CN216141638U - 一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，包括电沉积槽，电沉积槽的内侧通过滑轨和滑块滑动连接有喷头护罩，喷头护罩的内侧顶部通过滑轨和滑块滑动连接有若干个喷头，若干个喷头的同一侧设有剪叉架，剪叉架的交接轴依次通过轴承转动连接于若干个喷头的外部同一侧，喷头的下端螺纹连接有喷嘴，喷嘴的内部设有密封圈，喷头护罩的内侧通过连接块固定连接有第二电机；第二电机、第二丝杆和剪叉架的配合可以方便调整喷头的分布密度，有效的提高工件电沉积的均匀性，有效改善表面电沉积凹凸不平等情况。
Description
技术领域
本实用新型涉及铜合金镀层技术领域，具体为一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置。
背景技术
射流电沉积又称电喷镀，是利用待镀的镀层金属或不性电极为阳极待镀的工件(如铜合金)为阴极，电解液从阳极喷吃射到阴极表面，同时在阴阳两极之间施加一定的电压得电沉积反应在喷射流与阴极表面的冲击区域发生的种表面处理技术，在喷射电沉积加工过程中，需要用喷装置将电解液喷射到待镀层金属表面，实现高速电沉积加工，由于射流速度和流量原因，现有的射流电沉积存在电沉积不均匀情况，使得表镀层面的厚度不一致，表面凹凸不平等情况，为此，提出一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，包括电沉积槽，所述电沉积槽的内侧通过滑轨和滑块滑动连接有喷头护罩，所述喷头护罩的内侧顶部通过滑轨和滑块滑动连接有若干个喷头，若干个所述喷头的同一侧设有剪叉架，所述剪叉架的交接轴依次通过轴承转动连接于若干个所述喷头的外部同一侧，所述喷头的下端螺纹连接有喷嘴，所述喷嘴的内部设有密封圈，所述喷头护罩的内侧通过连接块固定连接有第二电机。
作为本技术方案的进一步优选的：所述第二电机的输出端通过联轴器固定连接有第二丝杆，所述第二丝杆远离第二电机的一端通过轴承转动连接于喷头护罩的内部侧壁，靠近所述第二电机一端的喷头的一侧固定连接有第二丝杆螺母，所述第二丝杆螺母与第二丝杆螺纹连接，所述喷头护罩的内侧顶部固定连接有固定块，所述剪叉架的一端铰接于固定块的表面，所述剪叉架的另一端铰接于靠近第二电机一端的喷头的表面。
作为本技术方案的进一步优选的：所述电沉积槽的顶部固定连接有第一电机座，所述第一电机座的顶部固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端通过联轴器固定连接有第一丝杆，所述第一丝杆表面螺纹连接有第一丝杆螺母，所述第一丝杆螺母固定连接于喷头护罩的顶部。
作为本技术方案的进一步优选的：若干个所述喷头之间连通有电解液输送管，所述电沉积槽的下方放置有电解液储存槽，所述电解液储存槽通过管道连通有加压泵，所述加压泵的输出口与电解液输送管相连通，所述电沉积槽的底部连通有排液管。
作为本技术方案的进一步优选的：所述若干个所述喷头之间电性连接有阳极电源导线，所述电沉积槽的内侧底部固定连接有放置架，所述放置架的表面电性连接有阴极电源导线。
作为本技术方案的进一步优选的：所述电沉积槽的表面设有侧门。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过第二电机带动第二丝杆转动，可以通过第二丝杆螺母带动使得剪叉架来回伸缩，通过剪叉架的伸缩可以调整喷头之间的间隔距离，从而可以调整工件单位时间内表面被喷射的电解液量，提高电沉积均匀性，第二电机、第二丝杆和剪叉架的配合可以方便调整喷头的分布密度，有效的提高工件电沉积的均匀性，有效改善表面电沉积凹凸不平等情况。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的剖面结构示意图；
图3为本实用新型的图2中A区结构示意图；
图4为本实用新型的俯视结构示意图；
图5为本实用新型的喷头立体结构示意图。
图中：1、电沉积槽；2、第一丝杆螺母；3、喷头护罩；4、第一电机座； 5、第一丝杆；6、放置架；7、第一电机；8、第二丝杆；9、第二丝杆螺母； 10、喷头；11、第二电机；12、喷嘴；13、剪叉架；14、电解液输送管；15、加压泵；16、侧门；17、电解液储存槽；18、排液管；19、阳极电源导线； 20、阴极电源导线；21、固定块；22、密封圈。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例
请参阅图1-5，本实用新型提供一种技术方案：一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，包括电沉积槽1，所述电沉积槽1的内侧通过滑轨和滑块滑动连接有喷头护罩3，所述喷头护罩3的内侧顶部通过滑轨和滑块滑动连接有若干个喷头10，若干个所述喷头10的同一侧设有剪叉架13，所述剪叉架13的交接轴依次通过轴承转动连接于若干个所述喷头10的外部同一侧，所述喷头10的下端螺纹连接有喷嘴12，所述喷嘴12的内部设有密封圈22，所述喷头护罩3的内侧通过连接块固定连接有第二电机11；通过拧紧或拧松喷嘴12，可以改变喷头10和喷嘴12的之间的间隙，控制单位扇形喷射面的大小和电解液的喷射量。
本实施例中，具体的：所述第二电机11的输出端通过联轴器固定连接有第二丝杆8，所述第二丝杆8远离第二电机11的一端通过轴承转动连接于喷头护罩3的内部侧壁，靠近所述第二电机11一端的喷头10的一侧固定连接有第二丝杆螺母9，所述第二丝杆螺母9与第二丝杆8螺纹连接，所述喷头护罩3的内侧顶部固定连接有固定块21，所述剪叉架13的一端铰接于固定块 21的表面，所述剪叉架13的另一端铰接于靠近第二电机11一端的喷头10的表面；通过第二电机11带动第二丝杆8转动，可以通过第二丝杆螺母9带动使得剪叉架13来回伸缩，通过剪叉架13的伸缩可以调整喷头10之间的间隔距离，从而可以调整工件单位时间内表面被喷射的电解液量，提高电沉积均匀性，第二电机11、第二丝杆8和剪叉架13的配合可以方便调整喷头10的分布密度，有效的提高工件电沉积的均匀性，有效改善表面电沉积凹凸不平等情况。
本实施例中，具体的：所述电沉积槽1的顶部固定连接有第一电机座4，所述第一电机座4的顶部固定连接有第一电机7，所述第一电机7的输出端通过联轴器固定连接有第一丝杆5，所述第一丝杆5表面螺纹连接有第一丝杆螺母2，所述第一丝杆螺母2固定连接于喷头护罩3的顶部；第一电机7运转带动第一丝杆5运转，通过第一丝杆螺母2带动喷头护罩3在电沉积槽1上方来回往复运动，使得喷嘴12向工件表面均匀喷射电解液，有效提高电沉积均匀性。
本实施例中，具体的：若干个所述喷头10之间连通有电解液输送管14，所述电沉积槽1的下方放置有电解液储存槽17，所述电解液储存槽17通过管道连通有加压泵15，所述加压泵15的输出口与电解液相连通，所述电沉积槽 1的底部连通有排液管18，加压泵15通过电解液输送管14为喷头10提供高压电解液，电沉积后的电解液从排液管18排走。
本实施例中，具体的：所述若干个所述喷头10之间电性连接有阳极电源导线19，所述电沉积槽1的内侧底部固定连接有放置架6，所述放置架6的表面电性连接有阴极电源导线20，工件放置于放置架6的顶部，通过阳极电源导线19为喷头10内的电解液提供阳性电子，阴极电源导线20为工件提供阴性电子。
本实施例中，具体的：所述电沉积槽1的表面设有侧门16，操作者打开可以将工件放置在放置架6上或将处理好的工件从电沉积槽1内取出。
工作原理或者结构原理，使用时，操作者打开可以将工件放置在放置架6 的顶部，开启该装置，通过第二电机11带动第二丝杆8转动，可以通过第二丝杆螺母9带动使得剪叉架13来回伸缩，通过剪叉架13的伸缩可以调整喷头10之间的间隔距离，从而可以调整工件单位时间内表面被喷射的电解液量，提高电沉积均匀性，第二电机11、第二丝杆8和剪叉架13的配合可以方便调整喷头10的分布密度，有效的提高工件电沉积的均匀性，有效改善表面电沉积凹凸不平等情况。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，包括电沉积槽(1)，其特征在于：所述电沉积槽(1)的内侧通过滑轨和滑块滑动连接有喷头护罩(3)，所述喷头护罩(3)的内侧顶部通过滑轨和滑块滑动连接有若干个喷头(10)，若干个所述喷头(10)的同一侧设有剪叉架(13)，所述剪叉架(13)的交接轴依次通过轴承转动连接于若干个所述喷头(10)的外部同一侧，所述喷头(10)的下端螺纹连接有喷嘴(12)，所述喷嘴(12)的内部设有密封圈(22)，所述喷头护罩(3)的内侧通过连接块固定连接有第二电机(11)。
2.根据权利要求1所述的一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，其特征在于：所述第二电机(11)的输出端通过联轴器固定连接有第二丝杆(8)，所述第二丝杆(8)远离第二电机(11)的一端通过轴承转动连接于喷头护罩(3)的内部侧壁，靠近所述第二电机(11)一端的喷头(10)的一侧固定连接有第二丝杆螺母(9)，所述第二丝杆螺母(9)与第二丝杆(8)螺纹连接，所述喷头护罩(3)的内侧顶部固定连接有固定块(21)，所述剪叉架(13)的一端铰接于固定块(21)的表面，所述剪叉架(13)的另一端铰接于靠近第二电机(11)一端的喷头(10)的表面。
3.根据权利要求1所述的一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，其特征在于：所述电沉积槽(1)的顶部固定连接有第一电机座(4)，所述第一电机座(4)的顶部固定连接有第一电机(7)，所述第一电机(7)的输出端通过联轴器固定连接有第一丝杆(5)，所述第一丝杆(5)表面螺纹连接有第一丝杆螺母(2)，所述第一丝杆螺母(2)固定连接于喷头护罩(3)的顶部。
4.根据权利要求1所述的一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，其特征在于：若干个所述喷头(10)之间连通有电解液输送管(14)，所述电沉积槽(1)的下方放置有电解液储存槽(17)，所述电解液储存槽(17)通过管道连通有加压泵(15)，所述加压泵(15)的输出口与电解液输送管(14) 相连通，所述电沉积槽(1)的底部连通有排液管(18)。
5.根据权利要求1所述的一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，其特征在于：所述若干个所述喷头(10)之间电性连接有阳极电源导线(19)，所述电沉积槽(1)的内侧底部固定连接有放置架(6)，所述放置架(6)的表面电性连接有阴极电源导线(20)。
6.根据权利要求1所述的一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置，其特征在于：所述电沉积槽(1)的表面设有侧门(16)。
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| CN202122061412.4U CN216141638U (zh) | 2021-08-30 | 2021-08-30 | 一种基于射流电沉积制备金属复合镀层的新装置 |
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| CN (1) | CN216141638U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113026041A (zh) * | 2021-03-10 | 2021-06-25 | 江苏师范大学 | 基于喷射电化学装置还原偏硼酸钠制备硼氢化钠的储氢装置 |
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2021
- 2021-08-30 CN CN202122061412.4U patent/CN216141638U/zh active Active
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| CN113026041A (zh) * | 2021-03-10 | 2021-06-25 | 江苏师范大学 | 基于喷射电化学装置还原偏硼酸钠制备硼氢化钠的储氢装置 |
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