CN208225846U - 一种硅片单面清洗机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片单面清洗机，包括箱体、支架、气缸、斜面推头、连接杆、放料板、避让槽、支撑夹紧机构、伺服电机、丝杠、进给螺母、滑座、水箱、针型喷头，打开送料门，手动将硅片放置在放料板上，气缸回程，当斜面推头与楔形块接触后，随着气缸回程，4件对称布置的支撑夹紧机构同时工作，弹簧复位推动楔形块沿滑轨向斜面推头移动，从而带动支撑杆移动，进而带动4件对称布置的支撑夹紧机构收缩合拢将硅片夹紧，伺服电机工作，带动与水箱固连的针型喷头移动，向水箱内泵入高压的清洗液，清洗液经针型喷头喷出对硅片进行单面清洗。该装置结构简单，自动将硅片托起、夹紧，硅片夹紧时处于“浮动”状态，使得冲洗均匀，提高清洗效果。

Description

一种硅片单面清洗机

技术领域

本实用新型涉及一种机械装置，尤其涉及一种硅片单面清洗机。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，清除污染的方法有物理清洗和化学清洗，物理清洗主要是采用刷洗或擦洗的方法将硅片表面杂质去除，化学清洗主要采用清洗液直接浸泡清洗，实际生产过程中，直接浸泡时硅片往往放置于吊篮内浸入溶液，由于硅片之间相互叠加，导致清洗不均匀，而且硅片与吊篮的接触面积较大，也容易产生冲洗不干净的质量问题。鉴于以上缺陷，实有必要设计一种硅片单面清洗机。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于：提供一种硅片单面清洗机，来解决由于硅片相互叠加导致清洗不均匀的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种硅片单面清洗机，包括箱体、支架、气缸、斜面推头、连接杆、放料板、避让槽、支撑夹紧机构、伺服电机、丝杠、进给螺母、滑座、水箱、针型喷头，所述的支架位于箱体内侧底部，所述的支架与箱体通过螺栓相连，所述的气缸位于支架下端，所述的气缸与支架通过螺栓相连，所述的斜面推头位于气缸上端且贯穿支架，所述的斜面推头与气缸螺纹相连，所述的连接杆位于斜面推头上端，所述的连接杆与斜面推头螺纹相连，所述的放料板位于连接杆上端，所述的放料板与连接板螺纹相连，所述的避让槽数量为4件，沿放料板对称布置，所述的支撑夹紧机构数量为4件，沿所述支架对称布置，所述的伺服电机位于箱体顶部左侧，所述的伺服电机与箱体通过螺栓相连，所述的丝杠位于伺服电机右侧且位于箱体顶部，所述的丝杠与伺服电机键相连且与箱体转动相连，所述的丝杠贯穿进给螺母，所述的进给螺母与丝杠螺纹相连，所述的滑座位于进给螺母外侧且位于箱体顶部，所述的滑座与进给螺母通过螺栓相连且与箱体滑动相连，所述的水箱位于滑座下端，所述的水箱与滑座通过螺栓相连，所述的针型喷头位于水箱下端，所述的针型喷头与水箱螺纹相连。

本实用新型进一步的改进如下：

进一步的，所述的箱体还设有送料门，所述的送料门与箱体铰链相连。

进一步的，所述的箱体还设有废液盒，所述的废液盒位于箱体底部，所述的废液盒与箱体焊接相连，废液盒用于收集清洗后的废液。

进一步的，所述的废液盒还设有排污管，所述的排污管位于废液盒外侧，所述的排污管与废液盒螺纹相连，排污管用于将废液排出。

进一步的，所述的放料板还设有若干定位片，所述的定位片位于放料板侧面，所述的定位片与放料板通过螺栓相连。

进一步的，所述的支撑夹紧机构还包括导套、导杆、楔形块、弹簧、支撑杆、L形护套，所述的导套位于支架上端，所述的导套与支架通过螺栓相连，所述的导杆贯穿导套，所述的导杆可以沿导套左右滑动，所述的楔形块位于导杆外侧且位于支架上端，所述的楔形块与导杆螺纹相连且与支架通过螺栓相连，所述的弹簧位于导杆外侧且位于楔形块和导套之间，所述的支撑杆位于楔形块上端，所述的支撑杆与楔形块焊接相连，所述的L形护套位于支撑杆顶部，所述的L形护套与支撑杆粘接相连，4件对称布置的L形护套组成夹紧定位区域，将硅片精确定位、夹紧。

进一步的，所述的楔形块还设有滑轨，所述的滑轨位于支架上端且贯穿楔形块，所述的滑轨与支架通过螺栓相连，所述的楔形块可以沿滑轨左右滑动。

进一步的，所述的导杆还设有限位头，所述的限位头与导杆一体相连。

进一步的，所述的限位头还设有防撞垫，所述的防撞垫与限位头粘接相连。

与现有技术相比，该硅片单面清洗机，初始状态下，气缸处于伸出状态，斜面推头的外侧与支撑杆接触，且放料板的高度高于支撑杆的高度，打开送料门，手动将硅片放置在放料板上，定位片对硅片进行限位，防止硅片滑落，随后，气缸回程，当斜面推头与楔形块接触后，随着气缸的继续回程，4件对称布置的支撑夹紧机构同时工作，弹簧复位推动楔形块沿滑轨向斜面推头移动，从而带动支撑杆移动，进而带动4件对称布置的支撑夹紧机构收缩合拢，由于放料板随斜面推头下移，因此，支撑杆沿避让槽上移，直到4件对称布置的支撑杆将硅片托起，随着斜面推头的进一步下移，弹簧进一步复位带动件对称布置的支撑杆将硅片夹紧，随后，伺服电机通过丝杠带动与进给螺母固连的滑座移动，从而带动与水箱固连的针型喷头移动，向水箱内泵入高压的清洗液，清洗液经针型喷头喷出，从而对硅片进行单面清洗。该装置结构简单，自动将硅片托起、夹紧，硅片夹紧时处于“浮动”状态，使得冲洗均匀，提高清洗效果。

附图说明

图1示出本实用新型主视图

图2示出本实用新型放料板结构示意图

图3示出本实用新型支撑夹紧机构结构示意图

图中：箱体1、支架、气缸3、斜面推头4、连接杆5、放料板6、避让槽7、支撑夹紧机构8、伺服电机9、丝杠10、进给螺母11、滑座12、水箱13、针型喷头14、送料门101、废液盒102、排污管103、定位片601、导套801、导杆802、楔形块803、弹簧804、支撑杆805、L形护套806、滑轨807、限位头808、防撞垫809。

具体实施方式

如图1、图2、图3所示，一种硅片单面清洗机，包括箱体1、支架2、气缸3、斜面推头4、连接杆5、放料板6、避让槽7、支撑夹紧机构8、伺服电机9、丝杠10、进给螺母11、滑座12、水箱13、针型喷头14，所述的支架2位于箱体1内侧底部，所述的支架2与箱体1通过螺栓相连，所述的气缸3位于支架2下端，所述的气缸3与支架2通过螺栓相连，所述的斜面推头4位于气缸3上端且贯穿支架2，所述的斜面推头4与气缸3螺纹相连，所述的连接杆5位于斜面推头4上端，所述的连接杆5与斜面推头4螺纹相连，所述的放料板6位于连接杆5上端，所述的放料板6与连接板5螺纹相连，所述的避让槽7数量为4件，沿放料板6对称布置，所述的支撑夹紧机构8数量为4件，沿所述支架2对称布置，所述的伺服电机9位于箱体1顶部左侧，所述的伺服电机9与箱体1通过螺栓相连，所述的丝杠10位于伺服电机9右侧且位于箱体1顶部，所述的丝杠10与伺服电机9键相连且与箱体1转动相连，所述的丝杠10贯穿进给螺母11，所述的进给螺母11与丝杠10螺纹相连，所述的滑座12位于进给螺母11外侧且位于箱体1顶部，所述的滑座12与进给螺母11通过螺栓相连且与箱体1滑动相连，所述的水箱13位于滑座12下端，所述的水箱13与滑座12通过螺栓相连，所述的针型喷头14位于水箱13下端，所述的针型喷头14与水箱13螺纹相连，所述的箱体1还设有送料门101，所述的送料门101与箱体1铰链相连，所述的箱体1还设有废液盒102，所述的废液盒102位于箱体1底部，所述的废液盒102与箱体1焊接相连，废液盒102用于收集清洗后的废液，所述的废液盒102还设有排污管103，所述的排污管103位于废液盒102外侧，所述的排污管103与废液盒102螺纹相连，排污管103用于将废液排出，所述的放料板6还设有若干定位片601，所述的定位片601位于放料板6侧面，所述的定位片601与放料板6通过螺栓相连，所述的支撑夹紧机构8还包括导套801、导杆802、楔形块803、弹簧804、支撑杆805、L形护套806，所述的导套801位于支架2上端，所述的导套801与支架2通过螺栓相连，所述的导杆802贯穿导套801，所述的导杆802可以沿导套801左右滑动，所述的楔形块803位于导杆802外侧且位于支架2上端，所述的楔形块803与导杆802螺纹相连且与支架2通过螺栓相连，所述的弹簧804位于导杆802外侧且位于楔形块803和导套801之间，所述的支撑杆805位于楔形块803上端，所述的支撑杆805与楔形块803焊接相连，所述的L形护套806位于支撑杆805顶部，所述的L形护套806与支撑杆805粘接相连，4件对称布置的L形护套806组成夹紧定位区域，将硅片精确定位、夹紧，所述的楔形块803还设有滑轨807，所述的滑轨807位于支架2上端且贯穿楔形块803，所述的滑轨807与支架2通过螺栓相连，所述的楔形块803可以沿滑轨807左右滑动，所述的导杆802还设有限位头808，所述的限位头与导杆802一体相连，所述的限位头808还设有防撞垫80，所述的防撞垫809与限位头808粘接相连，该硅片单面清洗机，初始状态下，气缸3处于伸出状态，斜面推头4的外侧与支撑杆805接触，且放料板6的高度高于支撑杆805的高度，打开送料门101，手动将硅片放置在放料板6上，定位片601对硅片进行限位，防止硅片滑落，随后，气缸3回程，当斜面推头4与楔形块803接触后，随着气缸3的继续回程，4件对称布置的支撑夹紧机构8同时工作，弹簧804复位推动楔形块803沿滑轨807向斜面推头3移动，从而带动支撑杆805移动，进而带动4件对称布置的支撑夹紧机构8收缩合拢，由于放料板6随斜面推头3下移，因此，支撑杆805沿避让槽7上移，直到4件对称布置的支撑杆805将硅片托起，随着斜面推头4的进一步下移，弹簧804进一步复位带动4件对称布置的支撑杆805将硅片夹紧，随后，伺服电机9通过丝杠10带动与进给螺母11固连的滑座12移动，从而带动与水箱13固连的针型喷头14移动，向水箱13内泵入高压的清洗液，清洗液经针型喷头14喷出，从而对硅片进行单面清洗。该装置结构简单，自动将硅片托起、夹紧，硅片夹紧时处于“浮动”状态，使得冲洗均匀，提高清洗效果。

本实用新型不局限于上述具体的实施方式，本领域的普通技术人员从上述构思出发，不经过创造性的劳动，所做出的种种变换，均落在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种硅片单面清洗机，其特征在于包括箱体、支架、气缸、斜面推头、连接杆、放料板、避让槽、支撑夹紧机构、伺服电机、丝杠、进给螺母、滑座、水箱、针型喷头，所述的支架位于箱体内侧底部，所述的支架与箱体通过螺栓相连，所述的气缸位于支架下端，所述的气缸与支架通过螺栓相连，所述的斜面推头位于气缸上端且贯穿支架，所述的斜面推头与气缸螺纹相连，所述的连接杆位于斜面推头上端，所述的连接杆与斜面推头螺纹相连，所述的放料板位于连接杆上端，所述的放料板与连接板螺纹相连，所述的避让槽数量为4件，沿放料板对称布置，所述的支撑夹紧机构数量为4件，沿所述支架对称布置，所述的伺服电机位于箱体顶部左侧，所述的伺服电机与箱体通过螺栓相连，所述的丝杠位于伺服电机右侧且位于箱体顶部，所述的丝杠与伺服电机键相连且与箱体转动相连，所述的丝杠贯穿进给螺母，所述的进给螺母与丝杠螺纹相连，所述的滑座位于进给螺母外侧且位于箱体顶部，所述的滑座与进给螺母通过螺栓相连且与箱体滑动相连，所述的水箱位于滑座下端，所述的水箱与滑座通过螺栓相连，所述的针型喷头位于水箱下端，所述的针型喷头与水箱螺纹相连。

2.如权利要求1所述的硅片单面清洗机，其特征在于所述的箱体还设有送料门，所述的送料门与箱体铰链相连。

3.如权利要求1所述的硅片单面清洗机，其特征在于所述的箱体还设有废液盒，所述的废液盒位于箱体底部，所述的废液盒与箱体焊接相连。

4.如权利要求3所述的硅片单面清洗机，其特征在于所述的废液盒还设有排污管，所述的排污管位于废液盒外侧，所述的排污管与废液盒螺纹相连。

5.如权利要求1所述的硅片单面清洗机，其特征在于所述的放料板还设有若干定位片，所述的定位片位于放料板侧面，所述的定位片与放料板通过螺栓相连。

6.如权利要求1所述的硅片单面清洗机，其特征在于所述的支撑夹紧机构还包括导套、导杆、楔形块、弹簧、支撑杆、L形护套，所述的导套位于支架上端，所述的导套与支架通过螺栓相连，所述的导杆贯穿导套，所述的导杆可以沿导套左右滑动，所述的楔形块位于导杆外侧且位于支架上端，所述的楔形块与导杆螺纹相连且与支架通过螺栓相连，所述的弹簧位于导杆外侧且位于楔形块和导套之间，所述的支撑杆位于楔形块上端，所述的支撑杆与楔形块焊接相连，所述的L形护套位于支撑杆顶部，所述的L形护套与支撑杆粘接相连。

7.如权利要求6所述的硅片单面清洗机，其特征在于所述的楔形块还设有滑轨，所述的滑轨位于支架上端且贯穿楔形块，所述的滑轨与支架通过螺栓相连，所述的楔形块可以沿滑轨左右滑动。

8.如权利要求6所述的硅片单面清洗机，其特征在于所述的导杆还设有限位头，所述的限位头与导杆一体相连。

9.如权利要求8所述的硅片单面清洗机，其特征在于所述的限位头还设有防撞垫，所述的防撞垫与限位头粘接相连。