CN208560892U - 料盒双层上料机构 - Google Patents

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赵凯
苏浩杰
邵嘉裕
黄军鹏
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Shanghai Shiyu Precision Equipment Co ltd
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Abstract

一种料盒双层上料机构,包括:用于水平输送载料料盒的送盒输送带,其前端具有弹性止挡部;用于水平输送空料盒的收盒输送带,所述收盒输送带与送盒输送带上下间隔布置且输送方向相反,且两者的两端上下齐平;可在推料位与所述送盒输送带前端或者收盒输送带后端之间水平移动、可在推料位上下移动的料盒夹爪;用于在所述料盒夹爪带动料盒向上移动过程中依次将料盒中的料板水平推至上料输送带后端的推料杆。本实用新型能够自动将料盒中的多个半导体基板或者底板上料至上料输送带,效率高。

Description

料盒双层上料机构
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,尤其涉及一种料盒双层上料机构。
背景技术
半导体后段封装工艺中,在进行倒装焊键合、加热清洗等工艺加工时,对基板的平整度有严格的要求和限制,因基板本身翘曲的特性,决定了必须加持外界的机构来帮助基板来实现平整。
传统的解决办法是对各个工艺设备皆有基板平整机构,且对于不同工艺,其平整机构不一致,从而增加了各个工艺设备的难度,也不利于上下游工艺的流畅性。
故需要一种料盒双层上料机构,自动将料盒中的多个半导体基板或者底板上料至上料输送带,从而实现一种半导体基板加载载具的上料机,能够将半导体基板加载到载具(将基板夹于底板与盖板之间)上,形成可保持基板平整的一体件,并将一体件上料给下游工艺设备,提高上下游工艺的流畅性。
实用新型内容
基于此,针对上述技术问题,提供一种料盒双层上料机构。
为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:
一种料盒双层上料机构,包括:
用于水平输送载料料盒的送盒输送带,其前端具有弹性止挡部;
用于水平输送空料盒的收盒输送带,所述收盒输送带与送盒输送带上下间隔布置且输送方向相反,且两者的两端上下齐平;
可在推料位与所述送盒输送带前端或者收盒输送带后端之间水平移动、可在推料位上下移动的料盒夹爪;
用于在所述料盒夹爪带动料盒向上移动过程中依次将料盒中的料板水平推至上料输送带后端的推料杆;
所述送盒输送带以及收盒输送带均与所述上料输送带呈90度布置,所述推料位在所述上料输送带的后侧与该上料输送带的后端相邻,且位于所述送盒输送带前端的前侧。
所述送盒输送带以及收盒输送带均由间隔布置的两条输送皮带构成,两侧具有间距与料盒的长边长度适配的挡板。
所述弹性止挡部为略高于所述送盒输送带的弹性挡块。
所述料盒夹爪包括L形的下夹部、L形的上夹部以及用于驱动所述上夹部靠近或者远离下夹部的第一升降机构,所述下夹部与上夹部上下布置,所述第一升降机构固定于所述下夹部上,且与所述上夹部连接。
所述料盒夹爪由第二升降机构以及第一水平移动机构驱动。
所述推料杆由第二水平移动机构驱动。
本实用新型能够自动将料盒中的多个半导体基板或者底板上料至上料输送带,效率高,从而实现一种半导体基板加载载具的上料机,能够将半导体基板加载到载具(将基板夹于底板与盖板之间)上,形成可保持基板平整的一体件,并将一体件上料给下游工艺设备,提高上下游工艺的流畅性。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行详细说明:
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的原理图;
图3为本实用新型的料盒夹爪的结构示意图;
图4为本实用新型的一体件的分解图。
具体实施方式
如图1-3所示,一种料盒双层上料机构,包括送盒输送带110、收盒输送带120、料盒夹爪130以及推料杆140。
送盒输送带110用于水平输送载料料盒20,其前端具有弹性止挡部。
在本实施例中,弹性止挡部为略高于送盒输送带110的弹性挡块。
其中,料盒20的横截面呈矩形,其两个短边侧均为开口,两个长边侧的内壁具有对称且上下间隔布置的多个料板插槽21,多个料板插于料盒20内,呈上下间隔分布。
收盒输送带120用于水平输送空料盒,收盒输送带120与送盒输送带110上下间隔布置且输送方向相反,且两者的两端上下齐平。
在本实施例中,送盒输送带110以及收盒输送带120均由间隔布置的两条输送皮带构成,两侧具有间距与料盒的长边长度适配的挡板,料盒可以以长边侧面朝前的状态随送盒输送带110或者收盒输送带120水平移动。
料盒夹爪130包括L形的下夹部131、L形的上夹部132以及用于驱动上夹部132靠近或者远离下夹部131的第一升降机构133,下夹部131与上夹部132上下布置,第一升降机构133固定于下夹部132上,且与上夹部132连接,在第一升降机构133的驱动下可以实现料盒20的夹取和释放。
料盒夹爪130由第二升降机构150以及第一水平移动机构160驱动,使料盒夹爪130可以分别沿上下履带式轨道180以及水平履带式轨道190升降以及水平移动,从而实现在推料位A与送盒输送带110前端或者收盒输送带120后端之间水平移动,以及在推料位A上下移动。
推料杆140由第二水平移动机构170驱动,用于在料盒夹爪130带动料盒20向上移动过程中依次将料盒20中的料板水平推至上料输送带3后端。
其中,送盒输送带110以及收盒输送带120均与上料输送带3呈90度布置,推料位A在上料输送带3的后侧与该上料输送带3的后端相邻,且位于送盒输送带110前端的前侧。
第一升降机构133、第二升降机构150、第一水平移动机构160以及第二水平移动机构170可以为气缸或者电缸。
料盒夹爪130初始位于推料位A,工作时,载料的料盒20在送盒输送带110上移动,直到被弹性止挡部止挡,此时,料盒夹爪130向送盒输送带110前端移动,并抓取料盒20,抓取料盒20后退回到推料位A,然后料盒夹爪130逐步升高,在升高过程中推料杆140将料盒20中的板料水平推至上料输送带3的后端,一个料盒20中的料板全部推完后,料盒夹爪130继续升高并向收盒输送带120后端移动,将空料盒放置在收盒输送带120上,最后返回推料位A。
本实用新型能够自动将料盒中的多个半导体基板或者底板上料至上料输送带3,效率高,从而实现一种半导体基板加载载具的上料机,能够将半导体基板加载到载具(将基板夹于底板与盖板之间)上,形成可保持基板平整的一体件,并将一体件上料给下游工艺设备,提高上下游工艺的流畅性。
如图4所示,一体件的底板41与盖板43上下固定可将基板42夹于中间,从而使基板42保持平整,盖板43上具有用于裸露核心功能工艺区的矩形开口43a以及用于裸露识别功能工艺区的矩形缺口43b和长条形孔口43c。下游工艺加工设备通过矩形开口43a、矩形缺口43b以及长条形孔口43c就可以进行工艺加工了。
但是,本技术领域中的普通技术人员应当认识到,以上的实施例仅是用来说明本实用新型,而并非用作为对本实用新型的限定,只要在本实用新型的实质精神范围内,对以上所述实施例的变化、变型都将落在本实用新型的权利要求书范围内。

Claims (6)

1.一种料盒双层上料机构,其特征在于,包括:
用于水平输送载料料盒的送盒输送带,其前端具有弹性止挡部;
用于水平输送空料盒的收盒输送带,所述收盒输送带与送盒输送带上下间隔布置且输送方向相反,且两者的两端上下齐平;
可在推料位与所述送盒输送带前端或者收盒输送带后端之间水平移动、可在推料位上下移动的料盒夹爪;
用于在所述料盒夹爪带动料盒向上移动过程中依次将料盒中的料板水平推至上料输送带后端的推料杆;
所述送盒输送带以及收盒输送带均与所述上料输送带呈90度布置,所述推料位在所述上料输送带的后侧与该上料输送带的后端相邻,且位于所述送盒输送带前端的前侧。
2.根据权利要求1所述的一种料盒双层上料机构,其特征在于,所述送盒输送带以及收盒输送带均由间隔布置的两条输送皮带构成,两侧具有间距与料盒的长边长度适配的挡板。
3.根据权利要求1或2所述的一种料盒双层上料机构,其特征在于,所述弹性止挡部为略高于所述送盒输送带的弹性挡块。
4.根据权利要求3所述的一种料盒双层上料机构,其特征在于,所述料盒夹爪包括L形的下夹部、L形的上夹部以及用于驱动所述上夹部靠近或者远离下夹部的第一升降机构,所述下夹部与上夹部上下布置,所述第一升降机构固定于所述下夹部上,且与所述上夹部连接。
5.根据权利要求4所述的一种料盒双层上料机构,其特征在于,所述料盒夹爪由第二升降机构以及第一水平移动机构驱动。
6.根据权利要求5所述的一种料盒双层上料机构,其特征在于,所述推料杆由第二水平移动机构驱动。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN111348451A (zh) * 2020-03-18 2020-06-30 江苏立讯机器人有限公司 一种供料装置
CN113941747A (zh) * 2021-11-02 2022-01-18 厦门航天思尔特机器人系统股份公司 一种上锡膏生产线的上料设备
CN115571551A (zh) * 2022-10-20 2023-01-06 深圳沃夫特自动化设备有限公司 一种运料装置

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