CN215809786U - 一种ipa干燥设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种IPA干燥设备,包括内部开设有固定槽的壳体、以及设于壳体内的干燥机构,干燥机构包括设于固定槽底壁上的干燥筒、设于干燥筒顶端开设有干燥槽底壁上的清洗组件、以及通过升降组件在干燥槽内进行上下移动并用于放置待清洗物体的放置组件;干燥槽内设置有将干燥槽分为上下两个部分的隔板,隔板上开设有便于放置组件通过的贯通槽;本实用新型便于对待干燥的物体表面全方位进行清洗,提高了清洗效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及IPA干燥干燥技术领域,具体为一种IPA干燥设备。
背景技术
光硅片是集成电路产业最重要的基础材料,电路被加工在抛光硅片的表面。随着集成电路的特征线宽越来越小,拋光硅片的抛光表面允许残留的颗粒的数量和直径越来越小。抛光硅片在抛光后-般经过一次清洗和最终清洗等两次清洗来使表面颗粒和表面金属指标达到用户的要求。
抛光硅片的最终清洗一般要经过经过装片、酸洗(HF)、快速高纯水冲洗(QDR)、一号液清洗(SC1)、高纯水溢流(OF)、二号液清洗(SC2)、快速高纯水冲洗(QDR)、高纯水溢流和浸泡(F/R)、甩干或异丙醇干燥、取片等步骤完成最终清洗过程。甩干是使抛光硅片在离心力的作用下去除表面吸附水而干燥的方法。异丙醇(异丙醇)干燥是使抛光硅片表面在异丙醇蒸汽和氮气的作用下干燥的方法。
但是现有的IPA清洗干燥机构大多为通过简单的IPA蒸汽清洗过滤,在清洗过程中,清洗效率低。
实用新型内容
针对上述技术问题,本实用新型提供一种IPA干燥设备,便于对待干燥的物体表面全方位进行同时清洗,提高了清洗效率。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种IPA干燥设备,包括内部开设有固定槽的壳体、设于壳体1内的氮气填充装置、以及设于所述壳体内的干燥机构,所述干燥机构包括设于所述固定槽底壁上的干燥筒、设于所述干燥筒顶端开设有干燥槽底壁上的清洗组件、以及通过升降组件在所述干燥槽内进行上下移动并用于放置待清洗物体的放置组件;
所述干燥槽内设置有将干燥槽分为上下两个部分的隔板,所述隔板上开设有便于所述放置组件通过的贯通槽。
优选的,所述放置组件包括顶端开设有放置待清洗物体的放置槽的移动块、设于移动块侧面开设有与所述放置槽贯通的连接槽侧壁上贯穿的连接板、以及设于所述连接板表面的限位块,所述连接板一侧通过弹簧穿设于所述连接槽临近移动块顶端的侧壁上;所述放置槽的开口处设置有与移动块密封连接的密封板,且放置槽的底壁开设有贯穿移动块的漏液槽;所述移动块设于所述升降组件上,且移动块与贯通槽相匹配。
优选的,所述升降组件包括内部穿设有升降螺杆且竖直设于干燥槽侧壁上的升降条、以及设于移动块上并与所述升降螺杆螺纹连接的升降块;所述升降条上开设有与升降螺杆贯通的升降槽,并通过升降块带动移动块在干燥槽内进行上下移动。
优选的,所述清洗组件包括通过顶端开设有储液槽储存干燥液体的储液块、以及设于所述储液槽内用于对干燥液体进行加热的加热管。
优选的,所述密封板的下端面边缘位置设置有密封垫和与卡块,且所述卡块与移动块顶端边缘位置开设有的卡槽相匹配。
优选的,所述干燥筒内位于隔板和储液块之间且开设有位于贯通槽下方集液槽的集液箱,所述集液箱上贯穿有用于排液的排液管,所述排液管一端位于集液槽内,另一端贯穿于壳体的外部。
本实用新型的有益效果:通过清洗组件和隔板,便于对待干燥的物体表面全方位进行同时清洗,提高了清洗效率。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制,在附图中:
图1为本实用新型提出的IPA干燥设备简易结构示意图。
图2为本实用新型提出的IPA干燥设备打开结构示意图。
图3为本实用新型的固定槽内部结构示意图。
图4为本实用新型的干燥机构侧面结构示意图。
图5为本实用新型的干燥机构结构示意图。
图6为本实用新型的放置组件结构示意图。
图中:1、壳体;2、干燥口;3、挡板;4、排液管;5、控制电机;6、控制螺杆;7、固定槽;8、干燥筒;9、干燥槽;10、升降条;11、升降块;12、隔板;13、升降槽;14、升降螺杆;15、贯通槽;16、移动块;17、放置槽;18、密封板;19、卡槽;20、储液块;21、加热管;22、限位块;23、漏液槽;24、连接槽;25、连接板;26、集液箱。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例和附图,进一步阐述本实用新型,但下述实施例仅为本实用新型的优选实施例,并非全部。基于实施方式中的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其它实施例,都属于本实用新型的保护范围。
现有的IPA清洗干燥机构大多为通过简单的IPA蒸汽清洗过滤,在清洗过程中,清洗效率低,有的IPA清洗干燥则是将IPA蒸汽喷射于到待清洗物体表面,可能导致仅可以对待清洗物体较大一部分进行清洗,降低了清洗效率,现在通过将待清洗物体放置于放置组件上,在通过升降组件通过放置组件带动待清洗物体向通过隔板12隔开的清洗组件位置移动,再通过氮气填充装置向隔板12和清洗组件之间喷入氮气,此时待清洗物体表面在IPA蒸汽和氮气的作用下完成清理和干燥,对产品上的杂质进行清除,便于对待干燥的物体表面全方位进行同时清洗,提高了清洗效率。
请参阅图1-6,一种IPA干燥设备,包括内部开设有固定槽7的壳体1、壳体1内设置有氮气填充装置用于喷射氮气、以及设于壳体1内的干燥机构,干燥机构包括设于固定槽7底壁上的干燥筒8、设于干燥筒8顶端开设有干燥槽9底壁上的清洗组件、以及通过升降组件在干燥槽9内进行上下移动并用于放置待清洗物体的放置组件;通过氮气充装装置便于向干燥槽9内喷入氮气,再通过加热管21对储液块20内的IPA进行加热形成IPA蒸汽,通过IPA蒸汽和氮气便于对待清理物体表面进行全面的清理和干燥,起高楼干燥效率,
干燥槽9内设置有将干燥槽9分为上下两个部分的隔板12,隔板12上开设有便于放置组件通过的贯通槽15。
如图1-2所示,壳体1的顶端开设有干燥口2,干燥口2的内壁上开设有控制槽,且控制槽内穿设有与干燥口2开口大小相匹配的挡板3,控制槽的槽底设置有输出端连接控制螺杆6的控制电机5,且控制螺杆6穿设于挡板3内,并与挡板3螺纹连接,当控制电机5带动控制螺杆6转动,带动挡板3将干燥口2封闭时,便于时壳体1内形成封闭空间,避免了IPA蒸汽和氮气泄露。
放置组件包括顶端开设有放置待清洗物体的放置槽17的移动块16、设于移动块16侧面开设有与放置槽17贯通的连接槽24侧壁上贯穿的连接板25、以及设于连接板25表面的限位块22,连接板25一侧通过弹簧穿设于连接槽24临近移动块16顶端的侧壁上;放置槽17的开口处设置有与移动块16密封连接的密封板18,且放置槽17的底壁开设有贯穿移动块16的漏液槽23;移动块16设于升降组件上,且移动块16与贯通槽15相匹配。
如图2-4所示,当移动块16带动待清洗物体向下移动时,此时隔板12开设有的贯通槽15便于会挡住限位块22的位置,此时限位块22带动连接板25向上移动,此时由于密封板18与移动块16密封设置,且此时连接板25向上移动打开连接槽24,一方面使隔板12与干燥槽9槽壁形成封闭的口腔,避免了IPA蒸汽和氮气泄露,另一方面使待清洗物体表面与IPA蒸汽和氮气完全接触,以便于对待清洗物体表面进行清洗和干燥,提高了清洗效率。
升降组件包括内部穿设有升降螺杆14且竖直设于干燥槽9侧壁上的升降条11、以及设于移动块16上并与升降螺杆14螺纹连接的升降块11;升降条10上开设有与升降螺杆14贯通的升降槽13,并通过升降块10带动移动块16在干燥槽9内进行上下移动。
如图4所示,升降螺杆14通过步进电机带动进行转动,以便于带动与升降螺杆14螺纹连接的升降块11在升降螺杆14的方向上进行移动,从而便于带动移动块16在干燥槽9内进行上下移动。
清洗组件包括通过顶端开设有储液槽储存干燥液体的储液块20、以及设于储液槽内用于对干燥液体进行加热的加热管21。
密封板18的下端面边缘位置设置有密封垫和与卡块,且卡块与移动块16顶端边缘位置开设有的卡槽19相匹配,密封垫采用橡胶圈。
干燥筒8内位于隔板12和储液块20之间且开设有位于贯通槽15下方集液槽的集液箱26,集液箱26上贯穿有用于排液的排液管4,排液管4一端位于集液槽内,另一端贯穿于壳体1的外部,便于将集液箱26内的液体排出壳体1。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例,并不用来限制本实用新型,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (6)
1.一种IPA干燥设备,包括内部开设有固定槽(7)的壳体(1)、设于壳体(1)内的氮气填充装置、以及设于所述壳体(1)内的干燥机构,其特征在于,所述干燥机构包括设于所述固定槽(7)底壁上的干燥筒(8)、设于所述干燥筒(8)顶端开设有干燥槽(9)底壁上的清洗组件、以及通过升降组件在所述干燥槽(9)内进行上下移动并用于放置待清洗物体的放置组件;
所述干燥槽(9)内设置有将干燥槽(9)分为上下两个部分的隔板(12),所述隔板(12)上开设有便于所述放置组件通过的贯通槽(15)。
2.根据权利要求1所述的一种IPA干燥设备,其特征在于:所述放置组件包括顶端开设有放置待清洗物体的放置槽(17)的移动块(16)、设于移动块(16)侧面开设有与所述放置槽(17)贯通的连接槽(24)侧壁上贯穿的连接板(25)、以及设于所述连接板(25)表面的限位块(22),所述连接板(25)一侧通过弹簧穿设于所述连接槽(24)临近移动块(16)顶端的侧壁上;所述放置槽(17)的开口处设置有与移动块(16)密封连接的密封板(18),且放置槽(17)的底壁开设有贯穿移动块(16)的漏液槽(23);所述移动块(16)设于所述升降组件上,且移动块(16)与贯通槽(15)相匹配。
3.根据权利要求2所述的一种IPA干燥设备,其特征在于:所述升降组件包括内部穿设有升降螺杆(14)且竖直设于干燥槽(9)侧壁上的升降条(10)、以及设于移动块(16)上并与所述升降螺杆(14)螺纹连接的升降块(11);所述升降条(10)上开设有与升降螺杆(14)贯通的升降槽(13),并通过升降块(11)带动移动块(16)在干燥槽(9)内进行上下移动。
4.根据权利要求1所述的一种IPA干燥设备,其特征在于:所述清洗组件包括通过顶端开设有储液槽储存干燥液体的储液块(20)、以及设于所述储液槽内用于对干燥液体进行加热的加热管(21)。
5.根据权利要求2所述的一种IPA干燥设备,其特征在于:所述密封板(18)的下端面边缘位置设置有密封垫和与卡块,且所述卡块与移动块(16)顶端边缘位置开设有的卡槽(19)相匹配。
6.根据权利要求4所述的一种IPA干燥设备,其特征在于:所述干燥筒(8)内位于隔板(12)和储液块(20)之间且开设有位于贯通槽(15)下方集液槽的集液箱(26),所述集液箱(26)上贯穿有用于排液的排液管(4),所述排液管(4)一端位于集液槽内,另一端贯穿于壳体(1)的外部。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Family
ID=80156836
Family Applications (1)
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