CN216367967U - 一种带有降温喷淋装置的反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种带有降温喷淋装置的反应釜。所述装置包括反应釜和设置于反应釜侧面的降温喷淋装置，反应釜包括釜体和釜盖，釜盖上方设置有固定架，固定架中央设置有与釜盖相连接的密封装置，密封装置内部为空腔结构，空腔结构内设置有盘根；密封装置上方设置有搅拌装置，搅拌装置包括一端穿过密封装置、釜盖并深入釜体内的搅拌轴、设置在密封装置上方用于驱动所述搅拌轴的搅拌电机，安装在搅拌轴深入釜体内一端的搅拌叶。本实用新型通过密封装置和降温喷淋装置在搅拌轴与盘根的缝隙之间滴入去离子水，缓解了搅拌轴与盘根发生摩擦产生热量导致温度升高，在降温的同时保持了搅拌轴与盘根接触的缝隙湿度，防止电火花的产生。

Description

一种带有降温喷淋装置的反应釜

技术领域

本实用新型涉及一种带有降温喷淋装置的反应釜，属于化工设备技术领域。

背景技术

目前，化工生产中普遍使用反应釜，尤其是在制备硅溶胶的过程中，需要使用搅拌装置不断地搅拌。现有的硅溶胶反应釜一般使用盘根对搅拌装置进行固定，对反应釜进行密封。但是盘根一般是由较柔软的线状物编织物编织而成，在搅拌过程中，搅拌轴会与盘根发生摩擦产生热量，搅拌时间越长积累的热量越多，有出现电火花的风险。而制备硅溶胶一般采用硅粉水解的方法，反应过程中伴随着氢气的生成，在一定的浓度范围之内，一旦出现火花，就会有釜内爆鸣的危险，使得生产安全存在巨大隐患。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供一种带有降温喷淋装置的反应釜。

本实用新型的技术方案如下：

一种带有降温喷淋装置的反应釜，包括反应釜和设置于反应釜侧面的降温喷淋装置，所述反应釜包括釜体和釜盖，釜盖上方设置有固定架，固定架中央设置有与釜盖相连接的密封装置，所述密封装置内部为空腔结构，空腔结构内设置有盘根；所述密封装置上方设置有搅拌装置，所述搅拌装置包括一端穿过密封装置、釜盖并深入釜体内的搅拌轴、设置在密封装置上方用于驱动所述搅拌轴的搅拌电机，安装在搅拌轴深入釜体内一端的搅拌叶；

所述降温喷淋装置包括储水箱，储水箱通过通水管道连接固定至密封装置上。

根据本实用新型优选的，所述通水管道上还设置有电磁阀。

根据本实用新型优选的，所述固定架包括底座和顶板，底座和顶板通过连接杆相连接。

进一步优选的，所述底座和顶板中央还设置有稳定架，稳定架两端固定在连接杆上。

根据本实用新型优选的，所述密封装置由法兰组件组装而成，密封装置上下贯穿使得搅拌轴能够通过，中间形成的空腔结构使得搅拌轴与反应釜不直接接触，然后盘根填充至空腔结构内起到固定和密封的作用。其中搅拌轴与盘根接触，盘根和法兰组件固定，保证开启搅拌后，搅拌轴的位置稳定，而不是来回晃动。

根据本实用新型优选的，所述密封装置为圆台结构或宽度不同的多层结构。

进一步优选的，当密封装置为圆台结构时，通水管道固定于密封装置上下贯穿的通孔上方；当密封装置为宽度不同的多层结构时，密封装置最上层侧面设置有进水孔，通水管道固定至进水孔内。

本实用新型的使用：在反应釜开始工作后，打开通水管道上的电磁阀，将储水槽内的去离子水通过管道引流到密封装置内，缓慢滴水使其渗入到搅拌轴与盘根接触的缝隙之间，起到防止产生电火花、降低摩擦温度的作用。其中一部分去离子水会因为摩擦生热挥发，未挥发的部分会进入到反应釜内，由于我们的反应体系本身就是水做溶剂，且反应过程中需要多次补水，所以对反应本身没有不良影响。

有益效果：

本实用新型通过密封装置固定搅拌轴，同时设置了降温喷淋装置，然后在搅拌轴与盘根接触的缝隙之间持续的滴入或流入去离子水，有效地缓解了因搅拌轴与盘根发生摩擦产生热量而导致的温度升高，并且在降温的同时保持了搅拌轴与盘根接触的缝隙之间的湿度，防止电火花的产生，成功避免了由高温和电火花带来的生产危险。

附图说明

图1为本实用新型带有降温喷淋装置的反应釜的结构示意图。

图2为密封装置的结构示意图。

图3为实施例2所述带有降温喷淋装置的反应釜的结构示意图。

图中：1、储水槽，2、电磁阀，3、通水管道，4、反应釜，5、搅拌轴，6、搅拌电机，7、密封装置，8、搅拌叶，9、底座，10、顶板，11、连接杆，12、稳定架，13、进水孔，14、法兰组件，15、空腔结构。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

实施例1

如图1～2所示，一种带有降温喷淋装置的反应釜，包括反应釜4和设置于反应釜侧面的降温喷淋装置，所述反应釜4包括釜体和釜盖，釜盖上方设置有固定架，固定架中央设置有与釜盖相连接的密封装置7，所述密封装置7内部为空腔结构15，空腔结构15内设置有盘根；所述密封装置7上方设置有搅拌装置，所述搅拌装置包括一端穿过密封装置7、釜盖并深入釜体内的搅拌轴5、设置在密封装置7上方用于驱动所述搅拌轴5的搅拌电机6，安装在搅拌轴6深入釜体内一端的搅拌叶8；

所述降温喷淋装置包括储水箱1，储水箱1通过通水管道3连接固定至密封装置7上。

所述固定架包括底座9和顶板10，底座9和顶板10通过连接杆11相连接。

所述密封装置7为圆台结构，由法兰组件14组装而成，密封装置7上下贯穿使得搅拌抽5能够通过，中间形成的空腔结构15使得搅拌轴5与反应釜4不直接接触，然后盘根填充至空腔结构15内起到固定和密封的作用。其中搅拌轴5与盘根接触，盘根和法兰组件14固定，保证开启搅拌后，搅拌轴5的位置稳定，而不是来回晃动。

实施例2

一种带有降温喷淋装置的反应釜，结构如实施例1所述，不同之处在于，所述通水管道3上还设置有电磁阀2。

本实用新型的使用：在反应釜4开始工作后，打开通水管道3上的电磁阀2，将储水槽1内的去离子水通过管道3引流到密封装置7内，缓慢滴水使其渗入到搅拌轴5与盘根接触的缝隙之间，起到防止产生电火花、降低摩擦温度的作用。其中一部分去离子水会因为摩擦生热挥发，未挥发的部分会进入到反应釜内，由于我们的反应体系本身就是水做溶剂，且反应过程中需要多次补水，所以对反应本身没有不良影响。

实施例3

一种带有降温喷淋装置的反应釜，结构如实施例1所述，不同之处在于，当密封装置7为宽度不同的多层结构时，密封装置7最上层侧面设置有进水孔13，通水管道3固定至进水孔13内。

实施例4

一种带有降温喷淋装置的反应釜，结构如实施例1所述，不同之处在于，所述底座9和顶板10中央还设置有稳定架12，稳定架12两端固定在连接杆11上。

Claims (7)

1.一种带有降温喷淋装置的反应釜，其特征在于，包括反应釜和设置于反应釜侧面的降温喷淋装置，所述反应釜包括釜体和釜盖，釜盖上方设置有固定架，固定架中央设置有与釜盖相连接的密封装置，所述密封装置内部为空腔结构，空腔结构内设置有盘根；所述密封装置上方设置有搅拌装置，所述搅拌装置包括一端穿过密封装置、釜盖并深入釜体内的搅拌轴、设置在密封装置上方用于驱动所述搅拌轴的搅拌电机，安装在搅拌轴深入釜体内一端的搅拌叶；

所述降温喷淋装置包括储水箱，储水箱通过通水管道连接固定至密封装置上。

2.如权利要求1所述的带有降温喷淋装置的反应釜，其特征在于，所述通水管道上设置有电磁阀。

3.如权利要求1所述的带有降温喷淋装置的反应釜，其特征在于，所述固定架包括底座和顶板，底座和顶板通过连接杆相连接。

4.如权利要求3所述的带有降温喷淋装置的反应釜，其特征在于，所述底座和顶板中央设置有稳定架，稳定架两端固定在连接杆上。

5.如权利要求1所述的带有降温喷淋装置的反应釜，其特征在于，所述密封装置由法兰组件组装而成，密封装置上下贯穿使得搅拌抽能够通过，然后盘根填充至空腔结构内，搅拌轴与盘根接触，盘根和法兰组件固定。

6.如权利要求1所述的带有降温喷淋装置的反应釜，其特征在于，所述密封装置为圆台结构或宽度不同的多层结构。

7.如权利要求6所述的带有降温喷淋装置的反应釜，其特征在于，当密封装置为圆台结构时，通水管道固定于密封装置上下贯穿的通孔上方；当密封装置为宽度不同的多层结构时，密封装置最上层侧面设置有进水孔，通水管道固定至进水孔内。

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