CN216759420U - 一种可均匀抛光的无尘抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种可均匀抛光的无尘抛光装置,包括封闭入料机构、均匀打磨机构和无尘清理机构,所述封闭入料机构的顶端设置有均匀打磨机构,所述封闭入料机构的内部两侧设置有无尘清理机构。该可均匀抛光的无尘抛光装置,在设备进行抛光的过程中,将设备内封闭空间内打磨抛光产生的碎屑,经过沿着封闭入料机构两侧内壁等距分布的内置风机吹进集尘风道,再由集尘风道集中传输至集尘槽内,且由于集尘风道的锥形设计,可防止碎屑吹动传输过程中存在的回流现象,在完成抛光作业后,使用者可将侧盖打开,对集尘槽内部收集的废屑进行清理便于后续使用。通过这种方式形成整个无尘抛光的加工过程,保护周边作业环境,提升生产加工效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及抛光打磨技术领域,具体为一种可均匀抛光的无尘抛光装置。
背景技术
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法,是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工,抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度,而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的,有时也用以消除光泽,通常以抛光轮作为抛光工具,抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成,两侧用金属圆板夹紧,其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。
目前市面上抛光设备在使用中,由于其抛光轮在进行抛光和打磨过程中都是对加工材料进行某一面的局部打磨,在打磨过程中无法进行均匀打磨,使得打磨抛光的效率不高,且打磨抛光环境中其抛光过程产生的碎屑会四处散落,不但破坏工作环境,还会对附近人员造成身体损伤,为此,我们提出一种可均匀抛光的无尘抛光装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种可均匀抛光的无尘抛光装置,以解决上述背景技术中提出的由于其抛光轮在进行抛光和打磨过程中都是对加工材料进行某一面的局部打磨,在打磨过程中无法进行均匀打磨,使得打磨抛光的效率不高,且打磨抛光环境中其抛光过程产生的碎屑会四处散落,不但破坏工作环境,还会对附近人员造成身体损伤的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种可均匀抛光的无尘抛光装置,包括封闭入料机构、均匀打磨机构和无尘清理机构,所述封闭入料机构的顶端设置有均匀打磨机构,所述封闭入料机构的内部两侧设置有无尘清理机构,所述无尘清理机构包括通风孔、内置风机、集尘风道、集尘槽和侧盖,且通风孔的一侧内壁设置有内置风机,所述内置风机的四周外壁设置有集尘风道,且集尘风道的一端连接有集尘槽,所述集尘槽的一侧外壁设置有侧盖。
进一步的,所述内置风机与集尘风道、集尘槽之间相连通,且内置风机沿着封闭入料机构两侧内壁等距分布。
进一步的,所述封闭入料机构包括外壳、底垫、控制面板、抽拉板、滑槽、夹持片和调节螺栓,且外壳的底端设置有底垫,所述外壳的一端外壁设置有控制面板,且控制面板的下方设置有抽拉板,所述抽拉板的两侧分布有滑槽,所述抽拉板的顶面外壁设置有夹持片,且夹持片的两端分布有调节螺栓。
进一步的,所述控制面板、底垫与外壳之间为固定连接,且控制面板与均匀打磨机构、无尘清理机构之间相互连通。
进一步的,所述夹持片通过调节螺栓与抽拉板构成螺纹结构,且抽拉板通过滑槽与外壳构成滑动结构。
进一步的,所述均匀打磨机构包括单片机、滑轨、滑动气缸、气压杆、电机架和打磨盘,且单片机的底端设置有滑轨,所述滑轨的底端外壁设置有滑动气缸,且滑动气缸的底端设置有气压杆,所述气压杆的底端连接有电机架,且电机架的底端外壁设置有打磨盘。
进一步的,所述单片机与滑动气缸、气压杆、电机架之间相连接,且滑动气缸通过滑轨与封闭入料机构构成滑动结构。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该可均匀抛光的无尘抛光装置,在设备进行抛光的过程中,经过内置风机与集尘风道、集尘槽之间的相连通,将设备内封闭空间内打磨抛光产生的碎屑,经过沿着封闭入料机构两侧内壁等距分布的内置风机吹进集尘风道,再由集尘风道集中传输至集尘槽内,且由于集尘风道的锥形设计,可防止碎屑吹动传输过程中存在的回流现象,在完成抛光作业后,使用者可将侧盖打开,对集尘槽内部收集的废屑进行清理便于后续使用。通过这种方式形成整个无尘抛光的加工过程,保护周边作业环境,提升生产加工效率。
控制面板与均匀打磨机构、无尘清理机构之间相互连通,在此设备的使用中,经过与外壳之间固定连接的底垫,为运行中的设备整体提供稳定,且底垫采用一定的橡胶材质,在为设备提供稳定性的同时,也具备一定的抗静电效果,减少使用人员的伤害和对设备内部器件的干扰,在进行打磨抛光作业中,使用者可通过控制面板与均匀打磨机构、无尘清理机构之间的相互连通,按动控制面板对内部的设备进行调节控制,让整个打磨流程具备可调节可控性。
夹持片通过调节螺栓与抽拉板构成螺纹结构,而在打磨前,可将需要打磨的材料放置于抽拉板上,将需要打磨的材料放置于抽拉板,再经过夹持片将其覆盖,经过夹持片通过调节螺栓与抽拉板构成的螺纹结构,将夹持片拧紧固定,再将抽拉板整体滑动置入,方便使用者进行平面材料的打磨加工。
滑动气缸通过滑轨与封闭入料机构构成滑动结构,在将材料放置于设备内部后,可通过单片机与滑动气缸、气压杆、电机架之间的相连接,让气压杆伸缩下降将电机架所搭载的打磨盘贴合于所加工材料的表面,控制其进行抛光过程,由于打磨盘尺寸与设备内部的纵向尺寸相吻合,可对平面材料的正面进行均匀抛光,避免局部打磨效果不佳的情况,再配合滑动气缸通过滑轨与封闭入料机构构成的滑动结构,让滑动气缸滑动带动打磨盘进行横向打磨过程,让整体打磨效率更快,加工质量更高。
附图说明
图1为本实用新型立体结构示意图;
图2为本实用新型侧视内部结构示意图;
图3为本实用新型无尘清理机构俯视内部结构示意图。
图中:1、封闭入料机构;101、外壳;102、底垫;103、控制面板;104、抽拉板;105、滑槽;106、夹持片;107、调节螺栓;2、均匀打磨机构;201、单片机;202、滑轨;203、滑动气缸;204、气压杆;205、电机架;206、打磨盘;3、无尘清理机构;301、通风孔;302、内置风机;303、集尘风道;304、集尘槽;305、侧盖。
具体实施方式
如图1所示,一种可均匀抛光的无尘抛光装置,包括:封闭入料机构1;封闭入料机构1的顶端设置有均匀打磨机构2,封闭入料机构1的内部两侧设置有无尘清理机构3,封闭入料机构1包括外壳101、底垫102、控制面板103、抽拉板104、滑槽105、夹持片106和调节螺栓107,且外壳101的底端设置有底垫102,外壳101的一端外壁设置有控制面板103,且控制面板103的下方设置有抽拉板104,抽拉板104的两侧分布有滑槽105,抽拉板104的顶面外壁设置有夹持片106,且夹持片106的两端分布有调节螺栓107,控制面板103、底垫102与外壳101之间为固定连接,且控制面板103与均匀打磨机构2、无尘清理机构3之间相互连通,在此设备的使用中,经过与外壳101之间固定连接的底垫102,为运行中的设备整体提供稳定,且底垫102采用一定的橡胶材质,在为设备提供稳定性的同时,也具备一定的抗静电效果,减少使用人员的伤害和对设备内部器件的干扰,在进行打磨抛光作业中,使用者可通过控制面板103与均匀打磨机构2、无尘清理机构3之间的相互连通,按动控制面板103对内部的设备进行调节控制,让整个打磨流程具备可调节可控性,夹持片106通过调节螺栓107与抽拉板104构成螺纹结构,且抽拉板104通过滑槽105与外壳101构成滑动结构,而在打磨前,可将需要打磨的材料放置于抽拉板104上,将需要打磨的材料放置于抽拉板104,再经过夹持片106将其覆盖,经过夹持片106通过调节螺栓107与抽拉板104构成的螺纹结构,将夹持片106拧紧固定,再将抽拉板104整体滑动置入,方便使用者进行平面材料的打磨加工。
如图2所示,一种可均匀抛光的无尘抛光装置,均匀打磨机构2包括单片机201、滑轨202、滑动气缸203、气压杆204、电机架205和打磨盘206,且单片机201的底端设置有滑轨202,滑轨202的底端外壁设置有滑动气缸203,且滑动气缸203的底端设置有气压杆204,气压杆204的底端连接有电机架205,且电机架205的底端外壁设置有打磨盘206,单片机201与滑动气缸203、气压杆204、电机架205之间相连接,且滑动气缸203通过滑轨202与封闭入料机构1构成滑动结构,在将材料放置于设备内部后,可通过单片机201与滑动气缸203、气压杆204、电机架205之间的相连接,让气压杆204伸缩下降将电机架205所搭载的打磨盘206贴合于所加工材料的表面,控制其进行抛光过程,由于打磨盘206尺寸与设备内部的纵向尺寸相吻合,可对平面材料的正面进行均匀抛光,避免局部打磨效果不佳的情况,再配合滑动气缸203通过滑轨202与封闭入料机构1构成的滑动结构,让滑动气缸203滑动带动打磨盘206进行横向打磨过程,让整体打磨效率更快,加工质量更高。
如图3所示,一种可均匀抛光的无尘抛光装置,无尘清理机构3包括通风孔301、内置风机302、集尘风道303、集尘槽304和侧盖305,且通风孔301的一侧内壁设置有内置风机302,内置风机302的四周外壁设置有集尘风道303,且集尘风道303的一端连接有集尘槽304,集尘槽304的一侧外壁设置有侧盖305,内置风机302与集尘风道303、集尘槽304之间相连通,且内置风机302沿着封闭入料机构1两侧内壁等距分布,在设备进行抛光的过程中,经过内置风机302与集尘风道303、集尘槽304之间的相连通,将设备内封闭空间内打磨抛光产生的碎屑,经过沿着封闭入料机构1两侧内壁等距分布的内置风机302吹进集尘风道303,再由集尘风道303集中传输至集尘槽304内,且由于集尘风道303的锥形设计,可防止碎屑吹动传输过程中存在的回流现象,在完成抛光作业后,使用者可将侧盖305打开,对集尘槽304内部收集的废屑进行清理便于后续使用。通过这种方式形成整个无尘抛光的加工过程,保护周边作业环境,提升生产加工效率。
综上,该可均匀抛光的无尘抛光装置在使用时,首先在此设备的使用中,经过与外壳101之间固定连接的底垫102,为运行中的设备整体提供稳定,且底垫102采用一定的橡胶材质,在为设备提供稳定性的同时,也具备一定的抗静电效果,减少使用人员的伤害和对设备内部器件的干扰,在进行打磨抛光作业中,使用者可通过控制面板103与均匀打磨机构2、无尘清理机构3之间的相互连通,按动控制面板103对内部的设备进行调节控制,让整个打磨流程具备可调节可控性,而在打磨前,可将需要打磨的材料放置于抽拉板104上,将需要打磨的材料放置于抽拉板104,再经过夹持片106将其覆盖,经过夹持片106通过调节螺栓107与抽拉板104构成的螺纹结构,将夹持片106拧紧固定,再将抽拉板104整体滑动置入,方便使用者进行平面材料的打磨加工,在将材料放置于设备内部后,可通过单片机201与滑动气缸203、气压杆204、电机架205之间的相连接,让气压杆204伸缩下降将电机架205所搭载的打磨盘206贴合于所加工材料的表面,控制其进行抛光过程,由于打磨盘206尺寸与设备内部的纵向尺寸相吻合,可对平面材料的正面进行均匀抛光,避免局部打磨效果不佳的情况,再配合滑动气缸203通过滑轨202与封闭入料机构1构成的滑动结构,让滑动气缸203滑动带动打磨盘206进行横向打磨过程,让整体打磨效率更快,加工质量更高,在设备进行抛光的过程中,经过内置风机302与集尘风道303、集尘槽304之间的相连通,将设备内封闭空间内打磨抛光产生的碎屑,经过沿着封闭入料机构1两侧内壁等距分布的内置风机302吹进集尘风道303,再由集尘风道303集中传输至集尘槽304内,且由于集尘风道303的锥形设计,可防止碎屑吹动传输过程中存在的回流现象,在完成抛光作业后,使用者可将侧盖305打开,对集尘槽304内部收集的废屑进行清理便于后续使用。通过这种方式形成整个无尘抛光的加工过程,保护周边作业环境,提升生产加工效率。
Claims (7)
1.一种可均匀抛光的无尘抛光装置,包括封闭入料机构(1)、均匀打磨机构(2)和无尘清理机构(3),其特征在于:所述封闭入料机构(1)的顶端设置有均匀打磨机构(2),所述封闭入料机构(1)的内部两侧设置有无尘清理机构(3),所述无尘清理机构(3)包括通风孔(301)、内置风机(302)、集尘风道(303)、集尘槽(304)和侧盖(305),且通风孔(301)的一侧内壁设置有内置风机(302),所述内置风机(302)的四周外壁设置有集尘风道(303),且集尘风道(303)的一端连接有集尘槽(304),所述集尘槽(304)的一侧外壁设置有侧盖(305)。
2.根据权利要求1所述的一种可均匀抛光的无尘抛光装置,其特征在于:所述内置风机(302)与集尘风道(303)、集尘槽(304)之间相连通,且内置风机(302)沿着封闭入料机构(1)两侧内壁等距分布。
3.根据权利要求1所述的一种可均匀抛光的无尘抛光装置,其特征在于:所述封闭入料机构(1)包括外壳(101)、底垫(102)、控制面板(103)、抽拉板(104)、滑槽(105)、夹持片(106)和调节螺栓(107),且外壳(101)的底端设置有底垫(102),所述外壳(101)的一端外壁设置有控制面板(103),且控制面板(103)的下方设置有抽拉板(104),所述抽拉板(104)的两侧分布有滑槽(105),所述抽拉板(104)的顶面外壁设置有夹持片(106),且夹持片(106)的两端分布有调节螺栓(107)。
4.根据权利要求3所述的一种可均匀抛光的无尘抛光装置,其特征在于:所述控制面板(103)、底垫(102)与外壳(101)之间为固定连接,且控制面板(103)与均匀打磨机构(2)、无尘清理机构(3)之间相互连通。
5.根据权利要求3所述的一种可均匀抛光的无尘抛光装置,其特征在于:所述夹持片(106)通过调节螺栓(107)与抽拉板(104)构成螺纹结构,且抽拉板(104)通过滑槽(105)与外壳(101)构成滑动结构。
6.根据权利要求1所述的一种可均匀抛光的无尘抛光装置,其特征在于:所述均匀打磨机构(2)包括单片机(201)、滑轨(202)、滑动气缸(203)、气压杆(204)、电机架(205)和打磨盘(206),且单片机(201)的底端设置有滑轨(202),所述滑轨(202)的底端外壁设置有滑动气缸(203),且滑动气缸(203)的底端设置有气压杆(204),所述气压杆(204)的底端连接有电机架(205),且电机架(205)的底端外壁设置有打磨盘(206)。
7.根据权利要求6所述的一种可均匀抛光的无尘抛光装置,其特征在于:所述单片机(201)与滑动气缸(203)、气压杆(204)、电机架(205)之间相连接,且滑动气缸(203)通过滑轨(202)与封闭入料机构(1)构成滑动结构。
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CN202123199226.3U CN216759420U (zh) | 2021-12-20 | 2021-12-20 | 一种可均匀抛光的无尘抛光装置 |
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CN202123199226.3U Active CN216759420U (zh) | 2021-12-20 | 2021-12-20 | 一种可均匀抛光的无尘抛光装置 |
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