CN216679297U - 一种配药框清洗组件 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种配药框清洗组件，包括机架，所述机架上设置有至少一个清洗单元；所述清洗单元包括输送组件，以及沿该输送组件输送方向依次设置的浸洗机构和洁净机构；所述洁净机构至少包括喷淋件和冷风件。本实用新型分别通过超声波浸洗、高压液体喷淋以及高压气体除水实现配药框的快速清洗，清洗效果理想，效率高。

Description

一种配药框清洗组件

技术领域

本实用新型涉及配药框清洗设备技术领域，具体而言，涉及一种配药框清洗组件。

背景技术

医疗用品在使用时无菌要求高，为防止污染和交叉感染，非耗材在单次使用后需通过严格处理后才能再次投入使用。这些非耗材中，静脉配制中心(pharmacy intravenousadmixture service,PIVAS)的配药框用量较大，对其进行清洗消杀工作量大，人工处理的方式使得效率低下，并且清洗效果不理想。

鉴于此，特提出本申请。

实用新型内容

针对现有技术之不足，本实用新型的目的在于提供一种配药框清洗组件，其清洗效果好，效率高。

本实用新型的实施例通过以下技术方案实现：

一种配药框清洗组件，包括机架，所述机架上设置有至少一个清洗单元；所述清洗单元包括输送组件，以及沿该输送组件输送方向依次设置的浸洗机构和洁净机构；所述洁净机构至少包括喷淋件和冷风件。

根据一种优选实施方式，所述浸洗机构至少包括浸水槽，所述浸水槽的内壁上配置有导向槽；所述输送组件嵌入所述浸水槽内，且分布于所述导向槽的下侧；所述浸水槽内配置有至少一个超声波发生组件。

根据一种优选实施方式，所述超声波发生组件包括设置于所述浸水槽内的安装盒，所述安装盒内配置有若干个超声波换能器；所述浸水槽内配置有水槽支架，所述安装盒固定于所述水槽支架上。

根据一种优选实施方式，所述输送组件包括链式传送带，该链式传送带分布于所述导向槽的下侧且嵌入所述浸水槽内；所述链式传送带包括沿其输送方向依次设置的第一段、第二段和第三段，其中：所述第三段高于所述第一段，所述第二段分布于所述第一段和第三段之间且倾斜设置；所述第一段、第二段和第三段一体成型；所述第一段分布于所述浸水槽内。

根据一种优选实施方式，所述链式传送带上配置有向外延伸的若干个定位单元，若干个定位单元沿所述链式传送带的输送方向等距均布；所述定位单元包括沿所述链式传送带的宽度方向等距均布的若干个挂板；所述挂板背向所述链式传送带的输送方向的一侧配置有脱料圆弧。

根据一种优选实施方式，至少一个所述安装盒分布于所述第一段上方；所述导向槽的出口端配置有连板，该连板连接至分布于所述第一段上方且与所述第一段相邻的所述安装盒；所述连板的下表面等于或者低于与其连接的安装盒的下表面。

根据一种优选实施方式，所述第二段的上侧设置有压网；所述压网与分布于所述第一段上方且与所述第一段相邻的所述安装盒通过弧形板连接；所述弧形板的一端连接至所述压网的下表面，另一端连接至所述安装盒。

根据一种优选实施方式，所述喷淋件包括设置于所述压网上侧的上喷淋管和设置于所述链式传送带内的下喷淋管；所述上喷淋管和所述下喷淋管均分布于所述浸水槽内；所述上喷淋管上以沿其轴向延伸的方式等距均布有若干个上喷嘴，所述下喷淋管上以沿其轴向延伸的方式等距均布有若干个下喷嘴；所述上喷嘴和所述下喷嘴相对设置。

根据一种优选实施方式，所述冷风件包括设置于所述压网上侧的冷风管，所述冷风管上以沿其轴向延伸的方式等距均布有若干个喷气嘴；所述冷风管分布于所述浸水槽内。

根据一种优选实施方式，所述机架上设置有两个清洗单元；两个所述清洗单元呈上下布置。

本实用新型实施例的技术方案至少具有如下优点和有益效果：

(1)本实用新型设置的浸洗机构用于将配药框没入液面下，以实现其完全浸泡，对其进行初步清洗，过程中可将附着在配药框表面的顽固污染物充分浸泡，便于污染物与配药框分离；

(2)本实用新型设置的洁净机构是在配药框浸洗后进一步对其进行清洗，使得配药框表面污染物被彻底清除，过程中，配药框在输送组件的作用下高于浸洗机构的液面时，喷淋件喷射高压水雾对配药框表面进行高压冲洗，将在浸洗机构残余的污染物彻底清除，随后通过冷风件向配药框喷射冷风，即喷射高压气体，将附着在配药框表面的液体清除，便于配药框后续的消毒处理以及回收。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为包含有本实用新型所述的清洗组件的清洗机的立体图；

图2为本实用新型拆除盖板和机架后的正视结构示意图；

图3为本实用新型拆除盖板和机架后的后视结构示意图；

图4为本实用新型拆除盖板、机架和浸水槽后的立体结构示意图；

图5为本实用新型中链式传送带的正视结构示意图；

图6为本实用新型中链式传送带的立体结构示意图；

图7为图2中A处结构的局部放大示意图；

图8为图2中B处结构的局部放大示意图；

图9为图4中D处结构的局部放大示意图；

图10为图2中C处结构的局部放大示意图；

图11为本实用新型中浸水槽的俯视结构示意图；

图12为图11中E-E截面的剖视结构示意图；

图13为本实用新型中浸水槽的立体结构示意图；

图14为本实用新型中导向槽的正视结构示意图；

图15为本实用新型中导向槽的立体结构示意图；

图16为本实用新型中配药框的立体结构示意图。

图标：1-机架，2-盖板，3-清洗单元，31-浸水槽，311-水槽支架，32-链式传送带，321-第一段，322-第二段，323-第三段，33-超声波发生组件，34-冷风管，341-喷气嘴，342-气管，35a-上喷淋管，35a1-上喷嘴，35b-下喷淋管，35b1-下喷嘴，352-供水管，361-压网，3611-弧形板，37-挂板，371-脱料圆弧，38-导向槽，381-隔板，3811-气孔，382-导向板，383-独立导向腔，4-上料组件，5-消毒机构，6-配药框。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，若出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，若出现术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1至图4所示，为应用于静脉配制中心(pharmacy intravenous admixtureservice,PIVAS)的配药框清洗机的结构视图，其包括依次设置的上料组件4、本实用新型所述的清洗组件和消毒机构5。在使用时，由上料组件4为清洗单元3投送配药框6，消毒机构5接续清洗组件，为清洗后的配药框6进行消毒。

请参照图1至图16，一种配药框清洗组件，包括机架1，机架1上设置有至少一个清洗单元3；清洗单元3包括输送组件，以及沿该输送组件输送方向依次设置的浸洗机构和洁净机构；洁净机构至少包括喷淋件和冷风件。本实施例中，浸洗机构用于将配药框6没入液面下，以实现其完全浸泡，对其进行初步清洗，过程中可将附着在配药框6表面的顽固污染物充分浸泡，便于污染物与配药框6分离；而洁净机构是在配药框6浸洗后进一步对其进行清洗，使得配药框6表面污染物被彻底清除，过程中，配药框6在输送组件的作用下高于浸洗机构的液面时，喷淋件喷射高压水雾对配药框6表面进行高压冲洗，将在浸洗机构残余的污染物彻底清除，随后通过冷风件向配药框6喷射冷风，即喷射高压气体，将附着在配药框6表面的液体清除，便于配药框6后续的消毒处理以及回收；实现配药框6的大批量、自动化清洗作业，有利于提高工作效率；同时，设置了至少一个清洗单元3，各清洗单元3之间可独立运行，提高工作可靠性的同时保障了工作效率，保障PIVAS的连续运行。

如图2、图11、图12和图13所示，浸洗机构至少包括浸水槽31，浸水槽31的内壁上配置有导向槽38；输送组件嵌入浸水槽31内，且分布于导向槽38的下侧；浸水槽31内配置有至少一个超声波发生组件33。进一步地，超声波发生组件33包括设置于浸水槽31内的安装盒，安装盒内配置有若干个超声波换能器；换能器为28KHz-60W；浸水槽31内配置有水槽支架311，安装盒固定于水槽支架311上。这里的导向槽38用于将配药框6准确导引至输送组件。超声波发生组件33用于在浸水槽31内产生超声波，从而实现对配药框6进行超声波清洗，以达到更好地清洗效果。

本实施例中，如图10、图12、图14和图15所示，导向槽38的出口端配置有自导向槽38向输送组件倾斜的导向板382。里的导向板382用于引导导向槽38内的配药框6，使其顺利进入浸水槽31内并到达输送组件处。本实施例中，导向槽38内配置有三个隔板381，用于将其内部空间分隔为四个独立导向腔383。可同时为浸水槽31内投入四个配药框6。隔板381上贯穿设置有气孔3811，用于连通相邻的两个独立导向腔383。本实施例中，气孔3811使得四个独立导向腔383彼此连通，从而使得四个独立导向腔383内的气压更加趋于平衡，有利于单次投入浸水槽31内的四个配药框6同步同速移动。

优选的，如图2、图3、图5和图6所示，输送组件包括链式传送带32，该链式传送带32分布于导向槽38的下侧且嵌入浸水槽31内；链式传送带32包括沿其输送方向依次设置的第一段321、第二段322和第三段323，其中：第三段323高于第一段321，第二段322分布于第一段321和第三段323之间且倾斜设置；第一段321、第二段322和第三段323一体成型；第一段321分布于浸水槽31内。这里的第一段321分布于浸水槽31内的液面以下，用于对从导向槽38进入浸水槽31内的配药框6进行支撑并输送，配药框6行至第二段322时逐步高于液面，便于进行高压水雾喷洗和高压气体除水，有利于处理后的水在此过程中回流至浸水槽31内，第三段323水平设置，便于后续的消毒处理。

为了在输送过程中对配药框6进行固定，链式传送带32上配置有向外延伸的若干个定位单元，若干个定位单元沿链式传送带32的输送方向等距均布；定位单元包括沿链式传送带32的宽度方向等距均布的若干个挂板37；挂板37背向链式传送带32的输送方向的一侧配置有脱料圆弧371。实施例中，配药框6以倒扣的方式放置在链式传送带32上侧，这里的挂板37嵌入配药框6的内腔，从而拖动配药框6跟随链式传送带32同步运动。如图10所示，在使用时，配药框6自导向槽38滑动至其出口端，在导向板382的作用下，该配药框6的下端前倾，有利于随链式传送带32运动的挂板37嵌入配药框6的内腔，从而拖动配药框6跟随链式传送带32同步运动，实现配药框6的输送。进一步地，如图7所示，挂板37背向链式传送带32的输送方向的一侧配置有脱料圆弧371。在使用时，嵌入配药框6内腔的且靠近配药框6在链式传送带32输送方向的后端的挂板37，其脱料圆弧371靠近该配药框6后端的内侧面分布，在配药框6行至出料组件处时，有利于配药框6脱离挂板37。

本实施例中，如图2所示，至少一个安装盒分布于第一段321上方；导向槽38的出口端配置有连板，该连板连接至分布于第一段321上方且与第一段321相邻的安装盒；连板的下表面等于或者低于与其连接的安装盒的下表面。这里的安装盒一方面用于安装超声波换能器，另一方面配合连板与导向槽38的上沿在第一段321上方形成封闭限位，以保证配药框6能够完全没入液面以下。本实施例中，所使用的配药框6的密度略小于浸水槽31内水的密度，在使用时，可通过给导向槽38内同时投入多个配药框6，从而使的上侧的配药框6对最下侧的配药框6施加压力，从而使其克服浮力，以实现如图10所示的配药框6与挂板37的配合。

如图2、图3、图4、图7、图8和图9所示，为了防止处于第二段322的配药框6在喷淋件和冷风件的作用下脱离链式传送带32，本实施例中，第二段322的上侧设置有压网361；压网361与分布于第一段321上方且与第一段321相邻的安装盒通过弧形板3611连接；弧形板3611的一端连接至压网361的下表面，另一端连接至安装盒。这里的弧形板3611用于在安装盒与压网361之间形成过渡，便于配药框6顺利进入第二段322与压网361之间的区域。优选的，压网361为不锈钢网，安装在水槽支架311上。这里的压网361一方面用于对配药框6进行限位，另一方面可将通过喷淋件和冷风件处理产生的水导流至浸水槽31内。

进一步地，喷淋件包括设置于压网361上侧的上喷淋管35a和设置于链式传送带32内的下喷淋管35b；上喷淋管35a和下喷淋管35b均分布于浸水槽31内；上喷淋管35a上以沿其轴向延伸的方式等距均布有若干个上喷嘴35a1，下喷淋管35b上以沿其轴向延伸的方式等距均布有若干个下喷嘴35b1；上喷嘴35a1和下喷嘴35b1相对设置。本实施例中，上喷淋管35a和下喷淋管35b均连通至供水管352，供水管352通过水泵连通至浸水槽31，形成循环。本实施例中，上喷淋管35a和下喷淋管35b均分布于浸水槽31内，并且在液面以上，可防止喷淋的水溢出浸水槽31。通过喷嘴喷射高压水雾或者水流对配药框6进行清洗。进一步地，冷风件包括设置于压网361上侧的冷风管34，冷风管34上以沿其轴向延伸的方式等距均布有若干个喷气嘴341；冷风管34分布于浸水槽31内。这里的冷风管34设置于浸水槽31内且处于喷淋管下游，用于通过高压气体将配药框6表面的残留水分清除，便于清除的这部分水回收至浸水槽31内。在其他实施例中，冷风管34的位置不做具体限制，以其能够将清除的水回流至浸水槽31为原则。本实施例中，冷风管34通过气管342连通至第一风机，第一风机和水泵都安装在机架1上。

为了进一步提高清洗效率，如图1至4所示，机架1上设置有两个清洗单元3；两个清洗单元3呈上下布置。本实施例中，上下两个清洗单元3的浸水槽31通过第一溢流管连通，第一溢流管上安装有第一电磁阀。在使用时，两个浸水槽31内的液面高度预设为一定值，当上侧浸水槽31内水达到液面高度后，第一电磁阀开启，多余的水通过第一溢流管流至下侧浸水槽31内，直至下侧浸水槽31内液面高度达到预设值，第一电磁阀关闭。进一步地，在下侧的浸水槽31上配置有第二溢流管，第二溢流管上配置有第二电磁阀。当需要将上下两个浸水槽31内的水进行更换时，两个电磁阀同时开启即可，浸水槽31内的水通过第二溢流管排至清洗机外。通过上下设置的结构，可进一步节省空间，使得结构紧凑，同时提高了工作效率，同时，上下两个清洗单元3之间可独立运行，有助于减少设备的故障率，提高工作可靠性的同时保障了工作效率，保障PIVAS的连续运行。需要说明是，在其他实施例中，对清洗单元3的数量不做具体限制，可根据需要确定清洗单元3的数量。

如图1所示，本实施例中，机架1外配置有盖板2，用于形成封闭结构。

以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种配药框清洗组件，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)上设置有至少一个清洗单元(3)；

所述清洗单元(3)包括输送组件，以及沿该输送组件输送方向依次设置的浸洗机构和洁净机构；

所述洁净机构至少包括喷淋件和冷风件。

2.根据权利要求1所述的配药框清洗组件，其特征在于：所述浸洗机构至少包括浸水槽(31)，所述浸水槽(31)的内壁上配置有导向槽(38)；

所述输送组件嵌入所述浸水槽(31)内，且分布于所述导向槽(38)的下侧；

所述浸水槽(31)内配置有至少一个超声波发生组件(33)。

3.根据权利要求2所述的配药框清洗组件，其特征在于：所述超声波发生组件(33)包括设置于所述浸水槽(31)内的安装盒，所述安装盒内配置有若干个超声波换能器；所述浸水槽(31)内配置有水槽支架(311)，所述安装盒固定于所述水槽支架(311)上。

4.根据权利要求3所述的配药框清洗组件，其特征在于：所述输送组件包括链式传送带(32)，该链式传送带(32)分布于所述导向槽(38)的下侧且嵌入所述浸水槽(31)内；

所述链式传送带(32)包括沿其输送方向依次设置的第一段(321)、第二段(322)和第三段(323)，其中：

所述第三段(323)高于所述第一段(321)，所述第二段(322)分布于所述第一段(321)和第三段(323)之间且倾斜设置；

所述第一段(321)、第二段(322)和第三段(323)一体成型；

所述第一段(321)分布于所述浸水槽(31)内。

5.根据权利要求4所述的配药框清洗组件，其特征在于：所述链式传送带(32)上配置有向外延伸的若干个定位单元，若干个定位单元沿所述链式传送带(32)的输送方向等距均布；

所述定位单元包括沿所述链式传送带(32)的宽度方向等距均布的若干个挂板(37)；

所述挂板(37)背向所述链式传送带(32)的输送方向的一侧配置有脱料圆弧(371)。

6.根据权利要求4或5所述的配药框清洗组件，其特征在于：至少一个所述安装盒分布于所述第一段(321)上方；

所述导向槽(38)的出口端配置有连板，该连板连接至分布于所述第一段(321)上方且与所述第一段(321)相邻的所述安装盒；所述连板的下表面等于或者低于与其连接的安装盒的下表面。

7.根据权利要求6所述的配药框清洗组件，其特征在于：所述第二段(322)的上侧设置有压网(361)；

所述压网(361)与分布于所述第一段(321)上方且与所述第一段(321)相邻的所述安装盒通过弧形板(3611)连接；

所述弧形板(3611)的一端连接至所述压网(361)的下表面，另一端连接至所述安装盒。

8.根据权利要求7所述的配药框清洗组件，其特征在于：所述喷淋件包括设置于所述压网(361)上侧的上喷淋管(35a)和设置于所述链式传送带(32)内的下喷淋管(35b)；所述上喷淋管(35a)和所述下喷淋管(35b)均分布于所述浸水槽(31)内；

所述上喷淋管(35a)上以沿其轴向延伸的方式等距均布有若干个上喷嘴(35a1)，所述下喷淋管(35b)上以沿其轴向延伸的方式等距均布有若干个下喷嘴(35b1)；

所述上喷嘴(35a1)和所述下喷嘴(35b1)相对设置。

9.根据权利要求8所述的配药框清洗组件，其特征在于：所述冷风件包括设置于所述压网(361)上侧的冷风管(34)，所述冷风管(34)上以沿其轴向延伸的方式等距均布有若干个喷气嘴(341)；

所述冷风管(34)分布于所述浸水槽(31)内。

10.根据权利要求1所述的配药框清洗组件，其特征在于：所述机架(1)上设置有两个清洗单元(3)；

两个所述清洗单元(3)呈上下布置。

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