盘组件(300)设置于多个所述第二箱体(200)的所述加热腔(201)内；

微波发生组件(400)，所述微波发生组件(400)的数量为多个，多个所述微波发生组件(400)分别设置在多个所述第二箱体(200)上。

2.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述加热盘组件(300)包括多个加热盘(310)，多个所述加热盘(310)可移动地插设于所述加热腔(201)的腔壁，相邻两个所述加热盘(310)之间的距离范围为30mm～100mm。

3.根据权利要求2所述的熟化箱，其特征在于，所述加热盘(310)上设有容腔(3101)，所述加热盘(310)的底壁沿所述容腔(3101)方向上还设有凸台(3102)。

4.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述第二箱体(200)的侧壁与所述加热盘组件(300)的侧壁的距离范围为10mm～50mm；和/或，

所述第二箱体(200)的底壁和/或顶壁与所述加热盘组件(300)的距离范围为50mm～160mm。

5.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述第一箱体(100)与所述第二箱体(200)的体积比例为2:1～10:1。

6.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述加热腔(201)的长度范围为300mm～1000mm；和/或

所述加热腔(201)的宽度范围为300mm～1000mm；和/或

所述加热腔(201)的高度范围为200mm～1000mm。

7.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述微波发生组件(400)包括多个磁控装置(410)，多个所述磁控装置(410)交错设置于所述加热腔(201)的顶壁上。

8.根据权利要求7所述的熟化箱，其特征在于，所述微波发生组件(400)与所述加热盘组件(300)的距离为70mm～900mm。

9.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，相邻两个所述第二箱体(200)的距离值范围为50mm～200mm。

10.根据权利要求1所述的熟化箱，其特征在于，所述第一箱体(100)与所述第二箱体(200)之间的距离值范围为50mm～200mm。

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