CN114777434B - 一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明硅片清理技术领域，尤其是一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法，包括箱体，所述箱体的底部固定安装有支撑腿，所述箱体的内部滑动设置有第一平板和第二平板，还包括：橡胶垫，所述橡胶垫固定套设于所述第一平板和所述第二平板的边缘；驱动装置，所述驱动装置安装于所述弧形块与所述箱体之间；换气干燥装置，所述换气干燥装置安装于所述箱体的侧壁上。此装置换气干燥装置的设置，使得硅片在上料过程中能够保持硅片附近的相对独立空间，硅片在进行高温干燥之前，自动对硅片周围的气体进行置换，随后再通过通入高温的氮气对硅片进行干燥，有利于避免通过高温气流对硅片进行干燥时与硅片的表面发生氧化反应。

Description

一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法

技术领域

本发明硅片清理领域，尤其涉及一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法。

背景技术

地壳中含量达25.8％的硅元素，为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一，对太阳能电池这样注定要进入大规模市场的产品而言，会使用具有储量优势的硅元素来制备硅片以供使用，在硅片的制造过程中，需要对制备的硅片进行清洁，在清洁后又需要对硅片进行干燥处理。

现有技术公开了部分硅片清洗方面的发明专利，申请号为CN202011368754.4的中国专利，公开了一种硅片干燥装置及其方法，该种硅片干燥装置及其方法包括制绒花篮传送装置、第一缓冲腔、第一低压腔、干燥腔、第二低压腔和第二缓冲腔，制绒花篮传送装置用于输送等距排放的装载硅片的制绒花篮，所述制绒花篮传送装置沿传送方向依次设置有第一缓冲腔、第一低压腔、干燥腔、第二低压腔和第二缓冲腔，各腔室之间有双侧门隔开成封闭空间，缓冲腔和低压腔分别与真空系统相连，干燥腔内置有气体过滤还原系统、加热温控系统、气体吹扫系统和水汽冷凝循环系统。

现有技术中在对硅片进行干燥处理时，经常会通过热风来进行干燥，通过高温气流带走硅片上以及硅片缝隙里的液体，然而刚制备完毕的硅片外侧不够稳定，使得硅片在高温环境中容易与空气中的氧气发生氧化反应，从而影响硅片的下一步制备，而对硅片进行干燥时需要不断的进行硅片的上下料，使得硅片难以处于封闭的环境中，从而难以避免硅片与空气中氧气的反应。为此，本发明提出一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法用于解决上述问题。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法。

为达到以上目的，本发明采用的技术方案为：一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法，包括箱体，所述箱体的底部固定安装有支撑腿，所述箱体的内部滑动设置有第一平板和第二平板，所述第一平板位于所述第二平板的上方，还包括：

橡胶层，所述橡胶层固定于所述箱体的内壁上；

支撑架，所述支撑架固定连接于所述第一平板和所述第二平板之间；

弧形块，两个所述弧形块对称固定于所述第一平板和所述第二平板之间的两侧；

橡胶垫，所述橡胶垫固定套设于所述第一平板和所述第二平板的边缘；

把手，两个所述把手对称固定于所述第一平板的顶部；

驱动装置，所述驱动装置安装于所述弧形块与所述箱体之间；

换气干燥装置，所述换气干燥装置安装于所述箱体的侧壁上；

其中，所述驱动装置用于驱动所述弧形块由所述箱体的顶部向所述箱体的底部移动，所述换气干燥装置用于在所述第一平板和所述第二平板放置在所述箱体的内部后，对所述第一平板和所述第二平板之间的空气进行置换，并且在空气置换后对硅片进行干燥处理。

优选的，所述驱动装置包括两个半圆槽、两个第一安装架和两个第二安装架，两个所述半圆槽对称开设于所述箱体的两侧内壁上，两个所述第二安装架对称固定于所述箱体外壁的上方，两个所述第二安装架的底部均通过螺钉固定有电机，两个所述电机的输出轴分别贯穿两个所述第二安装架后固定有第一齿轮，两个所述第一安装架对称固定于所述箱体的顶部，两个所述第一安装架的底部均转动安装有第二齿轮，所述第二齿轮与相邻的所述第一齿轮相啮合，两个所述第二齿轮的底部均同轴固定有转轴，所述转轴位于所述半圆槽的内部，所述转轴的底部固定有第一螺杆，所述第一螺杆的底部固定有第二螺杆，所述第二螺杆的螺距小于所述第一螺杆的螺距，两个所述弧形块的内壁上均阵列固定有与所述第一螺杆和所述第二螺杆的螺纹面适配的滑块，所述滑块滑动接触在所述第一螺杆的螺纹面上。

优选的，所述换气干燥装置包括多个通气管道、通风口、第一位置、第二位置和第三位置，所述第一位置、第二位置和第三位置分别分布在所述箱体的两侧，所述第二位置和第三位置分别对称位于所述箱体的两侧，所述箱体的第二位置和第三位置均与多个线性阵列分布的所述通气管道固定连通，所述箱体的第一位置与一个所述通气管道固定连通，所述第一位置位于所述第二位置的上方，全部所述通气管道背向所述箱体的一侧均固定连通有多个第一连通管，所述通风口贯穿开设于所述箱体的侧壁上，所述通风口与所述第一位置的所述第一连通管位于同一水平高度，所述通风口与所述第一位置的所述第一连通管之间安装有换气机构，所述换气机构用于对所述第一平板和所述第二平板安装至所述箱体内部时携带的空气进行更换，所述第二位置和所述第三位置相对的所述第一连通管位于同一水平高度，所述第二位置和所述第三位置的所述第一连通管之间安装有干燥机构，所述干燥机构用于通过高温气流对硅片进行干燥。

优选的，所述换气机构包括安装架，所述安装架固定于所述箱体的侧壁上并且位于所述通风口外圈，所述安装架的内部固定有固定板，所述固定板上阵列固定有多个第二电机，所述第二电机的输出轴贯穿所述固定板后同轴固定有风扇，所述风扇位于所述安装架的内部，所述第一位置的所述第一连通管连通外部管道输入氮气，所述通气管道的内部与所述第一平板、所述第二平板之间安装有自连通机构，所述自连通机构用于在所述第二平板移动通过所述通气管道时连通所述通气管道，在所述第一平板移动通过所述通气管道时关闭所述通气管道。

优选的，所述干燥机构包括第二连通管，所述第二连通管包括第三连接段和第四连接段，所述第三连接段与所述第三位置的所述第一连通管固定连通，所述第四连接段与所述第二位置的所述第一连通管固定连通，所述第三连接段与所述第四连接段之间共同固定连通有氮气箱，所述氮气箱的内部固定安装有热风机，所述热风机的输出端与所述第四连接段相连通，所述热风机的进气端位于所述氮气箱的内部，所述第四连接段的中部固定连通有框体，所述框体的顶部活动插设安装有干燥剂箱，所述干燥剂箱与全部所述第四连接段相连通，所述第三连接段的中部安装有冷凝机构，所述冷凝机构用于对通过所述箱体内部后湿度增加的氮气进行冷凝除水，所述通气管道的内部与所述第一平板、所述第二平板之间安装有自连通机构，所述自连通机构用于在所述第二平板移动通过所述通气管道时连通所述通气管道，在所述第一平板移动通过所述通气管道时关闭所述通气管道。

优选的，所述冷凝机构包括多个冷凝管，全部所述冷凝管分别固定套设于所述第三连接段的外部，相邻所述冷凝管之间以及最下方所述冷凝管的底部固定连通有连接通道，所述连接通道贯穿所述第三连接段的外壁后与所述第三连接段固定连通，最下方所述连接通道的底部密封插设连通有集水箱。

优选的，所述自连通机构包括两个固定框架和四个支撑台，两个所述固定框架固定于所述通气管道的内部，两个所述固定框架之间滑动连接有移动框架，所述移动框架朝向所述箱体内部的一侧对称固定有两个连接条，与所述连接条接触的所述固定框架侧壁上贯穿开设有两个滑槽，两个所述连接条穿过所述滑槽后共同固定有三角板，所述三角板滑动连接于所述通气管道的内部，四个所述支撑台上下对称固定于所述支撑架的两侧，上方两个所述支撑台的相背侧均开设有第三凹槽，两个所述第三凹槽的内部均滑动插设有第三伸缩块，所述第三伸缩块与所述第三凹槽的内壁之间固定连接有第三弹簧，下方两个所述支撑台的相背侧均开设有第二凹槽，两个所述第二凹槽的内部滑动插设有第二伸缩块，所述第二伸缩块与所述第二凹槽的内壁之间固定连接有第二弹簧，所述第二伸缩块与所述第三伸缩块的底部均开设有第二斜面，所述通气管道朝向所述箱体的一段内圈边缘设置有圆角。

优选的，所述支撑架的内部贯穿设置有安装口，所述安装口的内部阵列转动安装有若干转动杆，所述转动杆包括边缘转动杆和中部转动杆，全部所述转动杆的一端均固定有第三齿轮，全部所述第三齿轮的外圈共同传动连接有同步链条，两端所述边缘转动杆的端部同轴固定连接有橡胶轮，所述支撑台上开设有与所述橡胶轮相对应的让位口，所述箱体两侧的内壁上固定有多个橡胶条，两侧所述橡胶条间隔设置。

优选的，所述支撑架朝向所述橡胶条的一侧上下位置均对称开设有第一凹槽，所述第一凹槽的内部滑动插设有第一伸缩块，所述第一伸缩块的侧面开设有空腔，所述第一伸缩块的空腔内壁与所述第一凹槽的内壁上共同固定连接有第一弹簧，所述第一伸缩块的底部设置有第一斜面，全部所述橡胶条的顶部均设有斜角。

一种硅片清洗用干燥处理装置的处理方法，该处理方法包括以下步骤：

步骤一、硅片的放置：操作者将清洗后的硅片放置在支撑架上，随后将第一平板和第二平板放置进入箱体的内部；

步骤二、空气置换：第一平板和第二平板放置后，驱动装置带动第一平板和第二平板向下移动，移动至换气干燥装置的上部分区域时，自动开启换气干燥装置，换气干燥装置用氮气对第一平板和第二平板之间的空气进行置换；

步骤三、热风干燥处理：第一平板和第二平板移动至换气干燥装置的下部分区域时，换气干燥装置通过热风对支撑架上处于氮气环境中放置的硅片进行热风干燥，完成对硅片的干燥。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

1、本发明通过换气干燥装置的设置，使得硅片在上料过程中能够保持硅片附近的相对独立空间，使得硅片在进行高温干燥之前，自动对硅片周围的气体进行置换，将含有氧气的空气置换为不与硅片反应的氮气，随后再通过通入高温的氮气对硅片进行干燥，有利于避免通过高温气流对硅片进行干燥时与硅片的表面发生氧化反应，从而有利于避免硅片在干燥后表面氧化影响硅片的后期使用。

2、本发明通过自连通机构的设置，使得在第一平板通过通气管道后，通气管道自动关闭，有利于避免气流在第一平板和第二平板的外部流动造成无效工作，从而有利于针对硅片的移动位置进行适应性的调节，有利于提高硅片干燥的适应性，并且有利于避免无效工作造成的资源浪费。

3、本发明通过转动杆的设置，使得硅片在不断的传动的过程中与转动杆接触的部分不断的暴露，从而有利于避免水分残留在硅片与转动杆的接触处，从而有利于对硅片的充分干燥。

附图说明

图1为本发明的方法流程示意图；

图2为本发明的整体结构示意图；

图3为本发明的整体剖面后的结构示意图；

图4为本发明的图3中A处局部放大后的结构示意图；

图5为本发明的第一平板处剖面后的结构示意图；

图6为本发明的图5中B处局部放大后的结构示意图；

图7为本发明的图5中C处局部放大后的结构示意图；

图8为本发明的图5中D处局部放大后的结构示意图；

图9为本发明的橡胶垫处剖面后的结构示意图；

图10为本发明的图9中E处局部放大后的结构示意图；

图11为本发明的图9中F处局部放大后的结构示意图；

图12为本发明的箱体剖面后的结构示意图；

图13为本发明的箱体进一步剖面后的结构示意图；

图14为本发明的图13中G处局部放大后的结构示意图；

图15为本发明的图13中H处局部放大后的结构示意图；

图16为本发明的第一位置处剖面后的结构示意图；

图17为本发明的第二位置处剖面后的结构示意图；

图18为本发明的集水箱处剖面后的结构示意图。

图中：1、箱体；2、支撑腿；3、半圆槽；4、第一安装架；5、第二安装架；6、电机；7、第一齿轮；8、第二齿轮；9、转轴；10、第一螺杆；11、第二螺杆；12、第一平板；13、第二平板；14、橡胶垫；15、支撑架；16、把手；17、转动杆；1701、边缘转动杆；1702、中部转动杆；18、第三齿轮；19、同步链条；20、橡胶轮；21、支撑台；22、让位口；23、橡胶条；24、第一凹槽；25、第一伸缩块；26、第一弹簧；27、第一斜面；28、第二凹槽；29、第二弹簧；30、第二伸缩块；31、第二斜面；32、通气管道；33、第一连通管；3301、第一位置；3302、第二位置；3303、第三位置；34、固定框架；35、滑槽；36、连接条；37、移动框架；38、三角板；39、第三凹槽；40、第三伸缩块；41、第三弹簧；42、第二连通管；4201、第三连接段；4202、第四连接段；43、通风口；44、安装架；45、固定板；46、第二电机；47、风扇；48、橡胶层；49、氮气箱；50、冷凝管；51、连接通道；52、集水箱；53、热风机；54、框体；55、干燥剂箱；56、滑块；57、弧形块。

具体实施方式

以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。

如图1至图18所示的一种硅片清洗用干燥处理装置及其处理方法，包括箱体1，箱体1的底部固定安装有支撑腿2，箱体1的内部滑动设置有第一平板12和第二平板13，第一平板12位于第二平板13的上方，其特征在于，还包括：

橡胶层48，橡胶层48固定于箱体1的内壁上；

支撑架15，支撑架15固定连接于第一平板12和第二平板13之间；

弧形块57，两个弧形块57对称固定于第一平板12和第二平板13之间的两侧；

橡胶垫14，橡胶垫14固定套设于第一平板12和第二平板13的边缘；

把手16，两个把手16对称固定于第一平板12的顶部；

驱动装置，驱动装置安装于弧形块57与箱体1之间；

换气干燥装置，换气干燥装置安装于箱体1的侧壁上；

其中，驱动装置用于驱动弧形块57由箱体1的顶部向箱体1的底部移动，换气干燥装置用于在第一平板12和第二平板13放置在箱体1的内部后，对第一平板12和第二平板13之间的空气进行置换，并且在空气置换后对硅片进行干燥处理；工作时，现有技术中在对硅片进行干燥处理时，经常会通过热风来进行干燥，通过高温气流带走硅片上以及硅片缝隙里的液体，然而刚制备完毕的硅片外侧不够稳定，使得硅片在高温环境中容易与空气中的氧气发生氧化反应，从而影响硅片的下一步制备，而对硅片进行干燥时需要不断的进行硅片的上下料，使得硅片难以处于封闭的环境中，从而难以避免硅片与空气中氧气的反应，本发明的该实施例可以解决以上问题，具体实施方式如下，支撑腿2能够箱体1进行固定支撑，使得箱体1具有一定的高度，把手16能够方便操作者提起第一平板12进行移动，将第一平板12和第二平板13放置进入箱体1的内部后，第一平板12和第二平板13边缘的橡胶垫14与箱体1内壁的橡胶层48滑动接触后形成移动的密封层，使得第一平板12和第二平板13之间形成一个独立的空间，支撑架15能够连接固定第一平板12和第二平板13，同时支撑架15上能够放置需要干燥的硅片，弧形块57与第一平板12固定连接，并且能够与驱动装置配合，为驱动装置的驱动留有让位空间，使得驱动装置能够通过驱动弧形块57的移动带动第一平板12和第二平板13向下移动，第一平板12和第二平板13向下移动的过程中经过换气干燥装置，使得第一平板12和第二平板13之间留有的空间在经过换气干燥装置上半段时被置换为氮气，随后第一平板12和第二平板13继续移动至换气干燥装置的下半段，此时换气干燥装置对第一平板12和第二平板13之间的空间内部循环输送高温的氮气，通过高温气流对硅片进行干燥，因此，通过第一平板12和第二平板13之间形成的空间，使得硅片在上料过程中能够保持硅片附近的相对独立空间，使得硅片在进行高温干燥之前，自动对硅片周围的气体进行置换，将含有氧气的空气置换为不与硅片反应的氮气，随后再通过通入高温的氮气对硅片进行干燥，有利于避免通过高温气流对硅片进行干燥时与硅片的表面发生氧化反应，从而有利于避免硅片在干燥后表面氧化影响硅片的后期使用。

作为本发明的一种实施方式，驱动装置包括两个半圆槽3、两个第一安装架4和两个第二安装架5，两个半圆槽3对称开设于箱体1的两侧内壁上，两个第二安装架5对称固定于箱体1外壁的上方，两个第二安装架5的底部均通过螺钉固定有电机6，两个电机6的输出轴分别贯穿两个第二安装架5后固定有第一齿轮7，两个第一安装架4对称固定于箱体1的顶部，两个第一安装架4的底部均转动安装有第二齿轮8，第二齿轮8与相邻的第一齿轮7相啮合，两个第二齿轮8的底部均同轴固定有转轴9，转轴9位于半圆槽3的内部，转轴9的底部固定有第一螺杆10，第一螺杆10的底部固定有第二螺杆11，第二螺杆11的螺距小于第一螺杆10的螺距，两个弧形块57的内壁上均阵列固定有与第一螺杆10和第二螺杆11的螺纹面适配的滑块56，滑块56滑动接触在第一螺杆10的螺纹面上；工作时，半圆槽3为转轴9、第一螺杆10和第二螺杆11的转动安装留有空间，第一安装架4能够对第二齿轮8进行转动支撑安装，第二安装架5能够对电机6进行支撑安装，电机6启动后通过输出轴带动第一齿轮7转动，第一齿轮7转动后带动与之啮合的第二齿轮8转动，第二齿轮8转动后带动与之固定的转轴9转动，转轴9转动后带动第一螺杆10转动，第一螺杆10带动第二螺杆11转动，滑块56固定于弧形块57的内壁上，由于弧形块57与第一螺杆10、第二螺杆11固定连接，并且第一螺杆10和第二螺杆11滑动连接在箱体1的内部无法产生横向移动，从而使得滑块56不会产生横向移动，从而使得第一螺杆10和第二螺杆11转动时，第一螺杆10和第二螺杆11的螺纹驱动滑块56向下移动，滑块56带动弧形块57向下移动，从而驱动第一平板12和第二平板13保持密闭的状态向下移动逐渐通过换气干燥装置进行硅片的干燥。

作为本发明的一种实施方式，换气干燥装置包括多个通气管道32、通风口43、第一位置3301、第二位置3302和第三位置3303，第一位置3301、第二位置3302和第三位置3303分别分布在箱体1的两侧，第二位置3302和第三位置3303分别对称位于箱体1的两侧，箱体1的第二位置3302和第三位置3303均与多个线性阵列分布的通气管道32固定连通，箱体1的第一位置3301与一个通气管道32固定连通，第一位置3301位于第二位置3302的上方，全部通气管道32背向箱体1的一侧均固定连通有多个第一连通管33，通风口43贯穿开设于箱体1的侧壁上，通风口43与第一位置3301的第一连通管33位于同一水平高度，通风口43与第一位置3301的第一连通管33之间安装有换气机构，换气机构用于对第一平板12和第二平板13安装至箱体1内部时携带的空气进行更换，第二位置3302和第三位置3303相对的第一连通管33位于同一水平高度，第二位置3302和第三位置3303的第一连通管33之间安装有干燥机构，干燥机构用于通过高温气流对硅片进行干燥；工作时，第一平板12和第二平板13在经过与第一位置3301的第一连通管33相连的通气管道32位置时，换气机构打开通过通风口43带动气流的流动，第一位置3301能够连通外界的管道输入氮气，对第一平板12和第二平板13之间的空间内部进行空气的置换，使得第一平板12和第二平板13之间的空气被置换为氮气，从而使得硅片周围的气体被置换为不与硅片反应的氮气，有利于避免硅片与空气中的氧气产生氧化反应，随后第一平板12和第二平板13通过与第二位置3302和第三位置3303的第一连通管33连接的通气管道32位置时，干燥机构启动，对第一平板12和第二平板13之间的空间内部循环送入高温氮气，通过高温气流对硅片进行干燥处理，从而使得第一平板12和第二平板13在移动过程中首先对硅片周围的空气进行置换，置换完毕后通入高温气流，从而有利于在通过高温气流进行硅片干燥时避免硅片与空气中的氧气发生反应，从而有利于避免硅片表面氧化对后期的使用造成影响。

作为本发明的一种实施方式，换气机构包括安装架44，安装架44固定于箱体1的侧壁上并且位于通风口43外圈，安装架44的内部固定有固定板45，固定板45上阵列固定有多个第二电机46，第二电机46的输出轴贯穿固定板45后同轴固定有风扇47，风扇47位于安装架44的内部，第一位置3301的第一连通管33连通外部管道输入氮气，通气管道32的内部与第一平板12、第二平板13之间安装有自连通机构，自连通机构用于在第二平板13移动通过通气管道32时连通通气管道32，在第一平板12移动通过通气管道32时关闭通气管道32；工作时，第一平板12和第二平板13通过第一位置3301的水平面时自连通机构启动，使得与第一位置3301的第一连通管33相连通的第一位置3301的通气管道32内部连通，安装架44能够与通风口43连通并且对固定板45进行固定安装，固定板45能够对第二电机46进行固定安装，第二电机46启动后能够通过输出轴带动风扇47转动，风扇47转动后能够带动气流流动，使得第一平板12和第二平板13之间的空气被带动流动通过通风口43排出，同时氮气通过第一位置3301的第一连通管33后通过通气管道32输入至第一平板12和第二平板13之间，使得第一平板12和第二平板13之间的空气被置换为氮气，从而使得硅片周围的气体环境置换为氮气，避免硅片与空气中的氧气产生氧化反应，从而有利于在干燥过程中对硅片进行保护，有利于避免硅片在高温干燥时氧化对后期的使用造成影响，因此，实现了引流的作用，将气体进行置换。

作为本发明的一种实施方式，干燥机构包括第二连通管42，第二连通管42包括第三连接段4201和第四连接段4202，第三连接段4201与第三位置3303的第一连通管33固定连通，第四连接段4202与第二位置3302的第一连通管33固定连通，第三连接段4201与第四连接段4202之间共同固定连通有氮气箱49，氮气箱49的内部固定安装有热风机53，热风机53的输出端与第四连接段4202相连通，热风机53的进气端位于氮气箱49的内部，第四连接段4202的中部固定连通有框体54，框体54的顶部活动插设安装有干燥剂箱55，干燥剂箱55与全部第四连接段4202相连通，第三连接段4201的中部安装有冷凝机构，冷凝机构用于对通过箱体1内部后湿度增加的氮气进行冷凝除水，通气管道32的内部与第一平板12、第二平板13之间安装有自连通机构，自连通机构用于在第二平板13移动通过通气管道32时连通通气管道32，在第一平板12移动通过通气管道32时关闭通气管道32；工作时，在第一平板12和第二平板13经过第二位置3302和第三位置33031的第一连通管33所在平面时，自连通机构启动使得通气管道32连通，氮气箱49的内部储存有氮气，热风机53带动气体通过氮气箱49进入第四连接段4202的内部，由第四连接段4202的内部进入框体54，框体54的内部插设有干燥剂箱55，使得高温氮气经过干燥剂箱55后除去气流中的水分，随后干燥的气流由第四连接段4202的内部进入第二位置3302的第一连通管33的内部，随后通过通气管道32进入箱体1的内部的第一平板12和第二平板13之间，高温的氮气气流通过第一平板12和第二平板13之间时，对支撑架15上放置的硅片进行干燥，经过硅片后的气流通过与第三位置33031的第一连通管33连接的通气管道32，随后进入第三位置33031的第一连通管33的内部再进入第三连接段4201的内部，经过硅片的气流湿度增加，在经过第三连接段4201时，第三连接段4201中部安装的冷凝机构对气流进行冷凝降温，使得气流中含有的水蒸气被冷凝析出，从而降低气流中的水含量，随后气流重新进入氮气箱49的内部完成循环，从而使得氮气循环使用，有利于节约氮气避免资源耗费，并且通过流动的高温氮气对硅片进行干燥，避免硅片干燥过程中接触氧气，有利于避免硅片的氧化损耗，并且在高温氮气通过硅片后湿度增加时对气流进行冷凝除水，在高温氮气进入第一平板12和第二平板13之间之前对气流进行干燥，从而使得干燥的气流通过第一平板12和第二平板13之间时能够带走更多的水分，从而有利于提高对硅片干燥的效率。

作为本发明的一种实施方式，冷凝机构包括多个冷凝管50，全部冷凝管50分别固定套设于第三连接段4201的外部，相邻冷凝管50之间以及最下方冷凝管50的底部固定连通有连接通道51，连接通道51贯穿第三连接段4201的外壁后与第三连接段4201固定连通，最下方连接通道51的底部密封插设连通有集水箱52；工作时，冷凝管50处于低温的状态，对第三连接段4201进行持续的降温，使得第三连接段4201的内部温度降低，高温气流在通过第三连接段4201时，处于低温状态的第三连接段4201对通过的气流进行降温，气流温度降低后使得气流中含有的水分析出，析出的水分沿着连接通道51向下滴落随后被收集至集水箱52的内部，从而使得高温氮气通过硅片湿度增加后能够析出带走的水分，从而干扰有利于使得氮气的湿度降低，有利于氮气的循环使用。

作为本发明的一种实施方式，自连通机构包括两个固定框架34和四个支撑台21，两个固定框架34固定于通气管道32的内部，两个固定框架34之间滑动连接有移动框架37，移动框架37朝向箱体1内部的一侧对称固定有两个连接条36，与连接条36接触的固定框架34侧壁上贯穿开设有两个滑槽35，两个连接条36穿过滑槽35后共同固定有三角板38，三角板38滑动连接于通气管道32的内部，四个支撑台21上下对称固定于支撑架15的两侧，上方两个支撑台21的相背侧均开设有第三凹槽39，两个第三凹槽39的内部均滑动插设有第三伸缩块40，第三伸缩块40与第三凹槽39的内壁之间固定连接有第三弹簧41，下方两个支撑台21的相背侧均开设有第二凹槽28，两个第二凹槽28的内部滑动插设有第二伸缩块30，第二伸缩块30与第二凹槽28的内壁之间固定连接有第二弹簧29，第二伸缩块30与第三伸缩块40的底部均开设有第二斜面31，通气管道32朝向箱体1的一段内圈边缘设置有圆角；工作时，支撑台21能够开设第二凹槽28和第三凹槽39，为第二伸缩块30和第三伸缩块40的安装提供空间，第二凹槽28的内部能够进行第二伸缩块30的滑动安装，第二平板13通过通气管道32时，压缩的第二弹簧29通过自身的弹性力推动第二伸缩块30伸入通气管道32的内部，第二伸缩块30推动三角板38滑动，三角板38滑动后带动连接条36在滑槽35的内部滑动，连接条36滑动后带动移动框架37滑动，移动框架37滑动后与固定框架34产生相对移动，从而使得固定框架34与移动框架37的通口对齐，使得气流能够通过移动框架37和固定框架34，从而使得通气管道32的内部气流流通，随后第二伸缩块30下方的第二斜面31与通气管道32的边缘相抵，使得第二斜面31受到挤压后带动第二伸缩块30缩回第二凹槽28的内部，随后在第一平板12通过通气管道32时，压缩的第三弹簧41通过自身的弹性力推动第三伸缩块40伸入通气管道32的内部，第三伸缩块40推动三角板38反向滑动，三角板38滑动后带动连接条36在滑槽35的内部滑动，连接条36滑动后带动移动框架37滑动，移动框架37滑动后与固定框架34产生相对移动，从而使得固定框架34与移动框架37的通口错开，使得固定框架34与移动框架37将通气管道32堵塞，通气管道32内部的气流不流通，随后第三伸缩块40下方的第二斜面31与通气管道32的边缘相抵，使得第二斜面31受到挤压后带动第三伸缩块40缩回第三凹槽39的内部，从而使得只有在第二平板13通过通气管道32后，通气管道32连通，使得气流能够流经第一平板12和第二平板13之间，对第一平板12和第二平板13之间进行气体置换或高温干燥，在第一平板12通过通气管道32后，通气管道32自动关闭，有利于避免气流在第一平板12和第二平板13的外部流动造成无效工作，从而有利于针对硅片的移动位置进行适应性的调节，有利于提高硅片干燥的适应性，并且有利于避免无效工作造成的资源浪费。

作为本发明的一种实施方式，支撑架15的内部贯穿设置有安装口，安装口的内部阵列转动安装有若干转动杆17，转动杆17包括边缘转动杆1701和中部转动杆1702，全部转动杆17的一端均固定有第三齿轮18，全部第三齿轮18的外圈共同传动连接有同步链条19，两端边缘转动杆1701的端部同轴固定连接有橡胶轮20，支撑台21上开设有与橡胶轮20相对应的让位口22，箱体1两侧的内壁上固定有多个橡胶条23，两侧橡胶条23间隔设置；工作时，在对硅片进行干燥时，气流通过硅片的表面带走液体，然而硅片放置在支撑架15上与支撑架15的表面接触，使得硅片与支撑架15接触处气流难以通过带走液体，从而使得硅片的干燥不够彻底，本发明的该实施例可以解决以上问题，具体实施方式如下，第一平板12和第二平板13被驱动向下移动时，第一平板12和第二平板13带动橡胶轮20向下移动，第一凹槽24为橡胶条23的通过提供让位空间，橡胶轮20向下移动至与橡胶条23接触后，橡胶条23与橡胶轮20之间的摩擦力带动橡胶轮20转动，让位口22为橡胶轮20的转动进行让位，橡胶轮20转动后带动与之固定连接的边缘转动杆1701转动，边缘转动杆1701转动后带动与之固定连接的第三齿轮18转动，第三齿轮18带动与之传动连接的同步链条19传动，同步链条19传动后带动其余的第三齿轮18转动，使得第三齿轮18带动中部转动杆1702转动，从而使得转动杆17转动，转动杆17转动后对转动杆17上方放置的硅片进行传动，硅片传动后进行移动，使得硅片与转动杆17接触处露出，使得高温气流通过时能够对露出的硅片位置进行干燥，随后第一平板12和第二平板13带动橡胶轮20继续向下移动，通过对侧的橡胶条23，使得对侧的橡胶条23与对侧的橡胶轮20接触后带动橡胶轮20转动，从而带动转动杆17反向转动，使得硅片被反向传送，从而使得硅片在不断的传动的过程中与转动杆17接触的部分不断的暴露，从而有利于避免水分残留在硅片与转动杆17的接触处，从而有利于对硅片的充分干燥。

作为本发明的一种实施方式，支撑架15朝向橡胶条23的一侧上下位置均对称开设有第一凹槽24，第一凹槽24的内部滑动插设有第一伸缩块25，第一伸缩块25的侧面开设有空腔，第一伸缩块25的空腔内壁与第一凹槽24的内壁上共同固定连接有第一弹簧26，第一伸缩块25的底部设置有第一斜面27，全部橡胶条23的顶部均设有斜角；工作时，在通过橡胶条23与橡胶轮20的摩擦力带动转动杆17转动时，支撑架15的侧壁上留有供橡胶条23穿过的第一凹槽24，从而使得第一平板12和第二平板13之间的密封不彻底，使得空气存在由第一凹槽24进入第一平板12和第二平板13内部的情况，从而使得第一平板12和第二平板13内部依旧可能进入空气而产生氧化，本发明的该实施例可以解决以上问题，具体实施方式如下，第一平板12和第二平板13通过橡胶条23时，橡胶条23顶部的斜面与第一斜面27相抵，使得第一斜面27推动第一伸缩块25移动，使得第一伸缩块25推动第一弹簧26压缩后收回至第一凹槽24的内部为橡胶条23的通过进行让位，在通过橡胶条23后，压缩的第一弹簧26通过压缩的弹性力推动第一伸缩块25复位，使得第一伸缩块25复位后对第一凹槽24的内部进行填充，从而对使得第一凹槽24的内部密封，有利于避免空气的进入，从而使得第一平板12和第二平板13在通过橡胶条23时能够留有让位空间，在通过橡胶条23后，能够对第一凹槽24进行封堵，避免空气进入第一平板12和第二平板13之间，从而有利于避免空气中的氧气与硅片产生氧化反应对硅片的后期使用造成影响。

一种硅片清洗用干燥处理装置的处理方法，该处理方法包括以下步骤：

步骤一、硅片的放置：操作者将清洗后的硅片放置在支撑架15上，随后将第一平板12和第二平板13放置进入箱体1的内部；

步骤二、空气置换：第一平板12和第二平板13放置后，驱动装置带动第一平板12和第二平板13向下移动，移动至换气干燥装置的上部分区域时，自动开启换气干燥装置，换气干燥装置用氮气对第一平板12和第二平板13之间的空气进行置换；

步骤三、热风干燥处理：第一平板12和第二平板13移动至换气干燥装置的下部分区域时，换气干燥装置通过热风对支撑架15上处于氮气环境中放置的硅片进行热风干燥，完成对硅片的干燥。

本发明工作原理：现有技术中在对硅片进行干燥处理时，经常会通过热风来进行干燥，通过高温气流带走硅片上以及硅片缝隙里的液体，然而刚制备完毕的硅片外侧不够稳定，使得硅片在高温环境中容易与空气中的氧气发生氧化反应，从而影响硅片的下一步制备，而对硅片进行干燥时需要不断的进行硅片的上下料，使得硅片难以处于封闭的环境中，从而难以避免硅片与空气中氧气的反应，本发明的该实施例可以解决以上问题，具体实施方式如下，支撑腿2能够箱体1进行固定支撑，使得箱体1具有一定的高度，把手16能够方便操作者提起第一平板12进行移动，将第一平板12和第二平板13放置进入箱体1的内部后，第一平板12和第二平板13边缘的橡胶垫14与箱体1内壁的橡胶层48滑动接触后形成移动的密封层，使得第一平板12和第二平板13之间形成一个独立的空间，支撑架15能够连接固定第一平板12和第二平板13，同时支撑架15上能够放置需要干燥的硅片，弧形块57与第一平板12固定连接，并且能够与驱动装置配合，为驱动装置的驱动留有让位空间，使得驱动装置能够通过驱动弧形块57的移动带动第一平板12和第二平板13向下移动，第一平板12和第二平板13向下移动的过程中经过换气干燥装置，使得第一平板12和第二平板13之间留有的空间在经过换气干燥装置上半段时被置换为氮气，随后第一平板12和第二平板13继续移动至换气干燥装置的下半段，此时换气干燥装置对第一平板12和第二平板13之间的空间内部循环输送高温的氮气，通过高温气流对硅片进行干燥，因此，通过第一平板12和第二平板13之间形成的空间，使得硅片在上料过程中能够保持硅片附近的相对独立空间，使得硅片在进行高温干燥之前，自动对硅片周围的气体进行置换，将含有氧气的空气置换为不与硅片反应的氮气，随后再通过通入高温的氮气对硅片进行干燥，有利于避免通过高温气流对硅片进行干燥时与硅片的表面发生氧化反应，从而有利于避免硅片在干燥后表面氧化影响硅片的后期使用。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明的范围内，本发明要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。

Claims (9)

1.一种硅片清洗用干燥处理装置，包括箱体(1)，所述箱体(1)的底部固定安装有支撑腿(2)，所述箱体(1)的内部滑动设置有第一平板(12)和第二平板(13)，所述第一平板(12)位于所述第二平板(13)的上方，其特征在于，还包括：

橡胶层(48)，所述橡胶层(48)固定于所述箱体(1)的内壁上；

支撑架(15)，所述支撑架(15)固定连接于所述第一平板(12)和所述第二平板(13)之间；

弧形块(57)，两个所述弧形块(57)对称固定于所述第一平板(12)和所述第二平板(13)之间的两侧；

橡胶垫(14)，所述橡胶垫(14)固定套设于所述第一平板(12)和所述第二平板(13)的边缘；

把手(16)，两个所述把手(16)对称固定于所述第一平板(12)的顶部；

驱动装置，所述驱动装置安装于所述弧形块(57)与所述箱体(1)之间；

换气干燥装置，所述换气干燥装置安装于所述箱体(1)的侧壁上；

其中，所述驱动装置用于驱动所述弧形块(57)由所述箱体(1)的顶部向所述箱体(1)的底部移动，所述换气干燥装置用于在所述第一平板(12)和所述第二平板(13)放置在所述箱体(1)的内部后，对所述第一平板(12)和所述第二平板(13)之间的空气进行置换，并且在空气置换后对硅片进行干燥处理；

所述换气干燥装置包括多个通气管道(32)、通风口(43)、第一位置(3301)、第二位置(3302)和第三位置(3303)，所述第一位置(3301)、第二位置(3302)和第三位置(3303)分别分布在所述箱体(1)的两侧，所述第二位置(3302)和第三位置(3303)分别对称位于所述箱体(1)的两侧，所述箱体(1)的第二位置(3302)和第三位置(3303)均与多个线性阵列分布的所述通气管道(32)固定连通，所述箱体(1)的第一位置(3301)与一个所述通气管道(32)固定连通，所述第一位置(3301)位于所述第二位置(3302)的上方，全部所述通气管道(32)背向所述箱体(1)的一侧均固定连通有多个第一连通管(33)，所述通风口(43)贯穿开设于所述箱体(1)的侧壁上，所述通风口(43)与所述第一位置(3301)的所述第一连通管(33)位于同一水平高度，所述通风口(43)与所述第一位置(3301)的所述第一连通管(33)之间安装有换气机构，所述换气机构用于对所述第一平板(12)和所述第二平板(13)安装至所述箱体(1)内部时携带的空气进行更换，所述第二位置(3302)和所述第三位置(3303)相对的所述第一连通管(33)位于同一水平高度，所述第二位置(3302)和所述第三位置(3303)的所述第一连通管(33)之间安装有干燥机构，所述干燥机构用于通过高温气流对硅片进行干燥。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述驱动装置包括两个半圆槽(3)、两个第一安装架(4)和两个第二安装架(5)，两个所述半圆槽(3)对称开设于所述箱体(1)的两侧内壁上，两个所述第二安装架(5)对称固定于所述箱体(1)外壁的上方，两个所述第二安装架(5)的底部均通过螺钉固定有电机(6)，两个所述电机(6)的输出轴分别贯穿两个所述第二安装架(5)后固定有第一齿轮(7)，两个所述第一安装架(4)对称固定于所述箱体(1)的顶部，两个所述第一安装架(4)的底部均转动安装有第二齿轮(8)，所述第二齿轮(8)与相邻的所述第一齿轮(7)相啮合，两个所述第二齿轮(8)的底部均同轴固定有转轴(9)，所述转轴(9)位于所述半圆槽(3)的内部，所述转轴(9)的底部固定有第一螺杆(10)，所述第一螺杆(10)的底部固定有第二螺杆(11)，所述第二螺杆(11)的螺距小于所述第一螺杆(10)的螺距，两个所述弧形块(57)的内壁上均阵列固定有与所述第一螺杆(10)和所述第二螺杆(11)的螺纹面适配的滑块(56)，所述滑块(56)滑动接触在所述第一螺杆(10)的螺纹面上。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述换气机构包括安装架(44)，所述安装架(44)固定于所述箱体(1)的侧壁上并且位于所述通风口(43)外圈，所述安装架(44)的内部固定有固定板(45)，所述固定板(45)上阵列固定有多个第二电机(46)，所述第二电机(46)的输出轴贯穿所述固定板(45)后同轴固定有风扇(47)，所述风扇(47)位于所述安装架(44)的内部，所述第一位置(3301)的所述第一连通管(33)连通外部管道输入氮气，所述通气管道(32)的内部与所述第一平板(12)、所述第二平板(13)之间安装有自连通机构，所述自连通机构用于在所述第二平板(13)移动通过所述通气管道(32)时连通所述通气管道(32)，在所述第一平板(12)移动通过所述通气管道(32)时关闭所述通气管道(32)。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述干燥机构包括第二连通管(42)，所述第二连通管(42)包括第三连接段(4201)和第四连接段(4202)，所述第三连接段(4201)与所述第三位置(3303)的所述第一连通管(33)固定连通，所述第四连接段(4202)与所述第二位置(3302)的所述第一连通管(33)固定连通，所述第三连接段(4201)与所述第四连接段(4202)之间共同固定连通有氮气箱(49)，所述氮气箱(49)的内部固定安装有热风机(53)，所述热风机(53)的输出端与所述第四连接段(4202)相连通，所述热风机(53)的进气端位于所述氮气箱(49)的内部，所述第四连接段(4202)的中部固定连通有框体(54)，所述框体(54)的顶部活动插设安装有干燥剂箱(55)，所述干燥剂箱(55)与全部所述第四连接段(4202)相连通，所述第三连接段(4201)的中部安装有冷凝机构，所述冷凝机构用于对通过所述箱体(1)内部后湿度增加的氮气进行冷凝除水，所述通气管道(32)的内部与所述第一平板(12)、所述第二平板(13)之间安装有自连通机构，所述自连通机构用于在所述第二平板(13)移动通过所述通气管道(32)时连通所述通气管道(32)，在所述第一平板(12)移动通过所述通气管道(32)时关闭所述通气管道(32)。

5.根据权利要求4所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述冷凝机构包括多个冷凝管(50)，全部所述冷凝管(50)分别固定套设于所述第三连接段(4201)的外部，相邻所述冷凝管(50)之间以及最下方所述冷凝管(50)的底部固定连通有连接通道(51)，所述连接通道(51)贯穿所述第三连接段(4201)的外壁后与所述第三连接段(4201)固定连通，最下方所述连接通道(51)的底部密封插设连通有集水箱(52)。

6.根据权利要求3或4所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述自连通机构包括两个固定框架(34)和四个支撑台(21)，两个所述固定框架(34)固定于所述通气管道(32)的内部，两个所述固定框架(34)之间滑动连接有移动框架(37)，所述移动框架(37)朝向所述箱体(1)内部的一侧对称固定有两个连接条(36)，与所述连接条(36)接触的所述固定框架(34)侧壁上贯穿开设有两个滑槽(35)，两个所述连接条(36)穿过所述滑槽(35)后共同固定有三角板(38)，所述三角板(38)滑动连接于所述通气管道(32)的内部，四个所述支撑台(21)上下对称固定于所述支撑架(15)的两侧，上方两个所述支撑台(21)的相背侧均开设有第三凹槽(39)，两个所述第三凹槽(39)的内部均滑动插设有第三伸缩块(40)，所述第三伸缩块(40)与所述第三凹槽(39)的内壁之间固定连接有第三弹簧(41)，下方两个所述支撑台(21)的相背侧均开设有第二凹槽(28)，两个所述第二凹槽(28)的内部滑动插设有第二伸缩块(30)，所述第二伸缩块(30)与所述第二凹槽(28)的内壁之间固定连接有第二弹簧(29)，所述第二伸缩块(30)与所述第三伸缩块(40)的底部均开设有第二斜面(31)，所述通气管道(32)朝向所述箱体(1)的一段内圈边缘设置有圆角。

7.根据权利要求6所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述支撑架(15)的内部贯穿设置有安装口，所述安装口的内部阵列转动安装有若干转动杆(17)，所述转动杆(17)包括边缘转动杆(1701)和中部转动杆(1702)，全部所述转动杆(17)的一端均固定有第三齿轮(18)，全部所述第三齿轮(18)的外圈共同传动连接有同步链条(19)，两端所述边缘转动杆(1701)的端部同轴固定连接有橡胶轮(20)，所述支撑台(21)上开设有与所述橡胶轮(20)相对应的让位口(22)，所述箱体(1)两侧的内壁上固定有多个橡胶条(23)，两侧所述橡胶条(23)间隔设置。

8.根据权利要求7所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，所述支撑架(15)朝向所述橡胶条(23)的一侧上下位置均对称开设有第一凹槽(24)，所述第一凹槽(24)的内部滑动插设有第一伸缩块(25)，所述第一伸缩块(25)的侧面开设有空腔，所述第一伸缩块(25)的空腔内壁与所述第一凹槽(24)的内壁上共同固定连接有第一弹簧(26)，所述第一伸缩块(25)的底部设置有第一斜面(27)，全部所述橡胶条(23)的顶部均设有斜角。

9.一种硅片清洗用干燥处理装置的处理方法，适用于权利要求1-8任意一项所述的一种硅片清洗用干燥处理装置，其特征在于，该处理方法包括以下步骤：

步骤一、硅片的放置：操作者将清洗后的硅片放置在支撑架(15)上，随后将第一平板(12)和第二平板(13)放置进入箱体(1)的内部；

步骤二、空气置换：第一平板(12)和第二平板(13)放置后，驱动装置带动第一平板(12)和第二平板(13)向下移动，移动至换气干燥装置的上部分区域时，自动开启换气干燥装置，换气干燥装置用氮气对第一平板(12)和第二平板(13)之间的空气进行置换；

步骤三、热风干燥处理：第一平板(12)和第二平板(13)移动至换气干燥装置的下部分区域时，换气干燥装置通过热风对支撑架(15)上处于氮气环境中放置的硅片进行热风干燥，完成对硅片的干燥。

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