CN216504318U

CN216504318U - 一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置

Info

Publication number: CN216504318U
Application number: CN202123066574.3U
Authority: CN
Inventors: 贺贤汉; 周杰; 李有群; 陈辉; 孙大方
Original assignee: Anhui Microchip Changjiang Semiconductor Materials Co ltd
Current assignee: Anhui Microchip Changjiang Semiconductor Materials Co ltd
Priority date: 2021-12-08
Filing date: 2021-12-08
Publication date: 2022-05-13
Anticipated expiration: 2031-12-08

Abstract

本实用新型涉及碳化硅晶片技术领域，具体为一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括清洗箱，还包括移动抽出机构、冲洗机构和擦洗机构，所述移动抽出机构固定安装在清洗箱内部，所述移动抽出机构顶部固定安装有固定机构，本实用新型通过设置有擦洗机构和清洗剂上料机构，向上推动固定板使固定板带动两侧的活动钩与活动块两侧相接触，持续推动使活动钩两侧向内折叠，直至通过活动块，活动钩再进行回弹，从而使活动钩与活动块固定连接，从而使固定板带动海绵擦固定安装在安装块底部，再拧动螺纹杆使螺纹杆带动滴管拧紧固定在螺纹套内侧，从而使滴管与固定板进行连接，将清洗剂倒入盛放罐内部，使清洗剂通过滴管缓慢滴入固定板内部被海绵擦吸收。

Description

一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置

技术领域

本实用新型涉及碳化硅晶片技术领域，特别是涉及一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置。

背景技术

碳化硅晶片的主要应用领域有LED固体照明和高频率器件，该材料具有高出传统硅数倍的禁带、漂移速度、击穿电压、热导率、耐高温等优良特性，在高温、高压、高频、大功率、光电、抗辐射、微波性等电子应用领域和航天、军工、核能等极端环境应用有着不可替代的优势，碳化硅晶片在加工时需要进行研磨，研磨之后晶片表面会残留大量的粉末和化学制剂，需要进行清洗，以便于后续的使用。

目前使用的清洗装置在使用时通常无法更加便捷的对晶片表面进行擦洗，不能更好的对晶片表面的化学制剂进行彻底清洗，容易有残留，同时无法更加便捷的对清洗剂进行上料，使用不够便捷自动化。

因此，现在亟需设计一种能解决上述一个或者多个问题的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置。

实用新型内容

为解决现有技术中存在的一个或者多个问题，本实用新型提供了一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置。

本实用新型为达到上述目的所采用的技术方案是：一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括清洗箱，还包括移动抽出机构、冲洗机构和擦洗机构，所述移动抽出机构固定安装在清洗箱内部，所述移动抽出机构顶部固定安装有固定机构，所述固定机构底部两侧固定安装有缓冲减震机构，所述冲洗机构固定安装在清洗箱外壁一侧，所述擦洗机构固定安装在清洗箱顶部一侧，所述擦洗机构包括固定板，所述擦洗机构一侧设置有清洗剂上料机构，所述清洗剂上料机构包括固定安装在清洗箱顶部一侧的盛放罐、连接固定在盛放罐底部的滴管、固定安装在滴管一端的螺纹杆、开设在固定板一侧的进料口和固定安装在进料口顶部的螺纹套。

优选的，所述移动抽出机构包括抽板、滤网、集水箱、两个分别固定安装在清洗箱内壁两侧的连接板、两个分别开设在两个连接板一侧的滑槽和四个分别配合安装在两个滑槽内侧的滑块，所述抽板固定安装在四个滑块之间，所述滤网固定安装在抽板内侧，所述集水箱固定安装在抽板下方。

优选的，所述固定机构包括安装板、支撑台、托板、两个分别固定安装在托板内部两侧的电动推杆、两个分别固定安装在两个电动推杆的伸缩端的延长板和两个分别固定安装在两个延长板顶部的弧形夹板，所述安装板固定安装在抽板顶部，所述支撑台固定安装在安装板顶部，所述托板固定安装在支撑台顶部。

优选的，所述缓冲减震机构包括两个分别固定安装在安装板顶部两侧的伸缩套、两个分别固定安装在两个伸缩套内部的固定块、两个分别固定安装在两个固定块顶部的伸缩弹簧和两个分别固定安装在两个伸缩弹簧顶部的伸缩杆，两个所述伸缩杆顶部固定安装在托板底部。

优选的，所述冲洗机构包括水箱、连接管、支撑板和出水管，所述水箱固定安装在清洗箱顶部，所述连接管固定连接在水箱一侧，所述支撑板固定安装在清洗箱内壁一侧，所述出水管固定安装在支撑板一侧。

优选的，所述擦洗机构包括气缸、推杆、连接块、电动旋转块、安装块、固定板、海绵擦、多个分别固定安装在安装块底部两侧的活动块和多个分别配合安装在多个活动块内侧的活动钩，所述气缸固定安装在清洗箱顶部一侧，所述推杆固定连接在气缸底部，所述连接块固定安装在推杆底部，所述电动旋转块固定安装在连接块底部，所述安装块固定安装在电动旋转块底部，所述固定板固定安装在多个活动钩一侧，所述海绵擦固定安装在固定板底部。

本实用新型的有益效果是：

其一：本实用新型通过设置有擦洗机构和清洗剂上料机构，向上推动固定板使固定板带动两侧的活动钩与活动块两侧相接触，持续推动使活动钩两侧向内折叠，直至通过活动块，活动钩再进行回弹，从而使活动钩与活动块固定连接，从而使固定板带动海绵擦固定安装在安装块底部，再拧动螺纹杆使螺纹杆带动滴管拧紧固定在螺纹套内侧，从而使滴管与固定板进行连接，将清洗剂倒入盛放罐内部，使清洗剂通过滴管缓慢滴入固定板内部，从而被海绵擦吸收，可以更加便捷的自动化的对清洗剂进行上料，使海绵擦内部始终保持有清洗剂的存在，同时清洗剂更加的均匀，更容易化开，对晶片的清洗更加的彻底，再打开气缸使气缸带动推杆向下延伸，使海绵擦与晶片顶部相接触，再打开电动旋转块使电动旋转块带动海绵擦进行旋转，旋转过程中对晶片表面进行清洗，可以有效的清理晶片表面的化学制剂的残留，清洗更加的彻底，活动块和活动钩的设置可以更加便捷的对海绵擦进行更换，防止海绵擦长时间使用导致损坏，无法及时更换，影响后续的使用。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图；

图2为本实用新型的固定机构和缓冲减震机构结构示意图；

图3为本实用新型的擦洗机构和清洗剂上料机构结构示意图；

图4为本实用新型的图3中A处放大结构示意图。

附图标记说明：1、清洗箱；2、移动抽出机构；21、连接板；22、滑槽；23、滑块；24、抽板；25、滤网；26、集水箱；3、固定机构；31、安装板；32、支撑台；33、托板；34、电动推杆；35、延长板；36、弧形夹板；4、缓冲减震机构；41、伸缩套；42、固定块；43、伸缩弹簧；44、伸缩杆；5、晶片；6、冲洗机构；61、水箱；62、连接管；63、支撑板；64、出水管；7、擦洗机构；71、气缸；72、推杆；73、连接块；74、电动旋转块；75、安装块；76、活动块；77、活动钩；78、固定板；79、海绵擦；8、清洗剂上料机构；81、盛放罐；82、滴管；83、螺纹杆；84、进料口；85、螺纹套。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加浅显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

如图1至4所示，本实用新型提供了一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括清洗箱1，还包括移动抽出机构2、冲洗机构6和擦洗机构7，移动抽出机构2固定安装在清洗箱1内部，移动抽出机构2顶部固定安装有固定机构3，固定机构3底部两侧固定安装有缓冲减震机构4，冲洗机构6固定安装在清洗箱1外壁一侧，擦洗机构7固定安装在清洗箱1顶部一侧，擦洗机构7包括固定板78，擦洗机构7一侧设置有清洗剂上料机构8，清洗剂上料机构8包括固定安装在清洗箱1顶部一侧的盛放罐81、连接固定在盛放罐81底部的滴管82、固定安装在滴管82一端的螺纹杆83、开设在固定板78一侧的进料口84和固定安装在进料口84顶部的螺纹套85。

上述具体实施方案：拧动螺纹杆83使螺纹杆83带动滴管82拧紧固定在螺纹套85内侧，从而使滴管82与固定板78进行连接，将清洗剂倒入盛放罐81内部，使清洗剂通过滴管82缓慢滴入固定板78内部，从而被海绵擦79吸收，可以更加便捷的自动化的对清洗剂进行上料，使海绵擦79内部始终保持有清洗剂的存在，同时清洗剂更加的均匀，更容易化开，对晶片5的清洗更加的彻底。

具体的，移动抽出机构2包括抽板24、滤网25、集水箱26、两个分别固定安装在清洗箱1内壁两侧的连接板21、两个分别开设在两个连接板21一侧的滑槽22和四个分别配合安装在两个滑槽22内侧的滑块23，抽板24固定安装在四个滑块23之间，滤网25固定安装在抽板24内侧，集水箱26固定安装在抽板24下方，通过设置有连接板21、滑槽22、滑块23、抽板24、滤网25和集水箱26，可以更加便捷的对装置内部的固定机构3进行移动抽出，使工作人员可以更加便捷的对晶片5进行放置，使晶片5的放置更加的稳定，提升了装置的使用效果。

具体的，固定机构3包括安装板31、支撑台32、托板33、两个分别固定安装在托板33内部两侧的电动推杆34、两个分别固定安装在两个电动推杆34的伸缩端的延长板35和两个分别固定安装在两个延长板35顶部的弧形夹板36，安装板31固定安装在抽板24顶部，支撑台32固定安装在安装板31顶部，托板33固定安装在支撑台32顶部，通过设置有安装板31、支撑台32、托板33、电动推杆34、延长板35和弧形夹板36，可以更加便捷快速的对晶片5进行夹持固定，在清洗过程中使晶片5更加的稳定，避免晶片5晃动，导致清洗不彻底。

具体的，缓冲减震机构4包括两个分别固定安装在安装板31顶部两侧的伸缩套41、两个分别固定安装在两个伸缩套41内部的固定块42、两个分别固定安装在两个固定块42顶部的伸缩弹簧43和两个分别固定安装在两个伸缩弹簧43顶部的伸缩杆44，两个伸缩杆44顶部固定安装在托板33底部，通过设置有伸缩套41、固定块42、伸缩弹簧43和伸缩杆44，可以更好的在清洗过程中对晶片5进行缓冲减震，防止在清洗过程中海绵擦79与晶片5之间产生较大的压力，导致晶片5的损坏，影响晶片5后续的使用。

具体的，冲洗机构6包括水箱61、连接管62、支撑板63和出水管64，水箱61固定安装在清洗箱1顶部，连接管62固定连接在水箱61一侧，支撑板63固定安装在清洗箱1内壁一侧，出水管64固定安装在支撑板63一侧，通过设置有水箱61、连接管62、支撑板63和出水管64，可以更加便捷的对晶片5表面残留的清洗剂进行冲洗，操作更加的简单自动化，大大提升装置的便捷性。

具体的，擦洗机构7包括气缸71、推杆72、连接块73、电动旋转块74、安装块75、固定板78、海绵擦79、多个分别固定安装在安装块75底部两侧的活动块76和多个分别配合安装在多个活动块76内侧的活动钩77，气缸71固定安装在清洗箱1顶部一侧，推杆72固定连接在气缸71底部，连接块73固定安装在推杆72底部，电动旋转块74固定安装在连接块73底部，安装块75固定安装在电动旋转块74底部，固定板78固定安装在多个活动钩77一侧，海绵擦79固定安装在固定板78底部，通过设置有气缸71、推杆72、连接块73、电动旋转块74、安装块75、活动块76、活动钩77、固定板78和海绵擦79，可以有效的清理晶片5表面的化学制剂的残留，清洗更加的彻底，活动块76和活动钩77的设置可以更加便捷的对海绵擦79进行更换，防止海绵擦79长时间使用导致损坏，无法及时更换，影响后续的使用。

综上，本实用新型包括：首先接通外部电源，拉动抽板24使抽板24带动滑块23在滑槽22内部进行滑动抽出，从而使抽板24带动固定机构3抽出，将晶片5放置在托板33顶部，再打开电动推杆34使电动推杆34带动延长板35向内收缩，直至弧形夹板36将晶片5夹紧固定，然后将抽板24推入清洗箱1内部，再向上推动固定板78使固定板78带动两侧的活动钩77与活动块76两侧相接触，持续推动使活动钩77两侧向内折叠，直至通过活动块76，活动钩77再进行回弹，从而使活动钩77与活动块76固定连接，从而使固定板78带动海绵擦79固定安装在安装块75底部，其次拧动螺纹杆83使螺纹杆83带动滴管82拧紧固定在螺纹套85内侧，从而使滴管82与固定板78进行连接，将清洗剂倒入盛放罐81内部，使清洗剂通过滴管82缓慢滴入固定板78内部，从而被海绵擦79吸收，打开气缸71使气缸71带动推杆72向下延伸，使海绵擦79与晶片5顶部相接触，再打开电动旋转块74使电动旋转块74带动海绵擦79进行旋转，旋转过程中对晶片5表面进行清洗，最后打开水箱61开关，使水箱61内部的水从连接管62进入出水管64，对晶片5表面的清洗剂进行冲洗，其中电动推杆34的型号为：YS-NZ100-12A，气缸71的型号为：XYDHA24-800，电动旋转块74的型号为：DG60-5。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的一种或者多种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims

1.一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括清洗箱（1），其特征在于：还包括移动抽出机构（2）、冲洗机构（6）和擦洗机构（7），所述移动抽出机构（2）固定安装在清洗箱（1）内部，所述移动抽出机构（2）顶部固定安装有固定机构（3），所述固定机构（3）底部两侧固定安装有缓冲减震机构（4），所述冲洗机构（6）固定安装在清洗箱（1）外壁一侧，所述擦洗机构（7）固定安装在清洗箱（1）顶部一侧，所述擦洗机构（7）包括固定板（78），所述擦洗机构（7）一侧设置有清洗剂上料机构（8），所述清洗剂上料机构（8）包括固定安装在清洗箱（1）顶部一侧的盛放罐（81）、连接固定在盛放罐（81）底部的滴管（82）、固定安装在滴管（82）一端的螺纹杆（83）、开设在固定板（78）一侧的进料口（84）和固定安装在进料口（84）顶部的螺纹套（85）。

2.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述移动抽出机构（2）包括抽板（24）、滤网（25）、集水箱（26）、两个分别固定安装在清洗箱（1）内壁两侧的连接板（21）、两个分别开设在两个连接板（21）一侧的滑槽（22）和四个分别配合安装在两个滑槽（22）内侧的滑块（23），所述抽板（24）固定安装在四个滑块（23）之间，所述滤网（25）固定安装在抽板（24）内侧，所述集水箱（26）固定安装在抽板（24）下方。

3.根据权利要求2所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述固定机构（3）包括安装板（31）、支撑台（32）、托板（33）、两个分别固定安装在托板（33）内部两侧的电动推杆（34）、两个分别固定安装在两个电动推杆（34）的伸缩端的延长板（35）和两个分别固定安装在两个延长板（35）顶部的弧形夹板（36），所述安装板（31）固定安装在抽板（24）顶部，所述支撑台（32）固定安装在安装板（31）顶部，所述托板（33）固定安装在支撑台（32）顶部。

4.根据权利要求3所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述缓冲减震机构（4）包括两个分别固定安装在安装板（31）顶部两侧的伸缩套（41）、两个分别固定安装在两个伸缩套（41）内部的固定块（42）、两个分别固定安装在两个固定块（42）顶部的伸缩弹簧（43）和两个分别固定安装在两个伸缩弹簧（43）顶部的伸缩杆（44），两个所述伸缩杆（44）顶部固定安装在托板（33）底部。

5.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述冲洗机构（6）包括水箱（61）、连接管（62）、支撑板（63）和出水管（64），所述水箱（61）固定安装在清洗箱（1）顶部，所述连接管（62）固定连接在水箱（61）一侧，所述支撑板（63）固定安装在清洗箱（1）内壁一侧，所述出水管（64）固定安装在支撑板（63）一侧。

6.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述擦洗机构（7）包括气缸（71）、推杆（72）、连接块（73）、电动旋转块（74）、安装块（75）、固定板（78）、海绵擦（79）、多个分别固定安装在安装块（75）底部两侧的活动块（76）和多个分别配合安装在多个活动块（76）内侧的活动钩（77），所述气缸（71）固定安装在清洗箱（1）顶部一侧，所述推杆（72）固定连接在气缸（71）底部，所述连接块（73）固定安装在推杆（72）底部，所述电动旋转块（74）固定安装在连接块（73）底部，所述安装块（75）固定安装在电动旋转块（74）底部，所述固定板（78）固定安装在多个活动钩（77）一侧，所述海绵擦（79）固定安装在固定板（78）底部。