一种2.5D玻璃盖板抛光底座
技术领域
本实用新型涉及抛光技术领域,特别是涉及一种2.5D玻璃盖板抛光底座。
背景技术
随着智能手机摄像技的不断发展,手机前置摄像头的像素越来越高,作为手机显示屏保护盖板的玻璃盖板增加了摄像孔位置的面型要求,面型要求逐步提高,由原来的干涉条纹10条,提高至8条、再提高至5条,到现在的干涉条纹2.5条。而随着全面屏的发展推广,摄像孔到玻璃盖板边缘的距离也越来越近,抛光对摄像孔位置的面型上升的影响也随着到边缘距离变短而加大。
2.5D玻璃盖板均需要进行抛光,目的是降低CNC加工区域的粗糙度,使弧边区域光亮。抛光过程会破坏玻璃原材表面的平整度,导致摄像孔位干涉条纹达不到客户要求。
现有技术中针对新增的干涉条纹管控,其应对方式主要是,在抛光后增加平磨对产品进行修复或采用多种抛光介质进行组合抛光,以减小产品表面变形量。以上两种应对方式,均需要增加工艺、投入新设备及新抛光物料,造成生产成本增加。此外,生产工艺中还尝试采用增加挡块的保护方式,但这种方式的效果不稳定,挡块在长时间生产时容易磨损,需要频繁地更换挡块,更换前后容易出现产品干涉条纹超标和抛不亮的问题。
现有技术中,申请公布号为CN111069985A的中国发明专利申请,其公开了一种2.5D玻璃盖板抛光方法,包括以下步骤:用激光切割方式将制造底座的材料按等比例尺寸切割成与玻璃盖板外形一样的底座,使用CNC将切割后底座加工成前低后高的斜面,底座斜面的落差在0.5mm~1.2mm之间;将加工后的若干底座排布于抛光机的底盘中并粘贴固定;将玻璃盖板放置在底座上并真空吸附固定,玻璃盖板的头部朝底座前端;抛光机的抛光台上平铺有抛光介质,底盘与抛光台正反转抛光。该现有技术的有益效果是:在不增加抛光流程、抛光设备的情况下,通过增设抛光底座高度差,结合合理的排布方式和抛光时间,实现一次抛光达到干涉条纹小于3的产品要求,节省了增加平磨流程和新设备会造成的成本。在上述的现有技术中,抛光底座需要配置为与玻璃盖板外形等比例尺寸一样,对底座的加工要求较高,制造成本较高,而且底座对玻璃盖板摄像孔区域在抛光过程中有施加作用力,使得摄像孔区域具有较大的抛光磨损量。
现有技术中,申请公布号为CN109824250A的中国发明专利申请,其公开了一种3D玻璃盖板的加工方法,所述方法包括:步骤11,开料,将大块玻璃板材切割成预设尺寸的多片玻璃板;步骤12,CNC,将所述玻璃板放入CNC精雕机中的立式平台上进行弧面加工,所述立式平台包括支撑板和与所述支撑板垂直连接的固定板,所述支撑板上设有吸气底座,所述吸气底座与所述固定板可拆卸连接,所述吸气底座与所述固定板平行设置,所述吸气底座用于吸附所述玻璃板,且所述玻璃板与所述吸气底座平行设置,通过加工刀具按照预设的弧面加工线对所述玻璃板进行弧面加工,所述加工刀具包括安装头和与所述安装头连接的加工柱,所述加工柱呈圆柱形,所述加工柱的表面与所述玻璃板接触。该现有技术中的吸气底座虽然配置有多个第二吸气孔和吸气槽,通过第二吸气孔与第一吸气孔连通以及通过吸气槽与多个第二吸气孔连通而将玻璃板吸附在吸气底座上,但是实际上仅通过多个第二吸气孔对玻璃板进行吸附固定,其吸附面积比较小,吸附力比较低,容易在加工过程中出现剥离板移位或掉落的情况。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,提供一种2.5D玻璃盖板抛光底座。
本实用新型实施例提供了一种2.5D玻璃盖板抛光底座,包括与玻璃盖板的外周尺寸相同的底座本体,底座本体的底面为平面,底座本体的顶面为头部低而尾部高的斜面,该斜面的高度差为0.5mm~1.2mm,在底座本体的顶面分布有贯穿至底座本体的底面的坑槽,底座本体的头部配置有用于避开玻璃盖板的面型管控区域的避空槽,避空槽的避空尺寸为20mm*5mm~50mm*15mm。
在其中一些实施例中,坑槽包括与抽真空孔连通的中心坑槽、围绕该中心坑槽且沿底座本体边缘走向的外围坑槽、以及连通中心坑槽和外围坑槽的桥接坑槽。
在其中一些实施例中,避空槽为贯穿底座本体的顶面至底面的通槽。
在其中一些实施例中,避空槽为盲槽。
在其中一些实施例中,底座本体的材质为聚氨酯、环氧树脂或电木。
相比于相关技术,本实用新型实施例提供的2.5D玻璃盖板抛光底座,其通过底座本体的头部配置有用于避开玻璃盖板的面型管控区域(摄像孔区域)的避空槽,高度差和避空槽的共同设置是为了在抛光过程中减少玻璃盖板摄像孔处的受力量,减少面型管控位置的抛光变形量,从而保护玻璃盖板的面型,避空槽的避空尺寸为20mm*5mm~50mm*15mm,可以适应于不同摄像孔位置而外围尺寸相同的玻璃盖板,进一步减少玻璃盖板摄像孔处抛光过程中的受力,减少此位置的抛光磨损量,达到更高的干涉条纹要求。本实用新型在不增加抛光流程、抛光设备的情况下,通过增设抛光底座高度差、面型管控部位避空槽,结合合理的排布方式和抛光时间,实现一次抛光达到干涉条纹小于2.5的产品要求,节省了增加平磨流程和新设备会造成的成本。
本实用新型的一个或多个实施例的细节在以下附图和描述中提出,以使本实用新型的其他特征、目的和优点更加简明易懂。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本实用新型的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
图1是本实用新型实施例的底座本体的俯视结构图。
图2是本实用新型实施例的底座本体的侧视结构图。
图3是本实用新型实施例的底座本体的坑槽的一实施例结构图。
图4是本实用新型实施例的底座本体的坑槽的另一实施例结构图。
图5是本实用新型实施例的底座本体在抛光底盘上排布的一实施例结构图。
图6是本实用新型实施例的底座本体在抛光底盘上排布的另一实施例结构图。
图7是玻璃盖板放置在图6中的底座本体上的结构图。
图8是图7中局部A的放大结构图。
图中,1、底座本体;2、头部;3、尾部;4、避空槽;5、坑槽;6、中心坑槽;7、外围坑槽;8、桥接坑槽;9、抛光底盘;10、抽真空孔;11、玻璃盖板;12、面型管控区域。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行描述和说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。基于本实用新型提供的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。此外,还可以理解的是,虽然这种开发过程中所作出的努力可能是复杂并且冗长的,然而对于与本实用新型公开的内容相关的本领域的普通技术人员而言,在本实用新型揭露的技术内容的基础上进行的一些设计,制造或者生产等变更只是常规的技术手段,不应当理解为本实用新型公开的内容不充分。
在本实用新型中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本实用新型的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域普通技术人员显式地和隐式地理解的是,本实用新型所描述的实施例在不冲突的情况下,可以与其它实施例相结合。
除非另作定义,本实用新型所涉及的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属技术领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本实用新型所涉及的“一”、“一个”、“一种”、“该”等类似词语并不表示数量限制,可表示单数或复数。本实用新型所涉及的术语“包括”、“包含”、“具有”以及它们任何变形,意图在于覆盖不排他的包含;例如包含了一系列步骤或模块(单元)的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元,而是可以还包括没有列出的步骤或单元,或可以还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。本实用新型所涉及的“连接”、“相连”、“耦接”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电气的连接,不管是直接的还是间接的。本实用新型所涉及的“多个”是指大于或者等于两个。“和/或”描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,“A和/或B”可以表示:单独存在A,同时存在A和B,单独存在B这三种情况。本实用新型所涉及的术语“第一”、“第二”、“第三”等仅仅是区别类似的对象,不代表针对对象的特定排序。
如图1-2所示,为本实用新型实施例的一种2.5D玻璃盖板抛光底座,包括与玻璃盖板11的外周尺寸相同的底座本体1,厚度为3mm~6mm,底座本体1的底面为平面,底座本体1的顶面为头部2低而尾部3高的斜面,该斜面的高度差“H-h”为0.5mm~1.2mm,在底座本体1的顶面分布有贯穿至底座本体1的底面的坑槽5,底座本体1的头部2配置有避空槽4,避空槽4的避空尺寸为20mm*5mm~50mm*15mm。
如图3-4所示,在本实施例中,坑槽5包括与抽真空孔10连通的中心坑槽6、围绕该中心坑槽6且沿底座本体1边缘走向的外围坑槽7、以及连通中心坑槽6和外围坑槽7的桥接坑槽8。在底座本体1粘接在抛光底盘9上后,中心坑槽6与抛光底盘9的抽真空孔10对应且连通,在玻璃盖板放置在底座本体1的顶面之后,抛光底盘9的表面、坑槽5和玻璃盖板的底面形成抽真空腔体而与抽真空孔10连通,在抽真空装置通过抽真空孔10抽取抽真空腔体内的空气,以使该抽真空腔体形成真空而对玻璃盖板进行真空吸附。在其他实施例中,坑槽5可被设置为"王"形状。
在本实施例中,避空槽4为贯穿底座本体1的顶面至底面的通槽。在其他实施例中,避空槽4被配置为盲槽。避空槽4的设置可以进一步减少玻璃盖板摄像孔处抛光过程中的受力,减少此位置的抛光磨损量,达到更高的干涉条纹要求。
在本实施例中,底座本体1的材质为聚氨酯、环氧树脂或电木,而作为抛光垫之用。
如图5-6所示,在使用时,底座本体1使用胶水按头尾相对的环形排布或头部2对头部2的对称排布粘附于抛光底盘9上使用。如图7-8所示,底座本体1的头部2配置有用于避开玻璃盖板的11面型管控区域12的避空槽4。
相对于现有技术,本实用新型实施例提供的2.5D玻璃盖板抛光底座,其通过底座本体1的头部2配置有用于避开玻璃盖板的面型管控区域(摄像孔区域)的避空槽4,高度差和避空槽4的共同设置是为了在抛光过程中减少玻璃盖板摄像孔处的受力量,减少面型管控位置的抛光变形量,从而保护玻璃盖板的面型,避空槽4的避空尺寸为20mm*5mm~50mm*15mm,可以适应于不同摄像孔位置而外围尺寸相同的玻璃盖板,进一步减少玻璃盖板摄像孔处抛光过程中的受力,减少此位置的抛光磨损量,达到更高的干涉条纹要求。此抛光底座实现了不增加工艺、不投入新抛光设备和抛光物料的情况下,创新性地通过原有抛光底座增设高度差,设置避空槽4,结合合理的底座排布方式和抛光时间,实现一次抛光达到干涉条纹小于2.5条的要求。
通过下表可以看出,相比于如申请公布号为CN111069985A的现有技术的抛光底座的抛光效果,本实用新型通过增加避空槽实现一次抛光达到干涉条纹小于2.5条的要求,并且降低了抛光磨损量。
实施例 |
是否配置避空槽 |
高度差(mm) |
抛光时间(s) |
干涉条纹数(Tilt平均值) |
摄像孔位置磨损量(UM) |
1 |
是 |
0.5 |
360 |
0.92 |
约2um |
2 |
否 |
0.5 |
360 |
1.15 |
约3um |
3 |
是 |
1.2 |
360 |
0.34 |
小于1um |
4 |
否 |
1.2 |
360 |
0.66 |
1-2um |
本领域的技术人员应该明白,以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。