CN216736416U - 暂存与回流框架基板系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种暂存与回流框架基板系统，其包含基板框架、基板装卸站、第一输送单元以及第二输送单元。基板框架适于装载基板。基板装卸站包括机械手臂、出入料单元以及回料单元，基板框架适于结合于出入料单元及回料单元，机械手臂适于将基板放入或卸除于基板框架。第一输送单元连接于出入料单元且适于输送基板框架。第二输送单元连接于第一输送单元与回料单元之间，以将基板框架输送回回料单元。借此在基板装卸站装卸基板。

Description

暂存与回流框架基板系统

技术领域

本实用新型涉及一种回流系统，特别地涉及应用于对基板进行显影、清洗，从而在基板形成电路图案的一种暂存与回流框架基板系统。

背景技术

电路基板是一种在高科技电子产业中重要的应用物品。一般而言，当基板表面布上线路后，需要以特殊的药水以及溶剂进行清洗、显影、蚀刻以及剥膜等处理步骤后，才能符合各段制程以及产品使用上的规格要求以及预定精度。然而，目前市面上对于基板进行上述处理步骤时，必须在相应的系统两端分别设置入料与出料的设备，从而必须在系统两端都必须派员进行监控以及进行电路基板的运送，从而提高制作成本以及增加整体系统所占据的空间。

实用新型内容

基于本实用新型的至少一个个实施例，本实用新型提供一种暂存与回流框架基板系统，以期达到节省人力、降低制作成本以及节省空间的目的。

本实用新型提供一种暂存与回流框架基板系统，用于在基板上形成电路图案，暂存与回流框架基板系统包含基板框架、基板装卸站、第一输送单元以及第二输送单元。基板装卸站包括机械手臂、出入料单元以及回料单元。基板框架适于装载基板。基板框架适于结合于出入料单元及回料单元。机械手臂适于将基板放入或卸除于基板框架。第一输送单元连接于出入料单元且适于输送基板框架，以使装载于基板框架的基板在输送过程中进行显影及清洗等制程。第二输送单元连接于第一输送单元与回料单元之间，第二输送单元适于输送基板框架，以使装载于基板框架的基板在进行完制程后回到基板装卸站，以被机械手臂从基板框架取下。

在实施例中，本实用新型的暂存与回流框架基板系统还包括显影清洗模块。显影清洗模块配置于第一输送单元的沿线上，以对基板进行显影及清洗。

在实施例中，本实用新型的暂存与回流框架基板系统还包括加强清洗模块。加强清洗模块配置于第一输送单元的沿线上且相较显影清洗模块远离于出入料单元。

在实施例中，本实用新型的暂存与回流框架基板系统还包括暂存模块，暂存模块配置于第一输送单元的沿线上，以暂存装载有基板的至少一个基板框架。

在实施例中，暂存模块包括滑轨、活动部以及多个暂存部，滑轨配置于暂存部之间且一端朝向第一输送单元，活动部滑设于滑轨并对应第一输送单元，且暂存部也对应第一输送单元。

在实施例中，本实用新型的暂存与回流框架基板系统还包括转向模块。转向模块包括滑轨及活动单元，滑轨位于第一输送单元及第二输送单元远离于基板装卸站的一端，活动单元滑设于滑轨并对应第一输送单元及第二输送单元，以适于接合于第一输送单元或第二输送单元。

在实施例中，第一输送单元、第二输送单元、回料单元、出入料单元及活动单元设有相同的滚轮结构。

在实施例中，出入料单元适于进行水平移动，回料单元适于进行垂直移动，第二输送单元适于将装载有基板的基板框架转移到回料单元，回料单元适于下降而接合于出入料单元，以将基板框架转移到出入料单元。

在实施例中，基板框架转移到出入料单元后，出入料单元适于水平移动到第一输送单元的起点端，机械手臂适于将基板卸除于基板框架及将另一待处理的基板装载到基板框架。

在实施例中，基板框架包括支撑结构，支撑结构包括背板、多个支撑梁以及多个支撑柱，支撑梁跨接于基板框架两侧，背板用于抵顶于基板且与支撑梁相对，支撑柱连接于支撑梁与背板之间。

借此，本实用新型的暂存与回流框架基板系统，因基板可在基板装卸站进行装卸，从而可达到节省人力、降低制作成本以及节省空间的目的。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中需求要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型具体实施例的暂存与回流框架基板系统的方块示意图；

图2是本实用新型具体实施例的暂存与回流框架基板系统的外观立体示意图；

图3是本实用新型具体实施例的暂存与回流框架基板系统的基板装卸站的局部立体示意图一；

图4是本实用新型具体实施例的暂存与回流框架基板系统的基板装卸站的局部立体示意图二；

图5是本实用新型具体实施例的暂存与回流框架基板系统的暂存模块的立体示意图；

图6是本实用新型具体实施例的暂存与回流框架基板系统的第一输送单元、第二输送单元以及显影清洗模块的立体示意图；

图7是本实用新型具体实施例的暂存与回流框架基板系统的第一输送单元、第二输送单元以及转向模块的立体示意图一；

图8是本实用新型具体实施例的暂存与回流框架基板系统的第一输送单元、第二输送单元以及转向模块的立体示意图二；

图9是本实用新型具体实施例包括有支撑结构且装载有基板的基板框架的立体示意图；

图10是图9的支撑结构及基板的立体示意图。

【附图标记】

1 暂存与回流框架基板系统

10 基板框架

101 固持部

11 基板装卸站

110 机械手臂

111 出入料单元

112 回料单元

114 第一托盘

115 第二托盘

116 多轴机构主体

117 端效器

12 第一输送单元

121 上滚轮组

122 下滚轮组

13 第二输送单元

14 暂存模块

140 活动部

141 暂存部

143 转移框架

144 伸缩杆

15 显影清洗模块

16 加强清洗模块

17 转向模块

171 活动单元

18 隔离产线房

19 支撑结构

190 背板

191 支撑梁

192 支撑柱

193 握持部

2 基板

7 滑轨

8 皮带齿轮组

9 导杆

具体实施方式

有关本实用新型的前述及其它技术内容、特点与效果，在以下配合参考附图的较佳实施例的详细说明中，将可清楚地呈现。值得一提的是，以下实施例所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附图的方向。因此，使用的方向用语是用以说明，而非对本实用新型加以限制。此外，在下列的实施例中，相同或相似的组件将采用相同或相似的标号。

以下将配合附图，更进一步地说明本实用新型实施例的暂存与回流框架基板系统。

请参考图1及图3，本实用新型提供一种暂存与回流框架基板系统1，用于在基板2上形成电路图案，暂存与回流框架基板系统1包含基板框架10、基板装卸站11、第一输送单元12以及第二输送单元13。基板装卸站11包括机械手臂110、出入料单元111以及回料单元112。基板框架10适于装载基板2。基板框架10适于结合于出入料单元111及回料单元112。机械手臂110 适于将基板2放入或卸除于基板框架10。第一输送单元12连接于出入料单元111且适于输送基板框架10，以使装载于基板框架10的基板2在输送过程中进行显影及清洗等制程。第二输送单元13连接于第一输送单元12与回料单元112之间，第二输送单元13适于输送基板框架10，以使装载于基板框架 10的基板2在进行完制程后回到基板装卸站11，以被机械手臂110从基板框架10取下。

如上所述，本实用新型的暂存与回流框架基板系统1，因基板2可在基板装卸站11进行装卸，从而可达到节省人力、降低制作成本以及节省空间的目的。

如图2所示，本实用新型的暂存与回流框架基板系统1可整体位于长条状的隔离产线房18中，以避免在显影清洗的过程中受到外界的污染。

如图3、图4及图6所示，为了减少本实用新型的暂存与回流框架基板系统1整体占据的体积，出入料单元111与回料单元112之间可具有高度差，例如回料单元112可高于出入料单元111。在实施例中，出入料单元111适于进行水平移动，回料单元112适于进行垂直移动。当装载有进行完显影、清洗等制程的基板2的基板框架10由第二输送单元13转移到回料单元112时，回料单元112下降以接合于出入料单元111，以使基板框架10转移到出入料单元111。接着出入料单元111可水平移动到第一输送单元12的起点端。接着机械手臂110可先将基板2卸除于基板框架10，再将另一待处理的基板2 装载到基板框架10。接着就可通过第一输送单元12输送基板2来进行清洗、显影等制程。

如图3所示，在基板装卸站11中可还设有第一托盘114及第二托盘115。第一托盘114用于储存尚未进行显影清洗等制程的多个基板2。第二托盘115 用于储存已进行完显影清洗等制程的多个基板2。机械手臂110可包括多轴机构主体116以及电性连接于多轴机构主体116末端的端效器117。端效器117 可为用于夹持、磁吸或气吸基板2的框架。

如图4及图5所示，基板框架10可呈方形，且四周可分别具有固持部101 以固持或松开基板2。基板框架10用以固持基板2的方式已揭露于申请人先前的专利申请案中，因此不再加以详述。

如图4所示，出入料单元111可通过滑轨7搭配皮带齿轮组8进行水平移动，回料单元112可通过导杆9搭配皮带齿轮组8进行垂直移动，但并不仅限于此。

如图3、图4及图6所示，出入料单元111可为对应第一输送单元12的框架。例如第一输送单元12为包括上滚轮组121及下滚轮组122的滚轮机构，以导引基板框架10移动，出入料单元111也设有相同结构的上滚轮组121及下滚轮组122。类似地，回料单元112可为对应第二输送单元12的框架。此外，第二输送单元13的滚轮结构也相同于第一输送单元12的滚轮结构。

如图1、图3及图5所示，本实用新型的暂存与回流框架基板系统1可还包括暂存模块14。暂存模块14配置于第一输送单元12的沿线上，以暂存装载有基板2的至少基板框架10。当出入料单元111连续对第一输送单元12 转移基板框架10时，可先将这些基板框架10转移到暂存模块14，以避免前方的显影清洗制程尚未完成而造成堵塞。暂存模块14可包括滑轨7、活动部 140以及多个暂存部141。滑轨7配置于暂存部141之间且一端朝向第一输送单元12，活动部140滑设于滑轨7且对应第一输送单元12的滚轮结构，例如可设有下滚轮组122，以适于输送基板框架10，暂存部141也对应第一输送单元12的滚轮结构而配置有下滚轮组122。活动部140并设有转移框架143 以结合基板框架10，转移框架143可具有用于组设基板框架10的伸缩杆144，以将基板框架10从活动部140转移到暂存部141的其中之一以进行暂存，或将基板框架10从暂存部141转移到活动部140上，以送回第一输送单元12 进行显影、清洗等制程。可利用伺服马达(图中未示)来控制活动部140于滑轨 7上的移动，但并不仅限于此。另外，依制程的需要，可设定先进入暂存模块 14中基板框架10先离开暂存模块12，或后进入暂存模块14中基板框架10 先离开暂存模块12。

如图1及图6所示，在实施例中，本实用新型的暂存与回流框架基板系统1还包括显影清洗模块15。显影清洗模块15配置于第一输送单元12的沿线上，以对基板2进行显影及清洗。显影清洗模块15可对于通过的基板2以预定的方向喷洒显影液以及用于清除光阻的清洗液。显影清洗模块15用于清洗的清洗机构并可往复摆动来加强清洗效果。申请人已在先前的申请案中揭露往复摆动的技术，因此不再加以详述。此外，本实用新型的暂存与回流框架基板系统1可还包括加强清洗模块16。加强清洗模块16配置于第一输送单元12的沿线上且相较显影清洗模块15远离于出入料单元111。加强清洗模块 16可对基板2提供喷雾式的清洗液，以尽量清除残余的光阻。当基板2进行完显影、清洗等制程后，就可进行干燥处理。例如可利用高压空气将残留于基板2上的显影液及清洗液移除。

如图1、图7及图8所示，在实施例中，本实用新型的暂存与回流框架基板系统1可还包括转向模块17。转向模块17包括滑轨7以及活动单元171。滑轨7位于第一输送单元12及第二输送单元13远离于基板装卸站11的一端，活动单元171滑设于滑轨7并适于接合于第一输送单元12或第二输送单元 13。活动单元171可为框架，并设有对应第一输送单元12及第二输送单元13 的滚轮结构，例如可至少设有下滚轮组122。类似地，也可利用伺服马达来控制活动单元171在滑轨7上的移动。装载有基板2的基板框架10可先由第一输送单元12转移到活动单元171，再使活动单元171移动到第二输送单元13 前方，以转移到第二输送单元13上，从而往基板装卸站11回流。

如图3、图9及图10所示，当机械手臂110的端效器117具有磁吸或气吸的功能时，为了提高吸附基板2的成功率，在实施例中，基板框架10可包括支撑结构19。支撑结构19包括背板190、多个支撑梁191以及多个支撑柱 192。支撑梁191跨接于基板框架10两侧，背板190用于抵顶于基板2且与支撑梁191相对。支撑柱192连接于支撑梁191与背板190之间。支撑结构 19可还包括两握持部193，每一个握持部193呈条状且跨接于支撑梁191，每一个握持部193握持固定于基板框架10的一侧。由于基板2的背面有所支撑，当端效器117吸附基板2时，基板2在吸附的方向上不会移动，从而有效地提高吸附的成功率。

以上所述仅为本实用新型的实施例，其并非用以局限本实用新型的专利范围。

Claims (9)

1.一种暂存与回流框架基板系统，用于在基板上形成电路图案，其特征在于，所述暂存与回流框架基板系统包含：

基板框架，适于装载所述基板；

基板装卸站，包括机械手臂、出入料单元以及回料单元，所述基板框架适于结合于所述出入料单元及所述回料单元，所述机械手臂适于将所述基板放入或卸除于所述基板框架；

第一输送单元，连接于所述出入料单元且适于输送所述基板框架，以使装载于所述基板框架的基板在输送过程中进行显影及清洗制程；以及

第二输送单元，连接于所述第一输送单元与所述回料单元之间，所述第二输送单元适于输送所述基板框架，以使装载于所述基板框架的基板在进行完制程后回到所述基板装卸站，以被所述机械手臂从所述基板框架取下。

2.根据权利要求1所述的暂存与回流框架基板系统，其特征在于，所述暂存与回流框架基板系统还包括显影清洗模块，所述显影清洗模块配置于所述第一输送单元的沿线上，以对所述基板进行显影及清洗。

3.根据权利要求2所述的暂存与回流框架基板系统，其特征在于，所述暂存与回流框架基板系统还包括加强清洗模块，所述加强清洗模块配置于所述第一输送单元的沿线上且相较所述显影清洗模块远离于所述出入料单元。

4.根据权利要求1所述的暂存与回流框架基板系统，其特征在于，所述暂存与回流框架基板系统还包括暂存模块，所述暂存模块配置于所述第一输送单元的沿线上，以暂存装载有所述基板的至少一个基板框架。

5.根据权利要求4所述的暂存与回流框架基板系统，其特征在于，所述暂存模块包括滑轨、活动部以及多个暂存部，所述滑轨配置于所述暂存部之间且一端朝向所述第一输送单元，所述活动部滑设于所述滑轨并对应所述第一输送单元，且所述暂存部也对应所述第一输送单元。

6.根据权利要求5所述的暂存与回流框架基板系统，其特征在于，所述第一输送单元、所述第二输送单元、所述回料单元及所述出入料单元设有相同的滚轮结构。

7.根据权利要求1所述的暂存与回流框架基板系统，其特征在于，所述暂存与回流框架基板系统还包括转向模块，所述转向模块包括滑轨及活动单元，所述滑轨位于所述第一输送单元及所述第二输送单元远离于所述基板装卸站的一端，所述活动单元滑设于所述滑轨并对应所述第一输送单元及所述第二输送单元，以适于接合于所述第一输送单元或所述第二输送单元。

8.根据权利要求7所述的暂存与回流框架基板系统，其特征在于，所述第一输送单元、所述第二输送单元、所述回料单元及所述出入料单元设有相同的滚轮结构。

9.根据权利要求1所述的暂存与回流框架基板系统，其特征在于，所述基板框架包括支撑结构，所述支撑结构包括背板、多个支撑梁以及多个支撑柱，所述支撑梁跨接于所述基板框架两侧，所述背板用于抵顶于所述基板且与所述支撑梁相对，所述支撑柱连接于所述支撑梁与所述背板之间。

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