CN216225499U - 一种自导正电容外观检测设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型具体公开了一种自导正电容外观检测设备,涉及电容外观检测技术领域,该设备包括输送组件,所述输送组件包括第一输送段和第二输送段,所述第二输送段的起始端衔接于所述第一输送段的末端;所述第一输送段的输送速度小于所述第二输送段的输送速度;所述第一输送段的起始端上方设有导正压板,所述导正压板用于压接电容的顶端;所述第一输送段的起始端两侧均设有导正挡板,两个所述导正挡板用于限制一个电容进入所述第一输送段。该实用新型可有效降低电容在输送过程中由于输送距离较长发生倾斜的情况,可有效提高检测效率和精确度。
Description
技术领域
本实用新型涉及电容外观检测技术领域,具体涉及一种自导正电容外观检测设备。
背景技术
通常,电容外观检测需要经过多个检测工位,因此,在电容输送过程中,输送距离较长,会出现输送速度不一致导致电容易发生偏斜,不利于相机拍照与软件图像处理,从而影响电容外观检测的有效性和精确度。
实用新型内容
针对上述现有技术存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种自导正电容外观检测设备,其可有效降低电容在检测时发生倾斜的情况,提高检测效率和检测精确度。
为实现上述目的,本实用新型采用一种自导正电容外观检测设备的以下技术方案,包括输送组件、多个检测组件,所述多个检测组件在所述输送组件的输送方向上依次分布,所述输送组件包括第一输送段和第二输送段,所述第一输送段用于接收电容,所述第二输送段的起始端衔接于所述第一输送段的末端,所述第二输送段用于输送电容至多个检测组件;所述第一输送段的输送速度小于所述第二输送段的输送速度;所述第一输送段的起始端上方设有导正压板,所述导正压板用于压接电容的顶端;所述第一输送段的起始端两侧均设有导正挡板,两个所述导正挡板用于限制一个电容进入所述第一输送段。
进一步地,所述第一输送段包括两个第一输送带机构,所述两个第一输送带机构之间间隔形成为用于夹持电容的第一输送间隔。
进一步地,所述第一输送带机构包括第一输送带、两个第一输送轮,所述第一输送带的两端分别绕设在所述两个第一输送轮外。
进一步地,所述第一输送间隔的两侧设有引导块。
进一步地,所述引导块的一端设有第一引导斜面;所述第一引导斜面沿第一输送带机构的输送方向由外至内逐渐倾斜;所述引导块的另一端设有第二引导斜面;所述第二引导斜面沿第一输送带机构的输送方向由内之外逐渐倾斜;所述第一引导斜面以及第二斜面以及第二引导斜面均用于引导电容输送。
进一步地,所述第一输送段的起始端两侧还均设有弹性压片,所述导正挡板与所述弹性压片在第一输送带机构的输送方向依次分布;所述弹性压片用于抵接于在第一输送带机构的输送方向靠后的电容上。
进一步地,所述第二输送段包括两个第二输送带机构,两个第二输送带机构之间间隔形成为用于夹持所述电容的第二输送间隔;所述第二输送间隔的起始端衔接于所述第一输送间隔的末端。
进一步地,所述第二输送带机构包括第二输送带、两个第二输送轮,所述第二输送带的两端分别绕设在所述两个第二输送轮外。
进一步地,所述第一输送带机构以及第二输送带机构的输送带外侧均设有张紧轮。
进一步地,所述导正压板的竖直方向开设有两个用于调整导正压板高度的长孔条。
相比现有技术,本实用新型的有益效果在于:本实用新型采用第一输送段和第二输送段两段衔接进行输送,同时第二输送段输送速度略大于第一输送段的输送速度,可有效降低电容在输送过程中由于输送距离较长发生倾斜的情况;此外,在第一输送段的起始端上方设有导正压板,两侧均设有导正挡板,对电容顶部和两侧限位,减小电容前后左右倾斜的空间,减少电容发生倾斜的情况。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为图1中的A处放大结构示意图。
图中:10、第一输送带机构;11、引导块;12、导正压板;13、导正挡板;14、长孔条;20、第二输送带机构。
具体实施方式
下面将结合附图和实施方式对本实用新型作进一步说明,显然,所描述的实施例仅是本实用新型具体实施例一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型具体实施例中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型具体实施例保护的范围。
一种自导正电容外观检测设备,参阅图1-2,包括输送组件、多个检测组件,多个检测组件在输送组件的输送方向上依次分布,输送组件包括第一输送段和第二输送段,具体第一输送段可接收电容,而第二输送段的起始端衔接于第一输送段的末端,第二输送段可输送电容至多个多个检测组件;第一输送段的输送速度小于第二输送段的输送速度;第一输送段的起始端上方设有导正压板12,导正压板12用于压接电容的顶端;第一输送段的起始端两侧均设有导正挡板13,两个导正挡板13用于限制一个电容进入所述第一输送段。
本实用新型可通过输送组件将电容输送至多个检测组件,具体的是,本实施例中,多个检测组件包括电容针脚组件、电容外周检测以及电容端面检测组件,电容针脚检测组件可以分布在第一输送段,而电容外周检测以及电容端面检测组件分布在第二输送段上,因而,采用两段输送段的方式衔接进行输送,减少因同一输送段上输送距离过长而出现输送速度不一致而导致电容偏斜的情况。
特别的,第一输送段的输送速度小于第二输送段的输送速度,电容刚开始进入第一输送段皮带时,由于惯性与摩擦的原因,导致电容会整体往前倾斜一定角度,在进入第二输送段后,第二输送段输送速度略大于第一输送段的输送速度,使得电容在两段输送段接驳时电容底部的速度高于电容顶部速度,从而使底部产生一个向前的拉力,实现电容进一步的导正,利于相机拍照与软件图像处理。
此外,在进行输送时,由于电容上料时,容易出现前后倾斜,因而可在第一输送间隔的起始端上方设置导正压板12,导正压板12可在电容顶部限位,减小电容前后倾斜的空间,经第一输送段输送的电容相对较正,便于后期检测。
同样的,在电容在进入第一输送段时,其左右两侧可经两侧的导正挡板13限位,减小电容左右倾斜的空间,配合上述顶端的导正压板12,降低电容在运动过程中倾斜程度,利于相机拍照与软件图像处理。
上述输送组件还可包括振动盘上料机构,在进行电容上料时,电容可以放置在振动盘上,振动盘振动,电容可以依次输出,经第一输送段的起始端进行接收上料。
进一步,第一输送段包括两个第一输送带机构10,两个第一输送带机构10之间间隔形成为第一输送间隔,第一输送间隔可夹持电容。
在此结构基础上,电容在输送过程中,振动盘上料机构可以将电容输送至两个第一输送带机构10的第一输送带之间,即两个电容可夹持在第一输送间隔内,在两个第一输送带传送的过程中进行输送。
更进一步,上述第一输送带机构10可以包括第一输送带、两个第一输送轮,第一输送带的两端分别绕设在两个第一输送轮外,两个第一输送带机构10位于同一端的第一输送轮可以通过同步带进行传动,如此,两个第一输送带机构10便可同步传动,防止输送速度不一致而出现电容倾倒的情况。
进一步,第一输送间隔的两侧设有引导块11。
更进一步,所述引导块11的一端设有第一引导斜面,而第一引导斜面沿第一输送带机构10的输送方向由外至内逐渐倾斜;引导块 11的另一端设有第二引导斜面;第二引导斜面沿第一输送带机构10 的输送方向由内之外逐渐倾斜;第一引导斜面以及第二斜面以及第二引导斜面均用于引导电容输送。
更具体的,在输送过程中,电容输送至第一输送带的中段时,可经引导块11进行引导,可以防止电容在第一输送带的中段出现倾斜。而两侧的导正块的两个第一引导斜面可以引导电容进入两个导正块之间,在导正后,经两个第二引导斜面导出即可,便于后期电容的检测。
进一步,第一输送段的起始端两侧还均设有弹性压片,弹性压片与导正挡板在第一输送带机构的输送方向依次分布;弹性压片用于抵接于在第一输送带机构的输送方向靠后的电容上。
在多个电容经两个导正挡板输送至弹性压片处时,弹性压片可抵接在后方的电容外,轻压电容,防止两个电容同时进入两个第一输送带之间的第一输送间隔内。
进一步,第二输送段包括两个第二输送带机构20,两个第二输送带机构20之间间隔形成为第二输送间隔,第二输送间隔可夹持电容,第二输送间隔的起始端衔接于第一输送间隔的末端。如此,第一输送间隔将电容输送至第一输送带机构10的末端时,电容可经第二输送间隔进行接收,进行进一步的输送作业。
更进一步,上述第二输送带机构20可以包括第二输送带、两个第二输送轮,第二输送带的两端分别绕设在两个第二输送轮外,两个第二输送带机构20位于同一端的第二输送轮可以通过同步带进行传动,如此,两个第二输送带机构20便可同步传动,防止输送速度不一致而出现电容倾倒的情况。
特别的,上述第一输送带机构10以及第二输送带机构20的输送带外侧均设有张紧轮进行张紧,减少输送过程中输送带出现的松弛情况。此外,还可在第一输送带以及第二输送带的顶端面设置限位板,用于限制皮带上下位置,防止运动过程中皮带上下窜动而引起电容跳动。
当然,上述输送组件也可选用现有技术中的转盘式输送结构,将多个检测组件分布在转盘的转动轨迹上,转盘转动即可。
进一步,所述导正压板12的竖直方向开设有两个用于调整导正压板12高度的长孔条14。
由于电容规格较多,不同大小的电容所需导正压板12的高度不同,如果直接更换导正压板12,工序繁琐,本实用新型具体实施例在导正压板12的竖直方向开设有两个长孔条14,可以根据电容大小上下滑动导正压板12,使得电容和导正压板12相匹配,提高了检测设备的适用性且操作简单。
对本领域的技术人员来说,可根据以上描述的技术方案以及构思,做出其它各种相应的改变以及形变,而所有的这些改变以及形变都应该属于本实用新型具体实施例权利要求的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种自导正电容外观检测设备,包括输送组件、多个检测组件,所述多个检测组件在输送组件的输送方向上依次分布,其特征在于,所述输送组件包括第一输送段和第二输送段,所述第一输送段用于接收电容,所述第二输送段的起始端衔接于所述第一输送段的末端,所述第二输送段用于输送电容至多个检测组件;所述第一输送段的输送速度小于所述第二输送段的输送速度;所述第一输送段的起始端上方设有导正压板,所述导正压板用于压接电容的顶端;所述第一输送段的起始端两侧均设有导正挡板,两个所述导正挡板用于限制一个电容进入所述第一输送段。
2.如权利要求1所述的自导正电容外观检测设备,其特征在于,所述第一输送段包括两个第一输送带机构,所述两个第一输送带机构之间间隔形成为用于夹持电容的第一输送间隔。
3.如权利要求2所述的自导正电容外观检测设备,其特征在于,所述第一输送带机构包括第一输送带、两个第一输送轮,所述第一输送带的两端分别绕设在所述两个第一输送轮外。
4.如权利要求3所述的自导正电容外观检测设备,其特征在于,所述第一输送间隔的两侧设有引导块。
5.如权利要求4所述的自导正电容外观检测设备,其特征在于,所述引导块的一端设有第一引导斜面;所述第一引导斜面沿第一输送带机构的输送方向由外至内逐渐倾斜;所述引导块的另一端设有第二引导斜面;所述第二引导斜面沿第一输送带机构的输送方向由内之外逐渐倾斜;所述第一引导斜面以及第二斜面以及第二引导斜面均用于引导电容输送。
6.如权利要求5所述的自导正电容外观检测设备,其特征在于,所述第一输送段的起始端两侧还均设有弹性压片,所述导正挡板与所述弹性压片在第一输送带机构的输送方向依次分布;所述弹性压片用于抵接于在第一输送带机构的输送方向靠后的电容上。
7.如权利要求6所述的自导正电容外观检测设备,其特征在于,所述第二输送段包括两个第二输送带机构,所述两个第二输送带机构之间间隔形成为用于夹持所述电容的第二输送间隔;所述第二输送间隔的起始端衔接于所述第一输送间隔的末端。
8.如权利要求7所述的自导正电容外观检测设备,其特征在于,所述第二输送带机构包括第二输送带、两个第二输送轮,所述第二输送带的两端分别绕设在所述两个第二输送轮外。
9.如权利要求8所述的自导正电容外观检测设备,其特征在于,所述第一输送带机构以及第二输送带机构的输送带外侧均设有张紧轮。
10.如权利要求1所述的自导正电容外观检测设备,其特征在于,所述导正压板的竖直方向开设有两个用于调整导正压板高度的长孔条。
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