CN215828919U - 一种自动通气系统 - Google Patents
一种自动通气系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN215828919U CN215828919U CN202121022693.6U CN202121022693U CN215828919U CN 215828919 U CN215828919 U CN 215828919U CN 202121022693 U CN202121022693 U CN 202121022693U CN 215828919 U CN215828919 U CN 215828919U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- gas
- single crystal
- flow
- switch
- gas path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
本实用新型提供一种自动通气系统，用于控制气体输入单晶炉内，包括第一气路、第二气路和配比装置，第一气路与第二气路分别与配比装置连通，第一气路用于控制氩气的通入，第二气路用于通入第一气体；配比装置用于对氩气的流量和第一气体的流量进行配比，配比装置的出气端与单晶炉连通，将配比后的气体通入单晶炉内。本实用新型的有益效果是结构简单，使用方便，易开发，不会对单晶炉的拉晶设备结构进行改造，投入成本低，将保护气体和掺杂气体混合后的气体通入单晶炉内，使得通入单晶炉内的气体中的掺杂气体比例可控，以使得单晶的轴向电阻率可控，自动化程度高，不需人工干预即可实现拉晶过程中自动进行气相掺杂。
Description
技术领域
本实用新型属于光伏技术领域，尤其是涉及一种自动通气系统。
背景技术
现有技术中，掺镓单晶相比掺硼单晶具有低光衰的优势，推动了市场对掺镓单晶的需求，但由于Ga的分凝系数极小(Ga：0.008，B：0.8)，同样的棒长下，电阻率分布更加宽泛。
目前行业内普遍使用固相掺杂的方式进行掺杂，此掺杂方法在拉晶过程中补偿掺杂无法满足单晶品质的要求，电阻率可控度极低，且无法实现自动持续补偿，拉制的单晶棒长较短，自动化水平低，降低生产效率。
发明内容
鉴于上述问题，本实用新型提供一种自动通气系统，以解决现有技术存在的以上或者其他前者问题。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种自动通气系统，用于控制气体输入单晶炉内，包括第一气路、第二气路和配比装置，第一气路与第二气路分别与配比装置连通，第一气路用于控制氩气的通入，第二气路用于通入第一气体；
配比装置用于对氩气的流量和第一气体的流量进行配比，配比装置的出气端与单晶炉连通，将配比后的气体通入单晶炉内。
进一步的，第一气路包括第一管路、第一开关和第一流量检测装置，第一开关与第一流量检测装置设于第一管路上，控制第一气路的开启、关闭及气体流量。
进一步的，第二气路包括第二管路、压力调节装置、第二开关和第二流量检测装置，压力调节装置、第二开关与第二流量检测装置均设于第二管路上，控制第二气路的压力、流量及开启、关闭。
进一步的，第一开关与第二开关均为电磁阀。
进一步的，第一流量检测装置与第二流量检测装置均为质量流量计。
进一步的，压力调节装置为减压阀。
进一步的，第一气体为磷化氢和氩气的混合气体。
进一步的，进入配比装置内的氩气的流量与第一气体的流量之比为2:1-10:1。
由于采用上述技术方案，使得自动通气系统结构简单，使用方便，易开发，不会对单晶炉的拉晶设备结构进行改造，投入成本低；具有第一气路和第二气路，第一气路用于保护气体的输送，第二气路用于掺杂气体的输送，且第一气路与第二气路均与配比装置连接，对保护气体和掺杂气体进行配比混合，将混合后的气体通入单晶炉内，使得通入单晶炉内的气体中的掺杂气体比例可控，以使得单晶的轴向电阻率可控；该自动通气系统与单晶炉控制系统连接，使得自动通气系统按照控制系统内预设的程序动作，自动化程度高，不需人工干预即可实现拉晶过程中自动进行气相掺杂。
附图说明
图1是本实用新型的一实施例的结构示意图；
图中：
1、第一流量检测装置 2、第一开关 3、第二开关
4、第二流量检测装置 5、压力调节装置 6、配比装置
7、单晶炉
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的说明。
图1示出了本实用新型一实施例的结构示意图，本实施例涉及一种自动通气系统，用于直拉单晶在进行气相掺杂时使用，尤其是拉制掺镓单晶进行掺杂气体进行掺杂时使用，该自动通气系统与单晶炉连通，使得掺杂气体能够通入单晶炉内，进行掺杂，该自动通气系统将掺杂气体与保护气体进行配比混合，然后再通入单晶炉内，进行气相掺杂，结构简单，易开发，不会对单晶炉的拉晶设备结构进行改造，投入成本低，自动化程度高。
一种自动通气系统，如图1所示，包括第一气路、第二气路和配比装置6，第一气路与第二气路分别与配比装置6连通，第一气路用于控制氩气的通入，第二气路用于通入第一气体；其中，第一气路的一端与配比装置6连接，第一气路的另一端与氩气的存储装置连接，使得氩气存储装置在第一气路的作用下由氩气存储装置内流出，进入配比装置6内，第二气路的一端与配比装置6连接，第二气路的另一端与第一气体的存储装置连接，使得在第一气体在第二气路的作用下由第一气体的存储装置内流出，进入配比装置6内；第一气路与第二气路的设置，能够实现氩气与第一气体的定向流动，能够实现对单晶炉7内持续输入氩气和第一气体，在拉晶过程中，在输入保护气体的同时输入掺杂气体，对单晶进行气相掺杂。
配比装置6用于对氩气的流量和第一气体的流量进行配比，配比装置6的出气端与单晶炉7连通，将配比后的气体通入单晶炉7内，从第一气路中流出的氩气与第二气路中流出的第一气体在配比装置6内进行配比混合，并将混合后的气体输入单晶炉7内，进行掺杂气体和保护气体的持续输入。这里，氩气与第一气体经过配比装置6配比混合后形成的混合气体即为掺杂气体。配比装置6在进行氩气与第一气体混合配比时，氩气的流量与第一气体的流量之比为2:1-10:1，该氩气的流量与第一气体的流量之比可以是2:1、3:1、4:1、5:1、6:1、7:1、8:1、9:1或10:1，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求。
具体地，上述的第一气路包括第一管路、第一开关2和第一流量检测装置1，第一开关2与第一流量检测装置1设于第一管路上，控制第一气路的开启、关闭及气体流量，第一管路的设置，便于对氩气的流动进行导向，使得氩气沿着第一管路的方向进行流动，进入配比装置6内，该第一管路为连接管路，且为耐低温耐高压的连接管路，能够氩气的输送；第一开关2的设置，用于控制第一气路的打开与关闭，当第一开关2打开时，氩气能够沿着第一管路从氩气的存储装置内流出，流入配比装置6，当第一开关2关闭时，氩气能够从氩气的存储装置内流出，氩气不能沿着第一管路流动而流入配比装置6内，该第一管路处于关闭状态，该第一开关2可以是截止阀，或者是电磁阀，或者是其他能够进行管路打开与关闭的阀，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求，优选的，在本实施例中，该第一开关2为电磁阀，为市售产品，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求。
上述的第一流量检测装置1用于检测第一管路内氩气的流量，该第一流量检测装置1为流量计，优选的，在本实施例中，该第一流量检测装置1为质量流量计，为市售产品，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求。
在本实施例中，优选的，第一开关2与第一流量检测装置1沿着氩气的流动方向依次设置。
上述的第二气路包括第二管路、压力调节装置5、第二开关3和第二流量检测装置4，压力调节装置5、第二开关3与第二流量检测装置4均设于第二管路上，控制第二气路的压力、流量及开启、关闭，第二管路的设置，使得第一气体能够从第一气体的存储装置内流出，沿着第二管路的方向流动，流入配比装置6内，对第一气体的流动进行导向，该第二管路为连接管道，且为耐低温耐高压的管路，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求。
上述的第二开关3的设置，用于控制第二气路的打开与关闭，当第二开关3打开时，第一气体能够沿着第二管路从第一气体的存储装置内流出，流入配比装置6，当第二开关3关闭时，第一气体能够从第一气体的存储装置内流出，第一气体不能沿着第二管路流动而流入配比装置6内，此时，第二管路处于关闭状态，该第二开关3可以是截止阀，或者是电磁阀，或者是其他能够进行管路打开与关闭的阀，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求，优选的，在本实施例中，该第二开关3为电磁阀，为市售产品，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求。
上述的上述的第二流量检测装置4用于检测第二管路内第一气体的流量，该第二流量检测装置4为流量计，优选的，在本实施例中，该第二流量检测装置4为质量流量计，为市售产品，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求。
上述的压力调节装置5用于对从第一气体的存储装置中流出的第一气体的压力进行调节，在本实施例中，位于第一气体的存储装置内第一气体的压力较大，需要对从该装置内流出的第一气体进行减压，使得第一气体在第二管路中的气体的压力小于0.5MPa，所以，该压力调节装置5优选为减压阀，对从第一气体的存储装置内流出的第一气体进行减压，使得减压后的第一气体沿着第二管路流动，该减压阀为市售产品，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求。
上述的第一气体为磷化氢和氩气的混合气体。
在本实施例中，优选的，压力调节装置5、第二流量检测装置4与第二开关3依次沿着第一气体的流动方向依次设置。
该自动通气系统在使用时，第一流量检测装置1、第一开关2、第二开关3、第二流量检测装置4与压力调节装置5均与单晶炉的控制系统连接，根据单晶的拉制工艺，进行单晶的拉制，控制系统控制第一开关2动作，打开第一气路，在单晶拉制的过程中对单晶炉内持续通入氩气，氩气作为保护气体，在拉晶过程中带走杂质；当需要通入掺杂气体的时候，控制系统控制压力调节装置5和第二开关3动作，进行含有磷化氢和氩气的第一气体的通入，并通过第一流量检测装置1与第二流量检测装置4分别测量第一气路中的氩气的流量和第二气路中的第一气体的流量，并根据第一流量检测装置1与第二流量检测装置4的检测结果，控制系统控制第一开关2与第二开关3动作，控制氩气的流量和第一气体的流量，使得氩气与第一气体按照需要的流量在配比装置6内进行配比，配比后的气体从配比装置6内流出，进入单晶炉内，进行气象掺杂，同时，保护气体氩气流量也保持通入，保证单晶的拉制的顺利进行；其中，第一气体从第一气体的存储装置内流出后，在压力调节装置5的作用下进行减压，降低气体的压力，减压后的第一气体在第二气路中流动；控制系统根据单晶拉制工艺控制掺杂气体的流量，使得掺杂气体的流量随着单晶拉制过程中单晶的电阻率的衰减而增大，控制单晶轴向电阻率的衰减。
由于采用上述技术方案，使得自动通气系统结构简单，使用方便，易开发，不会对单晶炉的拉晶设备结构进行改造，投入成本低；具有第一气路和第二气路，第一气路用于保护气体的输送，第二气路用于掺杂气体的输送，且第一气路与第二气路均与配比装置连接，对保护气体和掺杂气体进行配比混合，将混合后的气体通入单晶炉内，使得通入单晶炉内的气体中的掺杂气体比例可控，以使得单晶的轴向电阻率可控；该自动通气系统与单晶炉控制系统连接，使得自动通气系统按照控制系统内预设的程序动作，自动化程度高，不需人工干预即可实现拉晶过程中自动进行气相掺杂。
以上对本实用新型的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。
Claims (6)
1.一种自动通气系统，用于控制气体输入单晶炉内，其特征在于：包括第一气路、第二气路和配比装置，所述第一气路与所述第二气路分别与所述配比装置连通，所述第一气路用于控制氩气的通入，所述第二气路用于通入第一气体；
所述配比装置用于对氩气的流量和第一气体的流量进行配比，所述配比装置的出气端与所述单晶炉连通，将配比后的气体通入单晶炉内。
2.根据权利要求1所述的自动通气系统，其特征在于：所述第一气路包括第一管路、第一开关和第一流量检测装置，所述第一开关与所述第一流量检测装置设于所述第一管路上，控制第一气路的开启、关闭及气体流量。
3.根据权利要求2所述的自动通气系统，其特征在于：所述第二气路包括第二管路、压力调节装置、第二开关和第二流量检测装置，所述压力调节装置、所述第二开关与所述第二流量检测装置均设于所述第二管路上，控制第二气路的压力、流量及开启、关闭。
4.根据权利要求3所述的自动通气系统，其特征在于：所述第一开关与所述第二开关均为电磁阀。
5.根据权利要求3所述的自动通气系统，其特征在于：所述第一流量检测装置与所述第二流量检测装置均为质量流量计。
6.根据权利要求3所述的自动通气系统，其特征在于：所述压力调节装置为减压阀。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202121022693.6U CN215828919U (zh) | 2021-05-13 | 2021-05-13 | 一种自动通气系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202121022693.6U CN215828919U (zh) | 2021-05-13 | 2021-05-13 | 一种自动通气系统 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN215828919U true CN215828919U (zh) | 2022-02-15 |
Family
ID=80188712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202121022693.6U Active CN215828919U (zh) | 2021-05-13 | 2021-05-13 | 一种自动通气系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN215828919U (zh) |
-
2021
- 2021-05-13 CN CN202121022693.6U patent/CN215828919U/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN106151880A (zh) | 一种小流量调节系统及其调节方法 | |
| CN102126000B (zh) | 连铸机钢水罐吹氩自动控制方法及装置 | |
| CN201087209Y (zh) | 一种富氧熔炼供氧自动控制装置 | |
| CN215828919U (zh) | 一种自动通气系统 | |
| CN204958970U (zh) | 精炼炉钢包底吹氩控制装置 | |
| CN102471062B (zh) | 太阳能电池用硒化氢混合气体的供给方法以及供给装置 | |
| CN101992035B (zh) | 自动氮氢配气方法 | |
| CN220413447U (zh) | 一种rh真空处理环流气的调节控制装置 | |
| CN109695056A (zh) | 一种氮气拉晶用管路及掺氮单晶拉制工艺 | |
| CN209989501U (zh) | 一种氮气拉晶用管路 | |
| CN207002764U (zh) | 一种高炉机前富氧的系统 | |
| JPH11333280A (ja) | 二種ガスによる目的濃度混合ガスの流通式供給方法とその装置 | |
| CN115341266A (zh) | 一种自动控制单晶硅电阻率的方法 | |
| CN206713988U (zh) | 一种大米蛋白料液多段分时在线酶制剂添加系统 | |
| CN105709655A (zh) | 一种用于热浸镀实验的气氛联合配气装置及其方法 | |
| CN115341268A (zh) | 一种自动控制单晶硅电阻率的方法 | |
| CN104774992B (zh) | 利用转炉炼钢氮氧复吹控制装置实现转炉炼钢氮氧复吹的方法 | |
| CN106980329A (zh) | 一种全氧燃烧玻璃窑炉氧气流量自动控制系统 | |
| CN108330538A (zh) | 一种用于单晶硅拉制过程的氮气控制配盘及方法 | |
| CN208667903U (zh) | 一种用于单晶硅拉制过程的氮气控制配盘 | |
| CN215560801U (zh) | 外延掺杂气体的稀释装置 | |
| CN104152610B (zh) | 一种高炉富氧全智能调节方法 | |
| CN104328484A (zh) | 一种新型区熔气掺单晶的掺杂气路 | |
| CN217026013U (zh) | 一种底吹氧精炼硅铁气体自动控制装置 | |
| CN215517738U (zh) | 一种通气流量控制箱及气体通气系统 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: No.19, Amur South Street, Saihan District, Hohhot, Inner Mongolia Autonomous Region Patentee after: Inner Mongolia Zhonghuan Crystal Materials Co.,Ltd. Address before: No.19, Amur South Street, Saihan District, Hohhot, Inner Mongolia Autonomous Region Patentee before: INNER MONGOLIA ZHONGHUAN XIEXIN PHOTOVOLTAIC MATERIAL Co.,Ltd. |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |